阵列基板的制作方法、阵列基板、显示面板及显示装置制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种阵列基板的制作方法、阵列基板、显示面板及显示装置，包括：提供一衬底基板；通过一次构图工艺，在衬底基板上形成在各子像素区具有开口区域的像素定义层；在像素定义层上的颜色不同的各子像素区内依次形成发光结构；其中，在同一颜色的各子像素区内形成发光结构，具体包括：在像素定义层上依次形成该子像素区对应颜色的发光功能层和阴极层；通过一次构图工艺和干刻工艺，去除发光功能层和阴极层在其他子像素区内的部分，在该子像素区内形成发光功能层和阴极层的图案。通过一次构图工艺形成在各子像素区具有开口区域的像素定义层，工艺比较简单；且通过干刻的方式分别制作不同颜色的子像素，可以省掉FMM，提高像素密度。

Fabrication of Array Substrate, Array Substrate, Display Panel and Display Device

【技术实现步骤摘要】
阵列基板的制作方法、阵列基板、显示面板及显示装置
本专利技术涉及显示
，尤其涉及一种阵列基板的制作方法、阵列基板、显示面板及显示装置。
技术介绍
有机电致发光显示面板(OLED)以轻薄、低耗、高响应、高分辨等特征在平板显示领域崭露头角，其潜在的市场前景被业界看好。目前，可直接利用精细金属掩膜板(FineMetalMask，FMM)分别蒸镀红绿蓝(RGB)三种颜色的子像素的发光材料来实现OLED显示面板的彩色显示。但是由于FMM精度的限制，现有技术中采用FMM的方式制作的OLED显示面板的像素密度(PPI)有限，而目前需要高PPI的应用产品却越来越多，例如微显示领域，现有OLED显示面板的PPI已然满足不了人眼的需求。
技术实现思路
有鉴于此，本专利技术实施例提供一种阵列基板的制作方法、阵列基板、显示面板及显示装置，用以提高OLED显示面板的像素密度。因此，本专利技术实施例提供的一种阵列基板的制作方法，包括：提供一衬底基板；通过一次构图工艺，在所述衬底基板上形成在各子像素区具有开口区域的像素定义层；在所述像素定义层上的颜色不同的各所述子像素区内依次形成发光结构；其中，在同一颜色的各子本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种阵列基板的制作方法，其特征在于，包括：提供一衬底基板；通过一次构图工艺，在所述衬底基板上形成在各子像素区具有开口区域的像素定义层；在所述像素定义层上的颜色不同的各所述子像素区内依次形成发光结构；其中，在同一颜色的各子像素区内形成发光结构，具体包括：在所述像素定义层上依次形成该子像素区对应颜色的发光功能层和阴极层；通过一次构图工艺和干刻工艺，去除所述发光功能层和所述阴极层在其他子像素区内的部分，在该子像素区内形成所述发光功能层和所述阴极层的图案。

【技术特征摘要】
1.一种阵列基板的制作方法，其特征在于，包括：提供一衬底基板；通过一次构图工艺，在所述衬底基板上形成在各子像素区具有开口区域的像素定义层；在所述像素定义层上的颜色不同的各所述子像素区内依次形成发光结构；其中，在同一颜色的各子像素区内形成发光结构，具体包括：在所述像素定义层上依次形成该子像素区对应颜色的发光功能层和阴极层；通过一次构图工艺和干刻工艺，去除所述发光功能层和所述阴极层在其他子像素区内的部分，在该子像素区内形成所述发光功能层和所述阴极层的图案。2.如权利要求1所述的制作方法，其特征在于，在所述像素定义层上依次形成该子像素区对应颜色的发光功能层和阴极层之后，还包括：在阴极层上形成保护层；去除所述发光功能层和所述阴极层在其他子像素区内的部分的同时，去除所述保护层在其他子像素区内的部分。3.如权利要求1所述的制作方法，其特征在于，在所述像素定义层上的颜色不同的各所述子像素区内依次形成发光结构之后，还包括：在所述发光结构所在层上形成与所述阴极层电连接的辅助阴极层；通过一次构图工艺，去除各所述开口区域内的所述辅助...

【专利技术属性】
技术研发人员：唐国强，马国强，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，成都京东方光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：北京,11