极紫外光辐射源的控制方法技术

一种极紫外光(EUV)辐射源的控制方法，包括：以来自液滴照射模块的光照射标靶液滴，检测由标靶液滴反射及/或散射的光。此方法包括判定所检测的光强度是否介于可接受范围内。因应所检测的光强度未介于可接受范围内的判定，自动地调整液滴照射模块的参数，以使所检测的光强度落入可接受范围内。

Control Method of Extreme Ultraviolet Radiation Source

A control method of extreme ultraviolet (EUV) radiation source includes illuminating target droplets from the droplet irradiation module to detect light reflected and/or scattered by target droplets. This method includes determining whether the detected light intensity is within acceptable range. The parameters of the droplet irradiation module are automatically adjusted to make the detected light intensity fall within the acceptable range in response to the judgment that the detected light intensity is not within the acceptable range.

【技术实现步骤摘要】
极紫外光辐射源的控制方法
本公开涉及一种极紫外光(EUV)光源系统，特别涉及一种用以控制基于激光激发等离子体的极紫外光源中激光光束的时间的系统。
技术介绍
用于半导体制造中光刻的辐射波长已从紫外光降至深紫外光(deepultraviolet；DUV)，最近更降至极紫外光(extremeultraviolet；EUV)。此外，降低元件的尺寸需要更进一步改善光刻的分辨率，其可利用极紫外光刻(extremeultravioletlithography；EUVL)来实现。极紫外光刻利用波长为约1nm至约100nm的辐射。一种产生极紫外光辐射的方法是激光激发等离子体(laser-producedplasma；LPP)。在以激光激发等离子体为基础的极紫外光源中，高功率的激光光束是聚焦于金属标靶(例如锡)的小液滴上，以形成高度离子化的等离子体，放射出具有最大放射波峰为13.5nm的极紫外光辐射。由激光激发等离子体(LPP)产生的极紫外光辐射强度取决于高功率激光能从标靶液滴产生等离子体的效果。要使高功率激光脉冲的产生与液滴标靶的移动精确地同步，来改善以激光激发等离子体为基础的极紫外光辐射源的效率。
技术实现思路
本公开实施例提供一种极紫外光辐射源的控制方法，包括：以来自液滴照射模块的光照射标靶液滴，检测由标靶液滴反射及/或散射的光，判定所检测的光强度是否介于可接受范围内，以及如果判定所检测的光强度未介于可接受范围内，自动地调整液滴照射模块的参数，以使所检测的光强度落入可接受范围内。本公开实施例提供一种测量极紫外光源中标靶液滴速度的装置，包括：液滴照射模块、液滴检测模块、控制器、以及处理器。液滴照射模块包括辐射源，辐射源是用以在预定位置照射标靶液滴。液滴检测模块是用以检测由标靶液滴所反射及/或散射的辐射。控制器是耦接至液滴照射模块，且设计以判定液滴检测模块所检测的辐射强度是否介于强度的可接受范围内，并因应所检测的强度未介于可接受范围内的判定，自动地调整液滴照射模块的参数。处理器是用以基于液滴检测模块所检测辐射的时间来判定标靶液滴的速度。本公开实施例提供一种产生极紫外光辐射的装置，包括：液滴产生器、液滴照射模块、液滴检测模块以及控制器，其中液滴产生器是用以产生标靶液滴。液滴照射模块包括辐射源、可调式光圈、以及自动倾斜机构，辐射源是用以在预定位置照射标靶液滴。来自辐射源的辐射通过可调式光圈，且自动倾斜机构是耦接至辐射源。液滴检测模块是用以检测由标靶液滴反射及/或散射的辐射。控制器是设计以判定液滴检测模块所检测的辐射强度是否介于强度的可接受范围内，并因应所检测的强度未介于可接受范围内的判定，自动地调整液滴照射模块的参数。附图说明根据以下的详细说明并配合说明书附图以更加了解本公开实施例的概念。应注意的是，根据本产业的标准惯例，附图中的各种部件未必按照比例绘制。事实上，可能任意地放大或缩小各种部件的尺寸，以做清楚的说明。图1是根据本公开一些实施例的具有激光激发等离子体(LPP)极紫外光辐射源的极紫外光刻系统的示意图。图2A示意性地示出根据本公开实施例的装置，用以将产生激发脉冲与标靶液滴到达激发区同步。图2B示出液滴检测模块所检测的液滴信号及来自等离子体闪光的信号的模拟。图3示出根据本公开实施例的极紫外光源的液滴照射模块及/或液滴检测模块的控制方法的流程图。图4A示意性地示出根据本公开实施例的用来测量于极紫外光源中的标靶液滴速度的装置。图4B是根据本公开实施例的在图4A的装置中使用的狭缝控制机构的详细附图。图4C是根据本公开实施例的另一种在图4A的装置中使用的狭缝控制机构的详细附图。附图标记说明：100～极紫外光辐射源；105～腔室；110～收集器；115～标靶液滴产生器；117～喷嘴；200～曝光工具；300～激发激光源(激光源)；310～激光产生器；320～激光引导光学元件；330～聚焦装置；410～液滴照射模块；413～倾斜控制机构(自动倾斜)；414～光圈(阻障)；414’～虹膜式光圈；414a、414b、414c～狭缝；414a’～单狭缝；415～辐射源；417～狭缝控制机构(自动狭缝)；420～液滴检测模块；430～计时及能量测量模块(处理器)；450～控制器；BF～底层；DP～标靶液滴；DP1、DP2～阻尼器；EUV～极紫外光；L、R～光；LR1～激光；LR2～激发激光；P～位置；PP1、PP2～基座板；MF～主要楼层；S300～方法；S310、S320、S330、S340～操作；ZE～激发区。具体实施方式以下的公开内容提供许多不同的实施例或范例以实施本公开实施例的不同部件。以下叙述构件及配置的特定范例，以简化本公开实施例的说明。当然，这些特定的范例仅为示范并非用以限定本公开实施例。例如，在以下的叙述中提及第一部件形成于第二部件上或上方，即表示其可包含第一部件与第二部件是直接接触的实施例，亦可包含有附加部件形成于第一部件与第二部件之间，而使第一部件与第二部件可能未直接接触的实施例。另外，在以下的公开内容的不同范例中可能重复使用相同的参考符号及/或标记。这些重复是为了简化与清晰的目的，并非用以指定所讨论的不同实施例及/或结构之间的关系。此外，在此可使用与空间相关用词。例如“底下”、“下方”、“较低的”、“上方”、“较高的”及类似的用词，以便于描述附图中示出的一个元件或部件与另一个(些)元件或部件之间的关系。除了在附图中示出的方位外，这些空间相关用词意欲包含使用中或操作中的装置的不同方位。装置可能被转向不同方位(旋转90度或其他方位)，且在此使用的空间相关词也可依此做同样的解释。另外，用语“由…制成”可意指“包括”或“由…组成”。在本公开中，除非另有说明，片语“A、B及C的其中之一”意指“A、B及/或C”(A、B、C、A及B、A及C、B及C、或者是A、B及C)，而并非意指来自A的一元件、来自B的一元件以及来自C的一元件。一般而言，本公开涉及极紫外光(EUV)光刻系统及方法，特别涉及控制在以激光激发等离子体(LPP)为基础的极紫外光辐射源中使用的激发激光的装置及方法。激发激光加热位于激光激发等离子体腔室中的金属(例如锡)标靶液滴，以将液滴离子化成为等离子体，且等离子体放射出极紫外光辐射。为了最佳地加热标靶液滴，标靶液滴必须与来自激发激光的激发脉冲同时到达激发激光的焦点。因此，为了从激发层触发一激发脉冲，标靶液滴与触发时间之间的同步有助于激光激发等离子体的极紫外光辐射源的效率及稳定性。液滴照射模块及液滴检测模块是用以测量标靶液滴的速度。液滴照射模块(dropletilluminationmodule；DIM)将光引导至标靶液滴，且由液滴检测模块(dropletdetectionmodule；DDM)检测反射及/或散射的光。随后，信号传递至计时及能量测量模块(timingenergymeasurementmodule；TEM2)以判定预脉冲(Tfire)的发射时间。本公开实施例是针对于控制液滴的照光及检测，以准确地测量液滴的速度。图1是根据本公开一些实施例的具有以激光激发等离子体为基础的极紫外光辐射源的极紫外光刻系统的示意图。极紫外光刻系统包括极紫外光辐射源100、曝光工具200(例如扫描仪(scanner))以及激本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种极紫外光(EUV)辐射源的控制方法，包括：以来自一液滴照射模块的光照射一标靶液滴；检测由该标靶液滴反射及/或散射的光；判定所检测的该光的一强度是否介于一可接受范围内；以及如果判定所检测的该光的该强度未介于强度的该可接受范围内，自动地调整该液滴照射模块的一参数，以使所检测的该光的该强度落入该可接受范围内。

【技术特征摘要】
2017.09.29 US 62/565,802;2018.07.06 US 16/029,4081.一种极紫外光(EUV)辐射源的控制方法，包括：以来自一...

【专利技术属性】
技术研发人员：钟仁阳，谢劼，简上杰，陈立锐，郑博中，
申请(专利权)人：台湾积体电路制造股份有限公司，
类型：发明
国别省市：中国台湾,71