一种应用于RTP的蚀刻工具制造技术

本实用新型专利技术公开了一种应用于RTP的蚀刻工具，该丝印网用于在ITO层表面印刷蚀刻膏，其丝印网由金属丝纵横交织而成，形成的网孔密度为320‑400个/英寸，线径为18‑30μm，孔径为39‑55μm。本实用新型专利技术可以印更细的走线，所以产品的边框可以更窄，更好的满足客户要求。

An Etching Tool for RTP

The utility model discloses an etching tool applied to RTP. The screen is used for printing etching paste on the surface of ITO layer. The screen is made of metal wires interlaced vertically and horizontally, forming a mesh density of 320 400/inch, a line diameter of 18 30 um and an aperture of 39 55um. The utility model can print thinner wiring, so the product frame can be narrower and better meet customer requirements.

【技术实现步骤摘要】
一种应用于RTP的蚀刻工具
本技术涉及LCD的ITO蚀刻
，特别是一种应用于RTP的蚀刻工具。
技术介绍
现有的ITO蚀刻工艺主要包括五大工艺步骤，如下：1）涂胶涂胶是光刻的首道工序，它是在ITO玻璃表面上涂一层光刻胶，涂胶效果控制好坏直接影响光刻质量，因此在操作时应将光刻胶按要求准备好，并控制好光刻胶的涂层厚度及均匀性、涂层表面状态等。2）曝光曝光就是在涂好光刻胶的玻璃表面覆盖掩模版，通过紫外光进行选择性照射，使受光照部位的光刻胶发生化学反应，改变了这部分胶膜在显影液中的溶解度。显影后，光刻胶膜显现出与掩模版相对应的图形。曝光时间和曝光强度选择是根据版的质量、光刻胶性质、光源强弱和光源到ITO玻璃的距离等因素来确定。3）显影显影就是将感光部分的光刻胶溶除，留下未感光部分的胶膜从而显示所需要的图形。显影过程是将曝光后的玻璃放入显影槽中，显影液通过摇摆的喷头喷洒在玻璃的光刻胶面上，过一定时间显出图形后，玻璃再通过水洗，将显影液冲掉。显影液有两种，一种是与光刻胶配套的专用显影液；另一种是一定浓度的碱液（KOH或NaOH）。第二种使用普通些。碱液配置是在专用调制槽中进行，先在槽中注一本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种应用于RTP的蚀刻工具，其特征在于：用于在ITO层表面印刷蚀刻膏，丝印网由金属丝纵横交织而成，形成的网孔密度为320‑400个/英寸，线径为18‑30μm，孔径为39‑55μm。

【技术特征摘要】
1.一种应用于RTP的蚀刻工具，其特征在于：用于在ITO层表面印刷蚀刻膏，丝印网由金属丝纵横交织而成，形成的网孔密度为320-400个/英寸，线径为18-30μm，孔径为39-55μm。2.根据权利...

【专利技术属性】
技术研发人员：黄华达，
申请(专利权)人：东莞通华液晶有限公司，
类型：新型
国别省市：广东,44