一种坩埚及点型蒸发源制造技术

本发明专利技术涉及蒸镀技术领域，公开一种坩埚及点型蒸发源，坩埚包括一端形成开口的坩埚埚体，坩埚埚体的底部用于容置蒸镀材料，还包括至少一个扩散单元，扩散单元安装在坩埚埚体内靠近开口的一端，扩散单元具有导流部和阻挡部，阻挡部用于阻挡蒸镀材料不均匀蒸发所形成的块状喷溅物喷出开口，导流部用于将蒸镀材料蒸发形成的气体导流出开口，当蒸镀材料受热蒸发，蒸汽带着块状喷溅物一起至扩散单元时，部分块状喷溅物粘附在阻挡部背离开口的一侧，减少开口处堵塞现象的发生，部分块状喷溅物落入坩埚埚体继续受热蒸发，减少蒸镀材料的不均匀蒸发现象的发生，而蒸汽从导流部导出开口，使得蒸汽和块状喷溅物的分离，能够减少蒸镀材料喷出现象的发生。

A Crucible and Point Evaporation Source

The invention relates to the technical field of evaporation plating, and discloses a crucible and a point-type evaporation source. The crucible comprises a crucible with an opening formed at one end. The bottom of the crucible body is used for holding evaporation plating materials, and at least one diffusion unit is installed at the end of the crucible body near the opening. The diffusion unit has a diversion part and a blocking part, and the blocking part is used for blocking the uneven evaporation plating materials. The blocky splash formed by uniform evaporation sprays out the opening, and the diversion part is used to divert the gas formed by evaporation of the evaporating material out of the opening. When the evaporating material is heated and evaporated and the vapor comes with the blocky splash to the diffusion unit, part of the blocky splash adheres to the side of the back of the blocking part leaving the opening, which reduces the blockage phenomenon at the opening, and part of the blocky splash falls into the crucible body. Continuous heating evaporation reduces the occurrence of non-uniform evaporation of evaporated materials, and steam from the diversion outlet leads to the separation of steam and blocky splashes, which can reduce the occurrence of evaporation of evaporated materials.

【技术实现步骤摘要】
一种坩埚及点型蒸发源
本专利技术涉及蒸镀
，尤其涉及一种坩埚及点型蒸发源。
技术介绍
目前，在OLED的显示面板制造工艺中，蒸镀薄膜的制备是最重要的步骤，在基板上形成蒸镀薄膜常采用真空蒸镀设备，而其中，点型蒸发源以其使用及运行的便利性具有较广的应用。现有点型蒸发源主要包括蒸发源和位于蒸发源上用于承载有有机物或金属材料的坩埚，在蒸镀过程中，基板设置在蒸发源的上方，加热蒸发源，有机物或金属受热形成蒸汽，向上蒸发的蒸汽在基板上形成蒸镀薄膜。目前，由于待蒸发的物质纯度低、在坩埚内的分布不均匀以及蒸发源的温度急剧上升等原因，待蒸发的物质在坩埚内的受热温度不均匀，导致坩埚内部均匀蒸发的物质和不均匀蒸发的物质会混在一起形成块状喷溅，并堆积在坩埚的开口处，使得蒸发率降低且蒸发不均匀，随着堆积在坩埚开口处的物质增多，发生坩埚开口堵塞现象，导致工艺稳定性降低。另外，由于蒸发物质以块状从坩埚中喷出，并以微小的颗粒状蒸镀到基板上，形成不均匀、不稳定的薄膜，导致器件的不良。因此，设计一种能够制备出均匀的有机物及金属薄膜的坩埚及点型蒸发源显得尤为重要。本专利技术为了解决上述问题，在基于用于生产多层薄膜的O本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种坩埚，包括一端形成开口的坩埚埚体，所述坩埚埚体的底部用于容置蒸镀材料，其特征在于，还包括至少一个扩散单元，所述扩散单元安装在所述坩埚埚体内靠近所述开口的一端，所述扩散单元具有导流部和阻挡部，所述阻挡部用于阻挡所述蒸镀材料不均匀蒸发所形成的块状喷溅物喷出所述开口，所述导流部用于将所述蒸镀材料蒸发形成的气体导流出所述开口。

【技术特征摘要】
1.一种坩埚，包括一端形成开口的坩埚埚体，所述坩埚埚体的底部用于容置蒸镀材料，其特征在于，还包括至少一个扩散单元，所述扩散单元安装在所述坩埚埚体内靠近所述开口的一端，所述扩散单元具有导流部和阻挡部，所述阻挡部用于阻挡所述蒸镀材料不均匀蒸发所形成的块状喷溅物喷出所述开口，所述导流部用于将所述蒸镀材料蒸发形成的气体导流出所述开口。2.根据权利要求1所述的坩埚，其特征在于，所述扩散单元包括至少一个扩散板，所述扩散板包括扩散板本体以及贯穿所述扩散板本体的至少一个通孔，所述至少一个扩散板的通孔形成所述导流部，所述至少一个扩散板的扩散板本体形成所述阻挡部。3.根据权利要求2所述的坩埚，其特征在于，所述坩埚埚体靠近所述开口的内壁上设有至少一个第一台阶，所述扩散单元设置在所述第一台阶上，当所述坩埚埚体具有多个第一台阶时，相邻两个所述第一台阶中靠近所述开口的第一台阶位于远离所述开口的第一台阶的外侧。4.根据权利要求2所述的坩埚，其特征在于，当所述扩散单元包括多个扩散板时，相邻的两个所述扩散板上的通孔相互错开。5.根据权利要求2所述的坩埚，其特征在于，当所述扩散单元包括多个扩散板时，相邻的两个所述扩散板中，靠近所述开口的扩散板中至少一个通孔的面积的总和不小于远离所述开口的扩散板中至少一个通孔的面积的总和。6.根据权利要求3-5任一所述的坩埚，其特征在于，所述扩散单元还包括引导环，所述引导环设置在所述第一台阶上，所述引导环的内壁上设有多个第二台阶，所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：裴泳鎭，杨帆，丁熙荣，金甲锡，
申请(专利权)人：合肥欣奕华智能机器有限公司，
类型：发明
国别省市：安徽,34