一种激光退火装置、阵列基板、显示装置及制作方法制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种激光退火装置、阵列基板、显示装置及制作方法，以解决现有技术中的退火装置在对不同的显示产品进行退火时，由于需要重新更换与其相匹配的MLA掩模和微透镜排列，进而导致设备和工艺调试时间较长，显示装置的制作时间较长的问题。所述激光退火装置，包括：光源结构、设置在所述光源结构出光侧相互叠置的微透镜阵列结构和掩膜更换结构，其中，所述微透镜阵列结构包括多个呈阵列排列的微透镜，所述掩膜更换结构包括掩膜板，以及根据待退火的阵列基板的不同用于对所述掩膜板进行更换的更换部件，所述掩膜板复用为对所述阵列基板的膜层进行构图时的掩膜板。

【技术实现步骤摘要】
一种激光退火装置、阵列基板、显示装置及制作方法
本专利技术涉及半导体
，尤其涉及一种激光退火装置、阵列基板、显示装置及制作方法。
技术介绍
低温多晶硅薄膜晶体管可以作为液晶显示器和有源矩阵有机发光二极体(Active-matrixorganiclight-emittingdiode，AMOLED)的背板进行驱动显示。在使用低温多晶硅薄膜晶体管进行驱动时，一般会通过激光退火装置对非晶硅薄膜进行退火，以形成多晶硅。传统的激光退火装置中，一般都是通过微透镜阵列掩膜(MLA掩模)和微透镜阵列来将光线聚焦在阵列基板的设置薄膜晶体管的区域，以对该区域进行退火。但传统的MLA掩模设计和微透镜阵列的排列一般都固定下来，与特定的显示产品匹配，满足退火需求。而对于量产中经常变化的显示产品尺寸、分辨率以及像素TFT设计，需要重新更换退火装置的MLA掩模和微透镜排列组合，来匹配符合新的像素设计，进而会导致设备和工艺调试时间加长，进而致使显示装置的制作时间较长的问题。
技术实现思路
本专利技术提供一种激光退火装置、阵列基板、显示装置及制作方法，以解决现有技术中的退火装置在对不同的显示产品进行退火时，由于需要本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种激光退火装置，其特征在于，包括：光源结构、设置在所述光源结构出光侧相互叠置的微透镜阵列结构和掩膜更换结构，其中，所述微透镜阵列结构包括多个呈阵列排列的微透镜，所述掩膜更换结构包括掩膜板，以及根据待退火的阵列基板的不同用于对所述掩膜板进行更换的更换部件，所述掩膜板复用为对所述阵列基板的膜层进行构图时的掩膜板。

【技术特征摘要】
1.一种激光退火装置，其特征在于，包括：光源结构、设置在所述光源结构出光侧相互叠置的微透镜阵列结构和掩膜更换结构，其中，所述微透镜阵列结构包括多个呈阵列排列的微透镜，所述掩膜更换结构包括掩膜板，以及根据待退火的阵列基板的不同用于对所述掩膜板进行更换的更换部件，所述掩膜板复用为对所述阵列基板的膜层进行构图时的掩膜板。2.如权利要求1所述的激光退火装置，其特征在于，所述微透镜阵列中的各所述微透镜之间相互紧密排列。3.如权利要求2所述的激光退火装置，其特征在于，所述掩膜板复用为对所述阵列基板薄膜晶体管的有源层薄膜、栅极薄膜、或源漏极薄膜进行构图时的掩膜板。4.如权利要求1所述的激光退火装置，其特征在于，所述掩膜更换结构位于所述微透镜阵列结构的面向所述光源结构的一面，所述微透镜的凸面背离所述掩膜更换结构。5.如权利要求1所述的激光退火装置，其特征在于，所述微透镜的尺寸与所述光源结构的激光...

【专利技术属性】
技术研发人员：龙春平，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：北京,11