一种化学水浴沉积装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术提供一种化学水浴沉积装置，包括：水浴锅；加热丝，环绕水浴锅的内侧壁设置或环绕水浴锅的内侧壁和底部设置。可见，本实用新型专利技术实施例将加热丝的加热方式由底部加热方式改进为了四周环形加热方式，或在加热丝的现有加热方式的基础上增加了四周环形加热方式，这样一方面能够增大加热面积，另一方面能够保证水浴锅的不同高度处的温度均匀性。由于加热面积的增大，本实用新型专利技术实施例中的水浴加热速度能够得到提升，这样能够提高薄膜沉积效率。由于不同高度处的温度均匀性得到保证，本实用新型专利技术实施例能够避免不同高度处的温差过大而对薄膜沉积过程造成不良的影响，以为薄膜材料的沉积创造一个更良好的外部水浴环境，从而提高沉积的薄膜质量。

A Chemical Water Bath Deposition Device

The utility model provides a chemical water bath deposition device, which comprises a water bath pot, a heating wire, an inner side wall surrounding the water bath pot or an inner side wall and a bottom setting surrounding the water bath pot. It can be seen that in the embodiment of the utility model, the heating mode of the heating wire is improved from the bottom heating mode to the circumferential ring heating mode, or the circumferential ring heating mode is added on the basis of the existing heating mode of the heating wire, so that on the one hand, the heating area can be increased, on the other hand, the temperature uniformity at different heights of the water bath pot can be ensured. Because of the increase of heating area, the water bath heating speed in the embodiment of the utility model can be improved, so that the film deposition efficiency can be improved. Because the uniformity of temperature at different heights is guaranteed, the embodiment of the utility model can avoid the excessive temperature difference at different heights and cause adverse effects on the film deposition process, so as to create a better external water bath environment for the deposition of the film material, thereby improving the quality of the deposited film.

【技术实现步骤摘要】
一种化学水浴沉积装置
本技术涉及薄膜材料制备
，尤其涉及一种化学水浴沉积装置。
技术介绍
目前，薄膜材料的使用越来越普遍，薄膜材料存在多种制备方法，例如磁控溅射法、丝网印刷法、热蒸发法、电沉积法，以及化学水浴沉积法(ChemicalBathDeposition，简称为CBD)等。在上述各种方法中，化学水浴沉积法由于属于非真空制备法，且具备沉积装置结构简单、沉积温度低、能耗小等优点而受到了科研界和产业界的广泛青睐。然而，目前的化学水浴沉积装置中的水浴锅的加热速度非常慢，水浴锅通常需要加热非常长的时间后才能达到预定温度，同时水浴锅的不同高度处的温度分布不均匀，这样会严重影响薄膜沉积效率和质量。
技术实现思路
本技术实施例提供一种化学水浴沉积装置，可以缩短化学水浴沉积装置中的水浴锅加热时间，确保水浴锅不同高度的温度分布均匀，提高沉积的薄膜质量。本技术实施例提供一种化学水浴沉积装置，包括：水浴锅；加热丝，所述加热丝环绕所述水浴锅的内侧壁设置；或所述加热丝环绕所述水浴锅的内侧壁和底部设置。可选地，所述化学水浴沉积装置还包括：第一搅拌件，所述第一搅拌件转动设置于所述水浴锅的底部，所述第一搅拌件在工本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种化学水浴沉积装置，其特征在于，包括：水浴锅；加热丝，所述加热丝环绕所述水浴锅的内侧壁设置；或所述加热丝环绕所述水浴锅的内侧壁和底部设置。

【技术特征摘要】
1.一种化学水浴沉积装置，其特征在于，包括：水浴锅；加热丝，所述加热丝环绕所述水浴锅的内侧壁设置；或所述加热丝环绕所述水浴锅的内侧壁和底部设置。2.根据权利要求1所述的化学水浴沉积装置，其特征在于，所述化学水浴沉积装置还包括：第一搅拌件，所述第一搅拌件转动设置于所述水浴锅的底部，所述第一搅拌件在工作状态下进行转动。3.根据权利要求2所述的化学水浴沉积装置，其特征在于，所述水浴锅的底部的中心区域设置有一个所述第一搅拌件；和/或，所述水浴锅的底部的非中心区域设置有一个及以上所述第一搅拌件。4.根据权利要求3所述的化学水浴沉积装置，其特征在于，在所述水浴锅的底部的非中心区域设置有一个以上所述第一搅拌件的情况下，一个以上所述第一搅拌件相对于所述水浴锅的底部的中心区域呈以下至少一种形状分布：辐射状、中心对称、圆形、椭圆形、三角形、多边形、十字形，同心正方形、同心长方形、同心圆、同心三角形和其他同心多边形。5.根据权利要求2所述的化学水浴沉积装置，其特征在于，所述水浴锅的底部开设有第一凹槽；所述第一搅拌件设置于所述第一凹槽内。6.根据权利要求2所述的化学水浴沉积装置，其特征在于，所述第一搅拌件包括：主体，所述主体转动设置于所述水浴锅的底部，所述主体沿外圆周面的周向间隔设置有第一连接部和第二连接部；第一扇叶，所述第一扇叶与所述第一连接部固定连接；第二扇叶，所述第二扇叶与所述第二连接部固定连接。7.根据权利要求2所述的化学水浴沉积装置，其特征在于，所述化学水浴沉积装置还包括：第一转速旋钮，所述第一转速旋钮用于调节所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：张冲，王雪戈，
申请(专利权)人：北京铂阳顶荣光伏科技有限公司，
类型：新型
国别省市：北京,11