一种晶片清洗干燥机制造技术

本发明专利技术公开了一种晶片清洗干燥机，该干燥机包括：上箱体，所述上箱体中设置有干燥组件；中箱体，所述中箱体中设置有用来承置晶片的花篮组件；以及下箱体，所述上箱体、中箱体与下箱体能够一起构成密封整体，所述下箱体中设置有用来向外部排出气流的第一抽气管、用来向所述下箱体中供水的进水管和用来向外部排出水流的第一出水管。本发明专利技术的有益效果为提高晶片清洗的洁净度和干燥效率。

A Wafer Cleaning and Drying Machine

The invention discloses a wafer cleaning and drying machine, which comprises an upper box body with a drying component arranged in the upper box body, a flower basket assembly for holding wafers in the middle box body, and a lower box body, wherein the upper box body, the middle box body and the lower box body can form a sealing whole together, and the lower box body is provided with a second part for discharging air to the outside. A suction pipe, an inlet pipe for supplying water to the lower box body and a first outlet pipe for discharging water outward. The beneficial effect of the present invention is to improve the cleanliness and drying efficiency of wafer cleaning.

【技术实现步骤摘要】
一种晶片清洗干燥机
本专利技术属于晶片领域，具体涉及一种晶片清洗干燥机。
技术介绍
晶片加工领域，需要对晶片进行多次的清洗，清洗的洁净度要求较高，同时清洗后还需要及时对晶片进行干燥。无论是清洗还是干燥过程，都要保证晶片不受损伤，此外，还需要提高清洗和干燥的效果和效率。
技术实现思路
针对现有技术中存在的问题，本专利技术提供一种晶片清洗干燥机，本专利技术能够提高晶片清洗干燥的效率。为实现上述目的，本专利技术采用以下技术方案：一种晶片清洗干燥机，该干燥机包括：上箱体，所述上箱体中设置有干燥组件；中箱体，所述中箱体中设置有用来承置晶片的花篮组件；以及下箱体，所述上箱体、中箱体与下箱体能够一起构成密封整体，所述下箱体中设置有用来向外部排出气流的第一抽气管、用来向所述下箱体中供水的进水管和用来向外部排出水流的第一出水管。优选地，所述干燥机还包括：移动机构，能够夹持所述晶片并将所述晶片上下移动，使得所述晶片能够在所述中箱体或者下箱体中变换位置。优选地，所述中箱体上设置有移动轮，所述中箱体和上箱体能够整体侧移使得所述下箱体的顶部敞开或者闭合。优选地，所述干燥机还包括：侧箱体，所述侧箱体连接在所述下箱体本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种晶片清洗干燥机，其特征在于，该干燥机包括：上箱体（1），所述上箱体（1）中设置有干燥组件（11）；中箱体（2），所述中箱体（2）中设置有用来承置晶片（5）的花篮组件（21）；以及下箱体（3），所述上箱体（1）、中箱体（2）与下箱体（3）能够一起构成密封整体，所述下箱体（3）中设置有用来向外部排出气流的第一抽气管（31）、用来向所述下箱体（3）中供水的进水管（32）和用来向外部排出水流的第一出水管（33）。

【技术特征摘要】
1.一种晶片清洗干燥机，其特征在于，该干燥机包括：上箱体（1），所述上箱体（1）中设置有干燥组件（11）；中箱体（2），所述中箱体（2）中设置有用来承置晶片（5）的花篮组件（21）；以及下箱体（3），所述上箱体（1）、中箱体（2）与下箱体（3）能够一起构成密封整体，所述下箱体（3）中设置有用来向外部排出气流的第一抽气管（31）、用来向所述下箱体（3）中供水的进水管（32）和用来向外部排出水流的第一出水管（33）。2.根据权利要求1所述的晶片清洗干燥机，其特征在于，所述干燥机还包括：移动机构（4），能够夹持所述晶片（5）并将所述晶片（5）上下移动，使得所述晶片（5）能够在所述中箱体（2）或者下箱体（3）中变换位置。3.根据权利要求2所述的晶片清洗干燥机，其特征在于，所述中箱体（2）上设置有移动轮，所述中箱体（2）和上箱体（1）能够整体侧移使得所述下箱体（3）的顶部敞开或者闭合。4.根据权利要求3所述的晶片清洗干燥机，其特征在于，所述干燥机还包括：侧箱体（6），所述侧箱体（6）连接在所述下箱体（3）的顶部一侧，所述下箱体（3）的一侧顶部设置有溢流口（61），所述溢流口（61）使得所述侧箱体（6）与所述下箱体（3）内部连通，所述侧箱体（6）上设置有第二出水管（62），所述第二出水管（62）用来将所述下箱体（3）中溢流的液体导出。5.根据权利要求4所述的晶片清洗干燥机，其特征在于，所述侧箱体（6）上还连通有第二抽气管（63），用来抽吸所述侧箱体（6）内部的气流。6.根据权利要求1所述的晶片清洗干燥机，其特征在于，所述下箱体（3）的底部具有预定斜角，所述第一出水管（33）设置在所述下箱体（3）的底部，所述第一抽气管（31）的高度大于所述第一出水管（33），所述进水管（3...

【专利技术属性】
技术研发人员：葛林五，李杰，丁高生，林生海，陈景韶，葛林新，
申请(专利权)人：上海提牛机电设备有限公司，
类型：发明
国别省市：上海,31