温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

一种极紫外光(EUV)辐射源的控制方法，包括：以来自液滴照射模块的光照射标靶液滴，检测由标靶液滴反射及/或散射的光。此方法包括判定所检测的光强度是否介于可接受范围内。因应所检测的光强度未介于可接受范围内的判定，自动地调整液滴照射模块的参数，...
该专利属于台湾积体电路制造股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过台湾积体电路制造股份有限公司授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。