环保式清洗机台制造技术

技术编号:21416052 阅读:29 留言:0更新日期:2019-06-22 08:05
本创作是一种环保式清洗机台用于清洗一基板,其包含一传输部、一第一清洗部、一第二清洗部与一烘干部。传输部通过一驱动件驱动一传输件,以移动基板。一第一清洗部能够将一第一清洗液输出至基板,让第一清洗液包覆位在基板的杂质。一第二清洗部能够将一第二清洗液输出至基板,用以清洗经第一清洗液包覆的杂质。一烘干部输出一风切至基板,以去除基板的杂质、第一清洗液与第二清洗液。

【技术实现步骤摘要】
环保式清洗机台
本创作是关于一种基板清洗的
,特别是一种在清洗过程中不会对环境产生污染的环保式清洗机台。
技术介绍
传统的玻璃基板为了能够获得较好的加工质量(例如镀膜),因此在进行加工之前,需要通过玻璃清洗机台去除玻璃基板表面的金属杂质、有机物污染、微尘与自然氧化物等。然而,在清洗过程中,玻璃清洗机台会大量使用酸碱液对玻璃基板进行清洗,导致于使用过后的酸碱液变成对环境的一种污染物。有鉴于此,本创作提出环保式清洗机台,用以解决前述的缺失。
技术实现思路
本创作之第一目的提供一种环保式清洗机台,是利用至少两种不同的清洗液对基板进行清洁,以提高移除杂质(例如污垢与异物等)的功效。本创作之第二目的是根据上述环保式清洗机台,利用奈米级离子水中的氢氧键包覆基板表面的杂质,以减少杂质对于基板表面的黏着度。本创作之第三目的是根据上述环保式清洗机台,通过加压奈米级离子水,以提高包覆杂质的功效。本创作之第四目的是根据上述环保式清洗机台,利用纯水进行二次的杂质的清除动作,以达到几近的或完全的清除基板表面的杂质的功效。本创作之第五目的是根据上述环保式清洗机台,通过风切的方式吹干基板表面,以去除基板的杂质与纯水。本创作之第六目的是根据上述环保式清洗机台,通过传输部让基板可以分阶段的通过各个清洗部与烘干部。为达到上述目的与其他目的,本创作提供一种环保式清洗机台,是清洗一基板。环保式清洗机台包含一传输部、一第一清洗部、一第二清洗部与一烘干部。传输部包含一驱动件与一传输件。驱动件驱动传输件,以供移动基板。第一清洗部设置在传输部的一侧。第一清洗部包含一第一输出单元与一第一储存槽。第一输出单元连接第一储存槽。第一输出单元朝向传输部,以供将第一储存槽储存一第一清洗液输出至基板,让第一清洗液包覆位在基板的杂质。其中,第一清洗液为一奈米级离子水。第二清洗部设置在传输部的一侧。第二清洗部具有一第二输出单元与一第二储存槽。第二输出单元连接第二储存槽。第二输出单元朝向传输部,以供将第二储存槽储存一第二清洗液输出至基板,用以清洗经第一清洗液包覆的杂质。其中,第二清洗液为一纯水。烘干部设置在传输部的一侧。烘干部输出一风切至基板,以去除基板的杂质、第一清洗液与第二清洗液。相较于现有技术,本创作提供的环保式清洗机台,是使用不会污染环境的第一清洗液(例如离子水),并通过第一清洗液的氢氧(OH)键包覆位在基板表面的杂质,让杂质可以轻易的脱离基板表面,并且进一步通过第二清洗液(例如纯水)将被氢氧键包覆的杂质带离基板表面,前述第一清洗液与第二清洗液皆为不污染环境的液体,其能够达到完全的清除基板表面的杂质的功效。本创作所采用的具体技术,将通过以下的实施例及附呈图式作进一步的说明。【附图说明】图1是本创作第一实施例的环保式清洗机台的方块示意图。图2是本创作第二实施例的环保式清洗机台的方块示意图。主要组件符号说明:2基板22杂质10、10’环保式清洗机台12传输部122驱动件124传输件14第一清洗部142第一输出单元144第一储存槽146第一清洗液16第二清洗部162第二输出单元164第二储存槽166第二清洗液18烘干部182作用力20加压部【具体实施方式】为充分了解本创作之目的、特征及功效,兹通过下述具体的实施例,并配合所附的图式,对本创作做一详细说明,说明如后。在本创作中,是使用「一」或「一个」来描述本文所述的单元、元件和组件。此举只是为了方便说明,并且对本创作的范畴提供一般性的意义。因此,除非很明显的另指他意,否则此种描述应理解为包括一个、至少一个,且单数也同时包括多个。在本创作中,用语「包含」、「包括」、「具有」、「含有」或其他任何类似用语意欲涵盖非排他性的包括物。举例而言,含有多个要件的一元件、结构、制品或装置不仅限于本文所列出的此等要件而已,而是可以包括未明确列出但却是该元件、结构、制品或装置通常固有的其他要件。除此之外,除非有相反的明确说明,用语「或」是指涵括性的「或」,而不是指排他性的「或」。请参考图1,是本创作第一实施例的环保式清洗机台的方块示意图。在图1中,环保式清洗机台10是用于清洗一基板2,基板2例如可为一半导体基板、一硅基板、一玻璃基板等。在本实施例中,基板2的表面存在杂质22,例如杂质22可为金属杂质、有机物污染、微尘、自然氧化物、异物等。环保式清洗机台10包含一传输部12、一第一清洗部14、一第二清洗部16与一烘干部18。传输部12包含一驱动件122与一传输件124。在本实施例中,传输部12以平台机构设置,在平台机构上设置驱动件122与传输件124。其中,驱动件122可为一电机、一马达等元件;以及,传输件124可为滚轮、滚珠、滚筒等元件。当驱动件122(例如电机)例如接受一电力(图未示)驱动时,通过磁力的推动,让转子与定子做相对运动,以驱动或带动传输件朝一方向(在此是以Y方向为例说明)运动。通过前述的作动,当基板2设置在传输件124,基板2将会沿着该方向移动。此外,由于传输件124是突出的设置在平台机构。因此,基板2与传输部12的接触仅只有传输件124的部分,其可有效的避免基板2因大面积接触平台机过程中造成基板2的表面的摩擦损坏。值得注意的是,驱动件122可不需要完全的控制所有的传输件124,其可以驱动部分的传输件124,以达到对基板2的移动。换言之,当传输件124为例如多个滚轮所组成时,其部分的滚轮可以受到驱动件122的驱动,让基板2产生一动能,其余的滚轮仅供基板2降低其移动的摩擦力。第一清洗部14设置在传输部12的一侧(例如上侧)。又,第一清洗部14包含一第一输出单元142与一第一储存槽144。第一输出单元142连接第一储存槽144。在本实施例中,第一输出单元142是以喷嘴为例说明,前述喷嘴是朝向位在第一清洗部14下方的传输部12,以供将第一储存槽144储存一第一清洗液146输出(或称喷洒)至基板2。其中,第一清洗液146可例如为一奈米级离子水、奈米水等。前述喷洒过程中,由于第一清洗液146的特性,第一清洗液146将会包覆位在基板2的杂质22。第二清洗部16设置在传输部12的上侧。第二清洗部16包含一第二输出单元162与一第二储存槽164。第二输出单元162连接第二储存槽164。在本实施例中,第二输出单元162也以喷嘴为例说明,前述喷嘴是朝向位在第二清洗部16下方的传输部12,以供将第二储存槽164储存一第二清洗液166输出至基板2。其中,第二清洗液146可例如为一纯水、一氢氧元素组成的无机物等。第二清洗液146用以清洗经第一清洗液146包覆的杂质22。烘干部18设置在传输部12的上侧。在本实施例中,烘干部18是以一风刀装置为例说明,其可输出一作用力182(例如风切)至基板2,以去除基板2的杂质22、第一清洗液146、第二清洗液166。在另一实施例中,烘干部18除了可以利用风切的非接触基板方式进行去除的动作之外,亦还可以通过接触基板方式(例如刷子等)进行去除的动作。基板2通过前述的传输部12、第一清洗部14、第二清洗部16与烘干部18,基板2可形成无杂质的表面,以利后续的加工制程,例如镀膜制程等。请参考图2,是本创作第二实施例的环保式清洗机台的方块示意图。在图2中,环保式清洗机台10’除包含第一实施例的本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种环保式清洗机台,是清洗一基板,其特征在于,所述环保式清洗机台包含:一传输部,具有一驱动件与一传输件,所述驱动件驱动所述传输件,以供移动所述基板;一第一清洗部,设置在所述传输部的一侧,所述第一清洗部具有一第一输出单元与一第一储存槽,所述第一输出单元连接所述第一储存槽,所述第一输出单元朝向所述传输部,以供将所述第一储存槽储存一第一清洗液输出至所述基板,让所述第一清洗液包覆位在所述基板的一杂质,其中所述第一清洗液为一奈米级离子水;一第二清洗部,设置在所述传输部的一侧,所述第二清洗部具有一第二输出单元与一第二储存槽,所述第二输出单元连接所述第二储存槽,所述第二输出单元朝向所述传输部,以供将所述第二储存槽储存一第二清洗液输出至所述基板,用以清洗经所述第一清洗液包覆的所述杂质,其中所述第二清洗液为一纯水;以及一烘干部,设置在所述传输部的一侧,所述烘干部输出一作用力至所述基板,以去除所述基板的所述杂质、所述第一清洗液与所述第二清洗液。

【技术特征摘要】
2018.08.27 TW 1072116371.一种环保式清洗机台,是清洗一基板,其特征在于,所述环保式清洗机台包含:一传输部,具有一驱动件与一传输件,所述驱动件驱动所述传输件,以供移动所述基板;一第一清洗部,设置在所述传输部的一侧,所述第一清洗部具有一第一输出单元与一第一储存槽,所述第一输出单元连接所述第一储存槽,所述第一输出单元朝向所述传输部,以供将所述第一储存槽储存一第一清洗液输出至所述基板,让所述第一清洗液包覆位在所述基板的一杂质,其中所述第一清洗液为一奈米级离子水;一第二清洗部,设置在所述传输部的一侧,所述第二清洗部具有一第二输出单元与一第二储存槽,所述第二输出单元连接所述第二储存槽,所述第二输出单元朝向所述传输部,以供将所述第二储存槽储存一第二清洗液输出至所述基板,用以清洗经所述第一清洗液包覆的所述杂质,其中所述第二清洗液为一纯水;以及一烘干部,设置在所述传输部的...

【专利技术属性】
技术研发人员:李国光陈韦融郭肯华丁鸿泰
申请(专利权)人:鸿超光电科技股份有限公司睿明科技股份有限公司
类型:新型
国别省市:中国台湾,71

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