一种显示面板的制作方法和显示面板技术

本发明专利技术公开了一种显示面板的制作方法和显示面板。一种显示面板的制作方法，包括：在基板上依次形成第一金属层、缓冲层和氧化物膜层；通过半色调掩膜在所述氧化物膜层上形成栅极绝缘层；在所述栅极绝缘层上形成第二层金属，并通过同一道光罩制程蚀刻第二层金属得到栅极层、以及通过氧化物膜层连接的源极层和漏极层；在所述栅极层、源极层和漏极层的上方依次形成钝化层和透明电极层。本方案减少了一道光罩,由七道光罩变为六道光罩,节省一道曝光显影时间，达到节约成本及提升产能的目的。

A Method of Making Display Panel and Display Panel

The invention discloses a method for making a display panel and a display panel. A method for fabricating a display panel includes: forming a first metal layer, a buffer layer and an oxide film layer on the substrate in turn; forming a gate insulating layer on the oxide film through a halftone mask; forming a second metal layer on the gate insulating layer, etching a second metal layer through the same mask fabrication process to obtain a gate layer and a source connected by the oxide film layer. A passivation layer and a transparent electrode layer are formed above the gate layer, the source layer and the drain layer in turn. This scheme reduces one light mask from seven to six light masks, saves one exposure development time, and achieves the goal of saving cost and increasing production capacity.

【技术实现步骤摘要】
一种显示面板的制作方法和显示面板
本专利技术涉及显示
，尤其涉及一种显示面板的制作方法和显示面板。
技术介绍
随着科技的发展和进步，液晶显示器由于具备机身薄、省电和辐射低等热点而成为显示器的主流产品，得到了广泛应用。现有市场上的液晶显示器大部分为背光型液晶显示器，其包括液晶面板及背光模组(backlightmodule)。液晶面板的工作原理是在两片平行的玻璃基板当中放置液晶分子，并在两片玻璃基板上施加驱动电压来控制液晶分子的旋转方向，以将背光模组的光线折射出来产生画面。目前IGZO(铟镓锌氧化物)技术已得到广泛的研究及应用，常见的IGZO结构有三种，BCE(backchanneletch，背沟道刻蚀)结构，ESL(etchstopperlayer，刻蚀阻挡层)结构，Self-alignedTopGate(自对准的顶栅)结构，其中，BCE结构因是背沟道蚀刻，会产生背沟道损坏,影响TFT器件稳定性，ESL结构可以对背沟道进行保护，但不适合做短沟道结构，并且有较大的寄生电容,顶栅型可以做短沟道结构并且有极小的寄生电容，但光罩会多一道。
技术实现思路
鉴于上述问题，本专利技术所要解决的技术本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种显示面板的制作方法，其特征在于，包括：在基板上依次形成第一金属层、缓冲层和氧化物膜层；通过半色调掩膜在所述氧化物膜层上形成栅极绝缘层；在所述栅极绝缘层上形成第二层金属，并通过同一道光罩制程蚀刻第二层金属得到栅极层、以及通过氧化物膜层连接的源极层和漏极层；在所述栅极层、源极层和漏极层的上方依次形成钝化层和透明电极层。

【技术特征摘要】
1.一种显示面板的制作方法，其特征在于，包括：在基板上依次形成第一金属层、缓冲层和氧化物膜层；通过半色调掩膜在所述氧化物膜层上形成栅极绝缘层；在所述栅极绝缘层上形成第二层金属，并通过同一道光罩制程蚀刻第二层金属得到栅极层、以及通过氧化物膜层连接的源极层和漏极层；在所述栅极层、源极层和漏极层的上方依次形成钝化层和透明电极层。2.如权利要求1所述的一种显示面板的制作方法，其特征在于，所述通过半色调掩膜在所述氧化物膜层上形成栅极绝缘层，在所述栅极绝缘层上形成第二层金属，并通过同一道光罩制程蚀刻第二层金属得到栅极层、以及通过氧化物膜层连接的源极层和漏极层的步骤包括：通过半色调掩膜在所述氧化物膜层上形成包括中部、第一侧部、第二侧部和镂空部的栅极绝缘层，所述栅极绝缘层的中部高度高于第一侧部和第二侧部的高度，所述镂空部分别形成在中部和第一侧部，以及中部和第二侧部之间；在栅极绝缘层上形成第二层金属；通过同一道光罩制程蚀刻第二层金属，得到位于栅极绝缘层的中部上方的栅极层；同时，得到位于所述栅极绝缘层第一侧部上方的源极层，以及第二侧部上方的漏极层；形成的所述源极层和漏极层，与所述栅极层绝缘。3.如权利要求2所述的一种显示面板的制作方法，其特征在于，所述通过同一道光罩制程蚀刻第二层金属，得到位于栅极绝缘层的中部上方的栅极层的步骤中，所述栅极层位于所述中部上方的中间位置，且所述栅极层的宽度小于中部的宽度。4.如权利要求1所述的一种显示面板的制作方法，其特征在于，所述在基板上依次形成第一金属层、缓冲层和氧化物膜层的步骤包括：在基板上形成第一层金属，并通过一道光罩蚀刻第一层金属形成第一金属层；在所述第一金属层上沉积形成缓冲沉积层，并在缓冲沉积层上沉积形成氧化物膜沉积层；通过同一道光罩制程蚀刻缓冲沉积层和氧化物膜沉积层，得到覆盖第一金属层四周的缓冲层和氧化物膜层。5.如权利要求1所述的一种显示面板的制作方法，其特征在于，所述在基板上依次形成第一金属层、缓冲层和氧化物膜层包括：在基板上得到第一层金属，并通过一道光罩蚀刻形成第一金属层；在所述第一金属层上沉积形成缓冲沉积层，并在缓冲层上沉积形成氧化物膜沉积层；通过一道光罩形成缓冲层和氧化物膜层；所述第一金属层、缓冲层和氧化物膜层的宽度相当。6.一种显示面板的制作方法，其特征在于，包括：在基板上形成第一层金属...

【专利技术属性】
技术研发人员：杨凤云，卓恩宗，
申请(专利权)人：惠科股份有限公司，
类型：发明
国别省市：广东,44