【技术实现步骤摘要】
一种手动酸洗旋转治具
本技术属于半导体材料清洗设备
,具体涉及一种手动酸洗旋转治具。
技术介绍
半导体器件生产中硅片须经严格清洗。微量污染也会导致器件失效。清洗的目的在于清除表面污染杂质,包括有机物和无机物。这些杂质有的以原子状态或离子状态,有的以薄膜形式或颗粒形式存在于硅片表面,会导致各种缺陷。硅产品酸洗的酸洗液主要性质为强酸性、强腐蚀性和易挥发性,材料化学清洗中主要利用其强酸性和强腐蚀性来去除材料表面的杂质沾污及对零件进行工艺腐蚀处理。现有的手动清洗装置为平躺式手动移动工装来清洗,而旋转工装则是通过齿轮旋转带动主轴转动使零件旋转从而达到零件表面与清洗液充分均匀接触,保证工件达到工艺要求。对于像硅这种脆性材料而言,在酸洗操作过程中,对零件必须先固定牢,防止在旋转过程中移位滑脱而导致零件损伤。现有的手动酸洗对于小型硅片可通过镊子夹取在酸洗槽中翻转拖动来有效清洗,对于大型硅片则是通过工装固定好后卧放酸洗槽中通过来回拖动工装达到清洗零件目的。以上两种工装虽然可以使酸洗后的零件达到工艺要求,但是使用镊子夹取零件时,存在危险因素,如操作人员夹取力度不够,零件可能会从 ...
【技术保护点】
1.一种手动酸洗旋转治具,其特征在于,包括水箱箱体(13)及固定工装,其中:所述固定工装包括两个酸洗框(2),两个所述酸洗框(2)平行、间隔设置,两个所述酸洗框(2)之间垂直设有数个支撑杆(3),每个所述支撑杆(3)的两个端部分别连接于两个酸洗框(2)上;每个所述支撑杆(3)的中部的相应位置处设有至少一个环形卡槽(4);两个所述酸洗框(2)外侧分别设有支架(1),每个所述支架(1)上设有第一安装孔(12),两个所述酸洗框(2)外侧分别通过两个转动连接轴(8)转动连接于支架(1)第一安装孔(12)内,所述酸洗框(2)底部高于支架(1)底部;其中一个所述转动连接轴(8)上设有第 ...
【技术特征摘要】
1.一种手动酸洗旋转治具,其特征在于,包括水箱箱体(13)及固定工装,其中:所述固定工装包括两个酸洗框(2),两个所述酸洗框(2)平行、间隔设置,两个所述酸洗框(2)之间垂直设有数个支撑杆(3),每个所述支撑杆(3)的两个端部分别连接于两个酸洗框(2)上;每个所述支撑杆(3)的中部的相应位置处设有至少一个环形卡槽(4);两个所述酸洗框(2)外侧分别设有支架(1),每个所述支架(1)上设有第一安装孔(12),两个所述酸洗框(2)外侧分别通过两个转动连接轴(8)转动连接于支架(1)第一安装孔(12)内,所述酸洗框(2)底部高于支架(1)底部;其中一个所述转动连接轴(8)上设有第一齿轮(7);所述箱体(13)上设有第二安装孔(14),所述第二安装孔内设有传动轴,所述传动轴的一端设于箱体(13)外侧,另一端设有第二齿轮(5),所述第二齿轮(5)与第一齿轮(7)齿合连接,转动所述传动轴以带动酸洗框(2)在支架(1)内竖直转动。2.根据权利要求1所述的一种手动酸洗旋转治具,其特征在于,所述支撑杆(3)的端部通过可拆卸锁紧装置锁紧固定于酸洗框(2)上。3...
【专利技术属性】
技术研发人员:罗刚,朱雪明,袁林锋,
申请(专利权)人:北京亦盛精密半导体有限公司,
类型:新型
国别省市:北京,11
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