等温自动补偿式液位调节水浴锅制造技术

本发明专利技术涉及一种等温自动补偿式液位调节水浴锅，包括水浴锅主体、用于控制水浴锅水浴区温度的第一温度控制器以及补水箱、第一液位控制器(1)、第二液位控制器(2)和第二温度控制器，水浴锅主体置于补水箱内，在补水箱内壁与水浴锅主体外壁之间为液位补水区(7)，所述的第一液位控制器(1)位于水浴锅主体靠下的部位，用于在水浴锅水浴区(6)液位过低时控制进水，所述的第二液位控制器(2)位于补水箱靠上的部位，用于在液位补水区7液位过低时控制进水，所述的第二温度控制器用于控制液位补水区(7)的温度，使其与水浴锅水浴区(6)的温度一致。本发明专利技术可以实现无人看守自动化补水(相同水温的水)功能。

Isothermal automatic compensation type liquid level regulating water bath pot

The invention relates to a temperature automatic compensation type liquid level adjustment water bath, including water bath for the first main body, the temperature controller controls the bath water bath temperature and water supply tank, the first level controller (1), second (2) and second level controller, temperature controller, water bath pot body is placed into the water supplement tank, fill the tank wall in between with the bath body outer wall water level area (7), the first level controller (1) is located in the bath on the main site, used in a water bath bath area (6) when the control water level is too low, the second level controller (2) is located on the water box for parts the water level control in water area 7 level low, second of the temperature controller is used to control the water level area (7) the temperature of the water bath and bath area (6) uniform temperature. The invention can realize the function of automatic water supply (the same water temperature of the same water temperature).

【技术实现步骤摘要】

：本专利技术属于实验室小型设备领域，涉及一种水浴锅液位的自动补偿功能。
技术介绍
：水浴锅是实验室里经常用到的小型设备，它能提供均匀稳定的温度，因此许多化学反应需要在水浴锅里进行。主要用于实验室中蒸馏，干燥，浓缩，及温渍化学药品或生物制品，也可用于恒温加热和其它温度试验，是生物、遗传、病毒、水产、环保、医药、卫生、化验室、分析室、教育科研的必备工具。在实验中，通常把化学物质首先放在一个容器里，然后再把该容器放入水浴锅内的水中，要求把盛有化学物质的部分完全浸入水中，以获得均匀稳定的温度，使化学反应顺利进行。但是目前的水浴锅只有温度自动调节功能，没有液位的自动补偿功能，这是它的主要缺陷。因为随着锅内水分的蒸发，液位必然要下降，这就使得放入其中的化学反应物质不能始终浸在水浴环境中，这样对化学反应的影响很大，使化学反应进行得不完全，严重影响科研效果。所以在使用过程中，有时需要人为加水，但是加水的温度往往与水浴锅内的水温不一致，这样又会造成化学反应暂停或发生其他副反应。
技术实现思路
：本专利技术目的是克服现有技术的上述不足，提供给一种可以实现无人看守自动化补水相同水温的水功能的水浴锅。本专利技术的技术效果如下：一种等温自动补偿式液位调节水浴锅，包括水浴锅主体、用于控制水浴锅水浴区温度的第一温度控制器，其特征在于，所述的等温自动补偿式液位调节水浴锅还包括补水箱、第一液位控制器1、第二液位控制器2和第二温度控制器，水浴锅主体置于补水箱内，在补水箱内壁与水浴锅主体外壁之间为液位补水区7，所述的第一液位控制器1位于水浴锅主体靠下的部位，用于在水浴锅水浴区6液位过低时控制进水，所述的第二液位控制器2位于补水箱靠上的部位，用于在液位补水区7液位过低时控制进水，所述的第二温度控制器用于控制液位补水区7的温度，使其与水浴锅水浴区6的温度一致。在补水箱上部最好设置有溢流口。本专利技术在原水浴锅的外面加上了补水箱，并添加了2个液位控制器和一个温度控制器，当原水浴锅中的液位低于设定液位后，可以自动从补水箱将恒温的水补充进水浴锅内。当补水箱内水位下降时，可以自动补水，从而可以实现无人看守自动化补水(相同水温的水)功能。附图说明图1等温自动补偿式液位调节水浴锅示意图1—液位控制器12—液位控制器23—排水阀门4—温度控制面板5—液位控制面板6—水浴锅水浴区7—液位补水区8—溢流口具体实施方式本专利技术水浴锅，对原先的水浴锅进行改进，将其置于补水箱内，包括两套自动加热系统、两套液位补偿系统、进水系统、排水阀门3和溢流口8。自动加热系统是由两个温度控制器自动控制，分别控制水浴锅内的水温和液位补偿系统里的水温；自动液位补偿系统是由两个液位控制器自动控制，分别控制水浴锅内的液位和液位补偿系统里的液位，其中补偿系统的液位控制器1安装在靠上部位，水浴锅里的液位控制器2安装在靠下的部位；进水系统是由两个液位控制器组成，当液位低时，进水系统自动进水；排水阀门3，当液位高时，通过它可以放出多余的水量；当补偿系统里的水受热膨胀时，水由溢流口8流出。下面结合附图1说明该水浴锅的工作过程：(1)首先插好电源，连接好进水管路，关闭排水阀门。(2)在显示面板上，设定液位控制器1(补偿系统)和液位控制器2(水浴锅)的液位数值，打开水龙头向水浴锅内注水。水首先进入补偿系统，由补偿系统再进入水浴锅内，当达到设定值时自动停止进水。补偿系统的液位要高于水浴锅的液位。(3)在显示面板上，设定第一温度控制器(水浴锅)和第二温度控制器(补偿系统)的温度，升温程序开始，当达到设定值时自动停止加热。一般设置相同的温度。(4)当水温达到要求时，放入装有化学物质的容器，这时水浴锅内的液位会升高，打开排水阀门调整适当水位后，关闭阀门。(5)水浴锅开始工作，无需人员看守。本专利技术由于采用以上技术方案，具有以下优点：(1)针对目前水浴锅在使用过程中液位下降的问题，本专利技术增加液位自动补偿功能，使水浴锅中的液位始终保持一致；(2)针对目前水浴锅人为补水时，水温不一致，严重影响化学反应进行的问题，本专利技术增加了带自动加热的液位补偿系统，可以解决这种问题；(3)在水浴锅四周建立带自动加热的液位补偿系统，即可以补偿水分又可以对水浴锅进行保温，为水浴锅提供一个更加稳定的水浴环境，有利于化学反应进行彻底。(4)这种新型水浴锅在工作过程中，自动进行，无需人员看守，简单易操作，提高工作效率。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种等温自动补偿式液位调节水浴锅，包括水浴锅主体、用于控制水浴锅水浴区温度的第一温度控制器。其特征在于，所述的等温自动补偿式液位调节水浴锅还包括补水箱、第一液位控制器(1)、第二液位控制器(2)和第二温度控制器，水浴锅主体置于补水箱内，在补水箱内壁与水浴锅主体外壁之间为液位补水区(7)，所述的第一液位控制器(1)位于水浴锅主体靠下的部位，用于在水浴锅水浴区(6)液位过低时控制进水，所述的第二液位控制器(2)位于补水箱靠上的部位，用于在液位补水区7液位过低时控制进水，所述的第二温度控制器用于控制液位补水区(7)的温度，使其与水浴锅水浴区(6)的温度一致。

【技术特征摘要】
1.一种等温自动补偿式液位调节水浴锅，包括水浴锅主体、用于控制水浴锅水浴区温度的第一温度控
制器。其特征在于，所述的等温自动补偿式液位调节水浴锅还包括补水箱、第一液位控制器(1)、第二液
位控制器(2)和第二温度控制器，水浴锅主体置于补水箱内，在补水箱内壁与水浴锅主体外壁之间为液
位补水区(7)，所述的第一液位控制器(1)位于水浴锅主体靠...

【专利技术属性】
技术研发人员：丁冬梅，杨华，张赞，王斌，尹彦勋，张玉慧，
申请(专利权)人：天津市环境监测中心，
类型：发明
国别省市：天津;12