雷射光源模块制造技术

本发明专利技术揭露了一种作用于板体的雷射光源模块，其包含基板、第一光源、第二光源、降温单元、第一调整模块、第二调整模块与第三调整模块。第一光源产生第一光线并朝基板的出光区域的方向出射；第二光源产生第二光线并朝基板的出光区域的方向出射；第一调整模块改变第二光线的光学特性；第二调整模块改变第一光线、第二光线和/或降温单元作用于板体的位置；并且，第三调整模块与第二调整模块选择性地共轴设置，并且第三调整模块连接降温单元，以供改变降温单元作用于该板体所需要的角度。

laser module

【技术实现步骤摘要】
雷射光源模块
本专利技术为一种基板加工的
，特别是一种应用于板体加工的雷射光源模块。
技术介绍
传统的板体(例如玻璃、蓝宝石、硅、砷化镓或陶瓷等)，可利用例如雷射的光线进行例如加热、切割或钻孔等板体加工。然而，传统的雷射与喷水头的加工法是先切割后喷水散热，即是雷射之后设置喷水头。因此，加工时雷射的光线仅能够朝单一方向进行切割，若遇到不规则板体，例如要切割具有R角度的板体时，仅能够过旋转板体来达到切割加工的目的。
技术实现思路
为了解决上述缺点，本专利技术的第一目的为提供一种雷射光源模块，藉由复数调整模块调整第一光源、第二光源、基板与降温单元，以针对不同的板体需求做弹性的调整的目的。本专利技术的第二目的为提供上述雷射光源模块，提供降温单元输出介质，用以降低光线作用于板体所产生的热能的目的。本专利技术的第三目的为提供上述雷射光源模块，提供处理单元驱动第一调整模块、第二调整模块与第三调整模块，以达到操作第一调整模块、第二调整模块与第三调整模块的目的。本专利技术的第四目的为提供上述雷射光源模块，提供输入输出单元，以接收控制讯号并输出至处理单元驱动第一调整模块、第二调整模块与第三调整模块，或者输入输出单元可接收控制讯号，用以驱动第一调整模块、第二调整模块与第三调整模块。为达到上述目的与其他目的，本专利技术提供一种雷射光源模块，作用于板体。雷射光源模块包含基板、第一光源、第二光源、降温单元、第一调整模块、第二调整模块与第三调整模块。基板在两个侧面处界定设置区域与出光区域。出光区域供设置板体。第一光源设置于设置区域中。第一光源产生第一光线及第一光线朝出光区域的方向出射。第二光源设置于设置区域中。第二光源产生第二光线。降温单元设置于出光区域中。第一调整模块耦合第二光源，以能够改变第二光线的光学特性。第二调整模块设置于出光区域中。第二调整模块耦合基板，以能够改变第二光线、第一光线及/或降温单元作用于板体的位置。第三调整模块设置于出光区域中。第三调整模块与第二调整模块选择性地共轴设置。第三调整模块连接降温单元，以能够改变降温单元作用于板体所需的角度。相较于习知的技术，本专利技术提供的雷射光源模块，可以根据板体的特性(例如材质或形状等)进一步调整模块进行加工。其中，第一调整模块可为光学组件、移动件、转动件，以改变光线的光斑的方向、角度、尺寸、焦点、光路等光学特性。第二调整模块可为移动件、转动件。第二调整模块同时地改变第二光线与降温单元作用于板体的位置，或是第二调整模块分别地改变第二光线与降温单元作用于板体的位置。第二调整模块为一个或是复数个。第三调整模块可为移动件与、转动件。附图说明图1是本专利技术第一实施例的雷射光源模块的俯视示意图。图2是说明本专利技术图1的雷射光源模块的侧面示意图。图3是本专利技术第二实施例的雷射光源模块的俯视示意图。具体实施方式为充分了解本专利技术的目的、特征及功效，兹藉由下述具体的实施例，并配合所附的图式，对本专利技术做详细说明，说明如后。于本专利技术中，使用「一」或「一个」来描述本文所述的单元、组件和组件。此举只是为了方便说明，并且对本专利技术的范畴提供一般性的意义。因此，除非很明显地另指他意，否则此种描述应理解为包括一个、至少一个，且单数也同时包括复数。于本专利技术中，用语「包含」、「包括」、「具有」、「含有」或其他任何类似用语意欲涵盖非排他性的包括物。举例而言，含有复数要件的组件、结构、制品或装置不仅限于本文所列出的此等要件而已，而是可以包括未明确列出但却是该组件、结构、制品或装置通常固有的其他要件。除此之外，除非有相反的明确说明，用语「或」是指涵括性的「或」，而不是指排他性的「或」。图1是本专利技术第一实施例的雷射光源模块的俯视示意图。在图1中，雷射光源模块10作用于板体2，例如板体2可为玻璃、蓝宝石、硅、砷化镓或陶瓷等。此外，前述作用例如可以对板体2进行加热、切割或钻孔等。雷射光源模块10包含基板12、第一光源14、第二光源16、降温单元18、第一调整模块20、第二调整模块22与第三调整模块24。基板12在两个侧面处分别界定设置区域SA与出光区域EA，图2是说明本专利技术图1的雷射光源模块的侧面示意图。于本实施例中，前述设置区域SA指的是设置第一光源14、第二光源16、第一调整模块20的区域，并且前述出光区域EA指的板体2作用的区域。在本实施例中，板体2、降温单元18、第二调整模块22与第三调整模块24设置在此区域。于本实施例中，第一光源14设置于设置区域SA的左侧，第一光源14可以是紫外光雷射(UV雷射)或其他雷射。第一光源14产生第一光线FLB。第一光线FLB朝出光区域EA的方向出射，让第一光线FLB可以作用位于出光区域EA的板体2。于本实施例中，第二光源16设置于设置区域SA的右侧，第二光源16可以是二氧化碳雷射或其他雷射。第二光源16产生第二光线SLB。降温单元18设置于出光区域EA中，其可藉由液体、气体、固体降低第一光源14与第二光源16作用于板体2时所产生的热能。于本实施例中，降温单元18以喷水头提供冷却水为例说明。第一调整模块20耦合第二光源16，以能够改变第二光线SLB的光学特性，例如光学特性为第二光线SLB的光斑的方向、角度、尺寸、焦点、光路等。其中，光斑的图样形状可以例如是矩形、方形、圆形、星形、心型、椭圆、水滴状等对称形状或是非前述对称形状的非对称形状等。于本实施例中，第二光线SLB经过第一调整模块20之后，第二光线SLB的光轴OA与第二调整模块22的轴心OZ重叠。于其他实施例中，第二光线SLB的光轴OA与第二调整模块22的轴心OZ也可以是平行的。举例而言，第一调整模块20可为反射镜，将第二光线SLB反射至第二调整模块22，并由第二调整模块22的轴心OZ出光至板体2。前述第一调整模块20可为光学组件(透镜、反射镜、偏光镜等)、移动件(齿轮、轨道、皮带、传动电机、伺服马达等)、转动件(杆体、轴承、齿轮、皮带、传动电机等)或其组合，在本专利技术中，第一调整模块20不限制于任何的功能组合，只要第一调整模块20能够改变第二光线SLB的光斑的方向、角度、尺寸、焦点与光路等光学特性，皆属于第一调整模块20所述的范畴。第二调整模块22设置于出光区域EA中。第二调整模块22耦合基板12，以能够改变第二光线SLB和/或降温单元18作用于板体2的位置。前述第二调整模块22可为移动件、转动件或其组合。在本专利技术中，第二调整模块22不限制于任何的功能组合，只要第二调整模块22同时地改变第二光线SLB、第一光线FLB与降温单元18作用于板体2的位置，或是第二调整模块22分别地改变第二光线SLB与降温单元18作用于板体2的位置，皆属于第二调整模块22所述的范畴。从前述的描述中应当可以理解到，第二调整模块22为一个或是复数个。于本实施例中，第二调整模块22以一个为例说明，使得第二调整模块22会同时调整第二光线SLB与降温单元18在Z轴方向的运动，就第二光线SLB而言，其藉由第二调整模块本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种雷射光源模块，该雷射光源模块作用于板体，该雷射光源模块包含：/n基板，在两个侧面处界定设置区域与出光区域，该出光区域供设置该板体；/n第一光源，设置于该设置区域中，该第一光源产生第一光线，该第一光线朝该出光区域的方向出射；/n第二光源，设置于该设置区域中，该第二光源产生第二光线；/n降温单元，设置于该出光区域中；/n第一调整模块，耦合该第二光源，以供改变该第二光线的光学特性；/n第二调整模块，设置于该出光区域中，该第二调整模块耦合该基板，以供改变该第二光线、该第一光线与该降温单元中的至少一者作用于该板体的位置；以及/n第三调整模块，设置于该出光区域中，该第三调整模块与该第二调整模块选择性地共轴设置，该第三调整模块连接该降温单元，以供改变该降温单元作用于该板体所需的角度。/n

【技术特征摘要】
20181110 TW 1071399781.一种雷射光源模块，该雷射光源模块作用于板体，该雷射光源模块包含：
基板，在两个侧面处界定设置区域与出光区域，该出光区域供设置该板体；
第一光源，设置于该设置区域中，该第一光源产生第一光线，该第一光线朝该出光区域的方向出射；
第二光源，设置于该设置区域中，该第二光源产生第二光线；
降温单元，设置于该出光区域中；
第一调整模块，耦合该第二光源，以供改变该第二光线的光学特性；
第二调整模块，设置于该出光区域中，该第二调整模块耦合该基板，以供改变该第二光线、该第一光线与该降温单元中的至少一者作用于该板体的位置；以及
第三调整模块，设置于该出光区域中，该第三调整模块与该第二调整模块选择性地共轴设置，该第三调整模块连接该降温单元，以供改变该降温单元作用于该板体所需的角度。


2.如权利要求1所述的雷射光源模块，其中该第一光源为紫外光雷射与该第二光源为二氧化碳雷射。


3.如权利要求1所述的雷射光源模块，其中该降温单元藉由液体、气体与固体中的至少一者降低该第一光源与该第二光源作用于该板体时所产生的热能。


4.如权利要求1所述的雷射光源模块，其中该第一调整模块为光学组件、移动件与转动件中的至少一者，以供改变该第二光线的光斑的方向、角度、尺寸、焦点与光路。

【专利技术属性】
技术研发人员：吕鸿图，林亚力，林均达，
申请(专利权)人：鸿超光电科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：中国台湾;71