排气式矩形工作台制造技术

技术编号:21418234 阅读:42 留言:0更新日期:2019-06-22 08:32
本实用新型专利技术公开了一种排气式矩形工作台,包括工作台本体,所述工作台本体的横截面呈矩形状,工作台本体中开有若干第一轴向排气槽及第二轴向排气槽,第一轴向排气槽与第二轴向排气槽相互垂直交叉,工作台本体上开有一排气孔及多个放电通气孔,排气孔、多个放电通气孔均分别设置于第一轴向排气槽与第二轴向排气槽交叉处,工作台本体的中部设有连接头,连接头上设有多个通孔,通孔与放电通气孔相贯通。本实用新型专利技术工作台本体中的连接头与抽气装置连接,抽气装置开启使连接头中的通孔与工作台本体的放电通气孔、第一轴向排气槽、第二轴向排气槽、矩形排气槽形成气道,将半导体多晶硅芯片与工作台本体之间的空气排空,利用气压差便于二次加工。

【技术实现步骤摘要】
排气式矩形工作台
本技术涉及一种排气式矩形工作台,具体涉及一种结构合理,紧凑稳定,经济方便的用于储存半导体多晶硅芯片的排气式矩形工作台。
技术介绍
中国专利申请号:201320863303.7,公开了一种磨边设备真空平台,包括真空平台本体,所述真空平台本体一端面为工作台面,所述工作台面间隔设置有多个真空吸嘴,所述真空吸嘴顶部凸出于所述工作台面,所述真空吸嘴开设有真空吸附孔,所述真空吸附孔连通真空发生装置。中国专利申请号:201520709994.4,公开了一种组合式多用磁性真空工作平台,包括工作台底座,所述工作台底座上安装有底板、前挡板、后挡板、左侧板和右侧板,所述底板水平固定安装在所述工作台底座上,所述前挡板、后挡板、左侧板和右侧板与所述工作台底座垂直设置;所述左侧板和右侧板将所述底板分成第一工作台面、第二工作台面、第三工作台面、第四工作台面、以及第五工作台面,所述第三工作台面设置在所述第二工作台面和第四工作台面之间,所述第三工作台面的下方设有真空腔体。中国专利申请号:201220438895.3,公开了一种防尘工作台,其包括工作台本体及与工作台本体连接的吸尘系统,所述工作台本体上本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种排气式矩形工作台,包括工作台本体,其特征在于:所述工作台本体的横截面呈矩形状,工作台本体中开有若干第一轴向排气槽及第二轴向排气槽,第一轴向排气槽与第二轴向排气槽相互垂直交叉,工作台本体上开有一排气孔及多个放电通气孔,排气孔、多个放电通气孔均分别设置于第一轴向排气槽与第二轴向排气槽交叉处,工作台本体的中部设有连接头,连接头上设有多个通孔,通孔与放电通气孔相贯通。

【技术特征摘要】
1.一种排气式矩形工作台,包括工作台本体,其特征在于:所述工作台本体的横截面呈矩形状,工作台本体中开有若干第一轴向排气槽及第二轴向排气槽,第一轴向排气槽与第二轴向排气槽相互垂直交叉,工作台本体上开有一排气孔及多个放电通气孔,排气孔、多个放电通气孔均分别设置于第一轴向排气槽与第二轴向排气槽交叉处,工作台本体的中部设有连接头,连接头上设有多个通孔,通孔与放电通气孔相贯通。2.根据权利要求1所述的排气式矩形工作台,其特征在于:所述若干第一轴向排气槽相互平行且等距排列设置于工作台本体上,若干第二轴向排气槽相互垂直且等距排列设置于工作台本体上。3.根据权利要求1所述的排气式矩形工作台,其特征在于:所述工作台本体上开有一矩形排气槽,第一轴向排气槽与第二轴...

【专利技术属性】
技术研发人员:殷泽安刘操曹志彬
申请(专利权)人:东莞市译码半导体有限公司
类型:新型
国别省市:广东,44

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