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本实用新型公开了一种MOCVD设备的反应装置及MOCVD设备，该反应装置包括基片载板和光源加热器，所述光源加热器设置在所述基片载板的下方，其中，所述反应装置还包括：承载部，在反应加热时所述承载部与所述基片载板共同形成封闭空间，所述光源加热器...
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