电磁屏蔽保护壳、探测组件及探测器制造技术

本发明专利技术实施例公开了一种电磁屏蔽保护壳、探测组件及探测器。其中，电磁屏蔽保护壳包括：支撑单元，支撑单元设置有第一开口，第一开口为被屏蔽单元进入支撑单元的第一容纳空间的入口；封闭单元，封闭单元设置有第二开口，第二开口为支撑单元进入封闭单元的第二容纳空间的入口，第二开口与第一开口错开设置；支撑单元与封闭单元抽拉连接，封闭单元覆盖第一开口的面积随封闭单元相对于支撑单元沿抽拉方向的移动而改变。本发明专利技术实施例提供的技术方案可以提高电磁屏蔽性能，保证电子设备既不干扰其它设备，同时也不受其它设备的影响。

【技术实现步骤摘要】
电磁屏蔽保护壳、探测组件及探测器
本专利技术涉及电磁屏蔽
，尤其涉及一种电磁屏蔽保护壳、探测组件及探测器。
技术介绍
电磁波是电磁能量传播的主要方式。高频电路工作时，会向外辐射电磁波，对邻近的其它电子设备产生干扰。空间的各种电磁波也会感应到电路中，对电路造成干扰。例如，PET/MR一体机是将正电子发射断层成像系统和磁共振成像系统有机组合在同一个机架内的仪器，其实现了不同影像模式的空间和时间上的精确配准和融合。这一成像技术的应用实现了分子功能成像和精细的解剖结构同步采集，能够提供多模态分子影像信息，在临床应用及科研领域均具有重要价值。但是，在PET/MR系统中，PET和MR的电磁兼容是整个系统最重要的难点之一，正电子发射断层成像系统的探测器容易受磁共振成像系统的电磁信号的影响，使得正电子发射断层成像系统的成像质量降低。故需要设置电磁屏蔽保护措施来切断电磁波的传播途径，从而消除电磁干扰，以使电子设备既不干扰其它设备，同时也不受其它设备的影响。
技术实现思路
本专利技术实施例提供一种电磁屏蔽保护壳、探测组件及探测器，以提高电磁屏蔽性能，保证电子设备既不干扰其它设备，同时也不受其它设备的影响。第一方面，本专利技术实施例提供了一种电磁屏蔽保护壳，包括：支撑单元，支撑单元设置有第一开口，第一开口为被屏蔽单元进入支撑单元的第一容纳空间的入口；封闭单元，封闭单元设置有第二开口，第二开口为支撑单元进入封闭单元的第二容纳空间的入口，第二开口与第一开口错开设置；支撑单元与封闭单元抽拉连接，封闭单元覆盖第一开口的面积随封闭单元相对于支撑单元沿抽拉方向的移动而改变。进一步地，封闭单元包括封闭部分和抽拉连接部分，封闭部分覆盖第一开口的面积随封闭单元相对于支撑单元沿抽拉方向的移动而改变，抽拉连接部分覆盖支撑单元的位于第一开口的相对的两侧，以及支撑单元的与第一开口相对的一侧。进一步地，支撑单元和封闭单元呈长方体形。进一步地，支撑单元和封闭单元的材料包括下述至少一种：铜和碳纤维。进一步地，封闭单元靠近第二开口的边缘区域，以及支撑单元用于覆盖第二开口的部分的边缘区域设置有软磁材料。第二方面，本专利技术实施例还提供了一种探测组件，包括：探测单元和本专利技术任意实施例提供的电磁屏蔽保护壳，探测单元为被屏蔽单元。进一步地，探测单元包括晶体结构和两个定位端块，两个定位端块设置于晶体结构的两端。进一步地，探测单元还包括冷却层和两个印刷电路板，晶体结构与印刷电路板电连接，晶体结构、印刷电路板和冷却层层叠排列；冷却层位于两个印刷电路板之间，晶体结构位于印刷电路板远离冷却层的一侧；印刷电路板用于接收并处理晶体结构探测到的光子信号；支撑单元和/或封闭单元设置有开孔，冷却层的入口和出口设置的管道穿过开孔分别与循环动力装置的出口和进口连通。第三方面，本专利技术实施例还提供了一种探测器，包括多个本专利技术任意实施例提供的探测组件。进一步地，还包括环形支架，多个探测组件设置在环形支架上，多个探测组件沿环形支架的圆周方向依次排列。本专利技术实施例的技术方案通过将支撑单元和封闭单元设置为抽拉连接，第二开口与第一开口错开设置，封闭单元覆盖第一开口的面积随封闭单元相对于支撑单元沿抽拉方向的移动而改变，支撑单元和封闭单元组装形成的电磁屏蔽的封闭空间，接缝处严密贴合，接缝处重叠面积较大，产生的缝隙较小，可以减小电磁泄漏，提高电磁屏蔽的效率，可以解决将相对的上下两部分罩壳通过螺钉连接形成电磁屏蔽保护壳时，在上下两部分罩壳相对接触的位置，会产生很长的直线缝隙，造成电磁泄漏，影响屏蔽效率的问题，且抽拉式结构的电磁屏蔽保护壳组装方便。附图说明图1为本专利技术实施例提供的一种电磁屏蔽保护壳的爆炸图；图2为本专利技术实施例提供的一种处于抽拉过程中的电磁屏蔽保护壳的结构示意图；图3为本专利技术实施例提供的一种电磁屏蔽保护壳沿图2中BB＇方向的俯视图；图4为本专利技术实施例提供的一种处于完全封闭状态的电磁屏蔽保护壳的结构示意图；图5为本专利技术实施例提供的又一种电磁屏蔽保护壳的结构示意图；图6为本专利技术实施例提供的又一种电磁屏蔽保护壳的爆炸图；图7为本专利技术实施例提供的一种探测单元放入支撑单元的结构示意图；图8为本专利技术实施例提供的一种探测组件的结构示意图；图9为本专利技术实施例提供的一种探测组件的爆炸图；图10为本专利技术实施例提供的又一种电磁屏蔽保护壳的结构示意图；图11为本专利技术实施例提供的一种探测器的结构示意图；图12为本专利技术实施例提供的又一种探测器的结构示意图。具体实施方式下面结合附图和实施例对本专利技术作进一步的详细说明。可以理解的是，此处所描述的具体实施例仅仅用于解释本专利技术，而非对本专利技术的限定。另外还需要说明的是，为了便于描述，附图中仅示出了与本专利技术相关的部分而非全部结构。本专利技术实施例提供一种电磁屏蔽保护壳。图1为本专利技术实施例提供的一种电磁屏蔽保护壳的爆炸图。图2为本专利技术实施例提供的一种处于抽拉过程中的电磁屏蔽保护壳的结构示意图。图3为本专利技术实施例提供的一种电磁屏蔽保护壳沿图2中BB＇方向的俯视图。图4为本专利技术实施例提供的一种处于完全封闭状态时的电磁屏蔽保护壳的结构示意图。结合图1至图4所示，该电磁屏蔽保护壳包括：支撑单元110和封闭单元120。其中，支撑单元110设置有第一开口111，第一开口111为被屏蔽单元进入支撑单元110的第一容纳空间112的入口；封闭单元120设置有第二开口121，第二开口121为支撑单元110进入封闭单元120的第二容纳空间122的入口，第二开口121与第一开口111错开设置；支撑单元110与封闭单元120为抽拉连接，封闭单元120覆盖第一开口111的面积随封闭单元120相对于支撑单元110沿抽拉方向AA＇的移动而改变。其中，被屏蔽单元可以是任何需要设置电磁屏蔽保护的电子装置，例如可以是用于正电子发射断层成像(PositronEmissionComputedTomography，PET)的探测单元，电磁屏蔽保护壳可屏蔽磁共振成像系统(MagneticResonanceImaging，MRI)发出的射频信号，保护正电子发射断层成像系统中探测器内部电路的信号完整性。被屏蔽单元还可以是磁共振成像系统中的电子元件。支撑单元110的材料可以包括下述至少一种：铝、铜和碳纤维。封闭单元120的材料可包括下述至少一种：铝、铜和碳纤维。支撑单元110和封闭单元120之间可以是可拆卸连接或不可拆卸连接。可选的，第二开口121小于第一开口111。将封闭单元120沿抽拉方向AA＇抽拉至完全覆盖第一开口111时，第二开口121与第一开口111错开设置，没有重合区域。可选的，支撑单元110与封闭单元120可通过抽拉连接结构抽拉连接。该抽拉连接结构可设置于支撑单元的位于第一开口的相对的两侧。可选的，封闭单元120可以是长方体形或圆柱形，封闭单元120还可以是正方体形。支撑单元110与封闭单元120的形状相同或类似。可根据需要设置支撑单元110和封闭单元120的形状，以及第一开口111和第二开口121的形状和位置，本专利技术实施例对此不作限定。将封闭单元120沿抽拉方向AA＇抽拉至第一开口111未被封闭单元120覆盖的位置，可将被屏蔽单元经第一开口111放置于支撑单元110的第一容纳空间112，再将封闭单元120沿抽拉方向AA＇抽拉至封本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种电磁屏蔽保护壳，其特征在于，包括：支撑单元，所述支撑单元设置有第一开口，所述第一开口为被屏蔽单元进入所述支撑单元的第一容纳空间的入口；封闭单元，所述封闭单元设置有第二开口，所述第二开口为所述支撑单元进入所述封闭单元的第二容纳空间的入口，所述第二开口与所述第一开口错开设置；所述支撑单元与所述封闭单元抽拉连接，所述封闭单元覆盖所述第一开口的面积随所述封闭单元相对于所述支撑单元沿抽拉方向的移动而改变。

【技术特征摘要】
1.一种电磁屏蔽保护壳，其特征在于，包括：支撑单元，所述支撑单元设置有第一开口，所述第一开口为被屏蔽单元进入所述支撑单元的第一容纳空间的入口；封闭单元，所述封闭单元设置有第二开口，所述第二开口为所述支撑单元进入所述封闭单元的第二容纳空间的入口，所述第二开口与所述第一开口错开设置；所述支撑单元与所述封闭单元抽拉连接，所述封闭单元覆盖所述第一开口的面积随所述封闭单元相对于所述支撑单元沿抽拉方向的移动而改变。2.根据权利要求1所述的电磁屏蔽保护壳，其特征在于，所述封闭单元包括封闭部分和抽拉连接部分，所述封闭部分覆盖所述第一开口的面积随所述封闭单元相对于所述支撑单元沿抽拉方向的移动而改变，所述抽拉连接部分覆盖所述支撑单元的位于第一开口的相对的两侧，以及所述支撑单元的与所述第一开口相对的一侧。3.根据权利要求1所述的电磁屏蔽保护壳，其特征在于，所述支撑单元和所述封闭单元呈长方体形。4.根据权利要求1所述的电磁屏蔽保护壳，其特征在于，所述支撑单元和所述封闭单元的材料包括下述至少一种：铜和碳纤维。5.根据权利要求1所述的电磁屏蔽保护壳，其特征在于，所述封闭单元靠近所述第二开口的边缘...

【专利技术属性】
技术研发人员：郑家煦，曹拓宇，吴光河，胡凌志，
申请(专利权)人：上海联影医疗科技有限公司，
类型：发明
国别省市：上海,31