光源装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开一种光源装置，所述光源装置包含有基板、设置于基板的电极层与围墙、彼此间隔地安装于电极层的发光单元与光侦测器、及设置于围墙的透光件。所述围墙呈环形阶梯状、且包含有远离基板的上阶面、相连于上阶面内缘的上梯面、位于上梯面内侧的下阶面、及相连于下阶面内缘且远离上阶面的下梯面。所述下阶面与基板的距离小于所述上阶面与基板的距离。所述下梯面与基板包围形成有容置槽，并且围墙自下阶面与下梯面共同凹设形成有连通于容置槽的至少一个凹口。发光单元与光侦测器位于所述容置槽内。透光件设置于下阶面、并与上梯面之间呈间隔设置，以使至少一个所述凹口构成能够连通容置槽与外部空间的至少一个气流通道。

【技术实现步骤摘要】
光源装置
本技术涉及一种光源装置，特别涉及一种具有气流通道的光源装置。
技术介绍
现有雷射光源装置多采用TO-CAN封装，于近年来并未有大幅的结构改良，因而逐渐难以符合各式不同要求，例如3D感测所使用到的红外光源。于是，本专利技术人认为上述缺陷可改善，乃特潜心研究并配合科学原理的运用，终于提出一种设计合理且有效改善上述缺陷的本技术。
技术实现思路
本技术实施例在于提供一种光源装置，其能有效地改善现有光源装置体积过大和无法承载高功率的发光源所可能产生的缺陷。本技术实施例公开一种光源装置，包括：一基板，包含有位于相反侧的一第一板面与一第二板面；一电极层，设置于所述基板的所述第一板面；一围墙，设置于所述第一板面上；所述围墙呈环形阶梯状、且包含有：一上阶面，远离所述基板；一上梯面，相连于所述上阶面内缘；一下阶面，位于所述上梯面内侧，并且所述下阶面与所述第一板面的一距离小于所述上阶面与所述第一板面的一距离；一下梯面，相连于所述下阶面内缘且远离所述上阶面；其中，所述下梯面与所述第一板面包围形成有一容置槽，并且所述围墙自所述下阶面与所述下梯面共同凹设形成有连通于所述容置槽的至少一个凹口；一发光单元与一光侦本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种光源装置，其特征在于，所述光源装置包括：一基板，包含有位于相反侧的一第一板面与一第二板面；一电极层，设置于所述基板的所述第一板面；一围墙，设置于所述第一板面上；所述围墙呈环形阶梯状、且包含有：一上阶面，远离所述基板；一上梯面，相连于所述上阶面内缘；一下阶面，位于所述上梯面内侧，并且所述下阶面与所述第一板面的一距离小于所述上阶面与所述第一板面的一距离；及一下梯面，相连于所述下阶面内缘且远离所述上阶面；其中，所述下梯面与所述第一板面包围形成有一容置槽，并且所述围墙自所述下阶面与所述下梯面共同凹设形成有连通于所述容置槽的至少一个凹口；一发光单元与一光侦测器，彼此间隔地安装于所述电极层、并位于...

【技术特征摘要】
2018.08.08 US 62/715,8171.一种光源装置，其特征在于，所述光源装置包括：一基板，包含有位于相反侧的一第一板面与一第二板面；一电极层，设置于所述基板的所述第一板面；一围墙，设置于所述第一板面上；所述围墙呈环形阶梯状、且包含有：一上阶面，远离所述基板；一上梯面，相连于所述上阶面内缘；一下阶面，位于所述上梯面内侧，并且所述下阶面与所述第一板面的一距离小于所述上阶面与所述第一板面的一距离；及一下梯面，相连于所述下阶面内缘且远离所述上阶面；其中，所述下梯面与所述第一板面包围形成有一容置槽，并且所述围墙自所述下阶面与所述下梯面共同凹设形成有连通于所述容置槽的至少一个凹口；一发光单元与一光侦测器，彼此间隔地安装于所述电极层、并位于所述容置槽内；以及一透光件，设置于所述围墙的所述下阶面、并与所述上梯面之间呈间隔设置，以使至少一个所述凹口构成能够连通所述容置槽与一外部空间的至少一个气流通道。2.依据权利要求1所述的光源装置，其特征在于，所述围墙的至少一个所述凹口的数量为两个，并且两个所述凹口的位置彼此相向。3.依据权利要求1所述的光源装置，其特征在于，至少一个所述凹口包含有彼此相向的两个内侧壁、及位于两个所述内侧壁之间的一平底壁与一倾斜底壁；所述倾斜底壁的一侧与所述平底壁相连形成有超过90度的一夹角，并且所述倾斜底壁的另一侧与所述上梯面相连以构成夹角小于90度的一凹槽。4.依据权利要求1所述的光源装置，其特征在于，所述围墙包含有连接于所述上梯面与所述下阶面的至少一个倾斜面，至少一个所述倾斜面的一侧与所述下阶面相连形成有超过90度的一夹角，并且至少一个所述倾斜面的另一侧与所述上梯面共...

【专利技术属性】
技术研发人员：蔡心伟，陈怡如，曹侯焱，杨淑桦，苏渝宏，
申请(专利权)人：光宝光电常州有限公司，光宝科技股份有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏,32