The utility model discloses an exposure mask, which belongs to the technical field of mask. The exposure mask includes a mask. The top surface of the mask is provided with an upper film surface, the bottom surface is provided with a lower film surface, a lens is arranged above the mask, a light source is arranged above the lens, and an exposed object coated with light resistance is arranged below the mask to solve the existing mask. The plate light is prone to deviate, and the exposure accuracy needs to be improved, which improves the exposure accuracy.
【技术实现步骤摘要】
一种曝光用掩模板
本技术涉及掩模板
，特别涉及一种曝光用掩模板。
技术介绍
目前触控显示行业对图形的制作大部分通过黄光工艺完成，即通过镀膜-凃光刻胶-曝光-显影-蚀刻-脱膜来进行线路的制作。这其中所含的曝光制程中所需的模具一般称为掩模板或光罩，用来转移图案。光通过掩模板照到光刻胶上会发生化学反应，光透不过的地方不会，受光区域和非受光区域在显影液中的溶解度差异很大，如此一来，显影后就会形成与掩模板完全相同或完全相反的图案。随着触控显示对线路精度要求越来越高，而线路的精度很大程度上取决于曝光精度，因此对曝光精度也提出了更高的要求。然而，现有的掩模板光容易产生偏离，曝光精度有待提高。
技术实现思路
本技术的目的是提供一种曝光用掩模板，其解决了现有的掩模板光容易产生偏离，曝光精度有待提高的问题。本技术的上述技术目的是通过以下技术方案得以实现的：一种曝光用掩模板，包括掩模板，所述掩模板顶面设置有上膜面，底面设置有下膜面，所述掩模板上方设置有透镜，所述透镜上方设置有光源，所述掩模板下方设置有涂覆光阻的待曝光物。采用上述结构，上下面均为膜面，允许光透过的地方，光经过掩模板上膜面时...
【技术保护点】
1.一种曝光用掩模板，包括掩模板（3），其特征是：所述掩模板（3）顶面设置有上膜面（6），底面设置有下膜面（7），所述掩模板（3）上方设置有透镜（2），所述透镜（2）上方设置有光源（1），所述掩模板（3）下方设置有涂覆光阻的待曝光物。
【技术特征摘要】
1.一种曝光用掩模板，包括掩模板（3），其特征是：所述掩模板（3）顶面设置有上膜面（6），底面设置有下膜面（7），所述掩模板（3）上方设置有透镜（2），所述透镜（2）上方设置有光源（1），所述掩模板（3）下方设置有涂覆光阻的待曝光物。2.根据权利要求1所述的一种曝光用掩模板，其特征是：所述上膜面（6）和所述下膜面（7）图形一致。3.根据权利要求1所述...
【专利技术属性】
技术研发人员：刘威，吴德生，
申请(专利权)人：信利光电股份有限公司，
类型：新型
国别省市：广东,44
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