计算方法、曝光方法、存储介质以及曝光装置制造方法及图纸

本发明专利技术涉及计算方法、曝光方法、存储介质以及曝光装置。本发明专利技术提供了一种计算在基板的曝光期间由于热量而变化的投影光学系统的光学特性的计算方法，该方法包括：针对投影光学系统的物平面上的多个测量点，在不同的测量时刻处测量像点位置；以及基于在针对所述多个测量点中的每个测量点的所述测量中测量的像点位置和所述多个测量点中的每个测量点的测量时刻，计算所述光学特性。

【技术实现步骤摘要】
计算方法、曝光方法、存储介质以及曝光装置
本专利技术涉及计算投影光学系统的光学特性的计算方法、曝光方法、存储介质、曝光装置以及制造物品的方法。
技术介绍
在半导体器件等的制造步骤(光刻步骤)中使用的装置之一是曝光装置，曝光装置经由投影光学系统对基板进行曝光并且将原版的图案转印到基板上的投射区域(shotregion)。在这种曝光装置中，在基板的曝光期间，一部分曝光光(exposurelight)在投影光学系统中被吸收，并且因此在吸收所产生的热量的影响下投影光系统的光学特性发生变化。结果，可能变得难以精确地将原版的图案转印到基板。日本专利公开No.2001-160533提出了一种通过使用以曝光量、曝光时间等作为变量的预测公式预测投影光学系统的光学特性并且基于预测值控制投影光学系统的光学特性的方法。日本专利公开No.63-58349提出了基于实际测量投影光学系统的光学特性的结果优化(校正)预测公式以便减小预测值中产生的误差的方法。为了优化预测公式而对投影光学系统的光学特性进行的实际测量可以通过在光学特性变化的时段中(例如在基板曝光结束后)针对投影光系统的物平面上的多个测量点(物点)中的每个测量点(物点)依次测量像点位置来执行。然而，在这种情况下，各个测量点处的测量是在投影光学系统的光学特性不同的定时处执行的。因此，除非考虑根据各个测量点处的测量定时而不同的投影光学系统的光学特性，否则预测公式的优化可能是不充分的，这使得难以精确地预测投影光学系统的光学特性。
技术实现思路
本专利技术提供了例如在精确地预测投影光学系统的光学性能方面具有优势的技术。根据本专利技术的一个方面，提供了一种计算在基板的曝光期间由于热量而变化的投影光学系统的光学特性的计算方法，该方法包括：针对投影光学系统的物平面上的多个测量点，在不同的测量时刻处测量像点位置；以及基于在针对所述多个测量点中的每个测量点的所述测量中测量的像点位置和所述多个测量点中的每个测量点的测量时刻，计算所述光学特性。根据本专利技术的一个方面，提供了一种曝光基板的曝光方法，该方法包括：通过使用计算方法，计算在基板的曝光期间由于热量而变化的投影光学系统的光学特性；以及在基于所计算的光学特性改变所述光学特性的同时，经由投影光学系统对基板进行曝光，其中所述计算方法包括：针对投影光学系统的物平面上的多个测量点，在不同的测量时刻处测量像点位置；以及基于在针对所述多个测量点中的每个测量点的所述测量中测量的像点位置和所述多个测量点中的每个测量点的测量时刻，计算所述光学特性。根据本专利技术的一个方面，提供了一种非暂时性计算机可读存储介质，存储用于使计算机执行计算方法的每个步骤的程序，所述计算方法计算在基板的曝光期间由于热量而变化的投影光学系统的光学特性，包括：针对投影光学系统的物平面上的多个测量点，在不同的测量时刻处测量像点位置；以及基于在针对所述多个测量点中的每个测量点的所述测量中测量的像点位置和所述多个测量点中的每个测量点的测量时刻，计算所述光学特性。根据本专利技术的一个方面，提供了一种曝光装置，该曝光装置经由投影光学系统对基板进行曝光，包括：测量单元，被配置为测量投影光学系统的像点位置；改变单元，被配置为改变投影光学系统的光学特性；以及控制器，被配置为控制改变单元，其中，所述控制器：使测量单元针对投影光学系统的物平面上的多个测量点在不同的测量时刻处测量像点位置；基于针对所述多个测量点中的每个测量点测量的像点位置和所述多个测量点中的每个测量点的测量时刻，计算所述光学特性；以及基于所计算的光学特性控制改变单元。根据本专利技术的一个方面，提供了一种制造物品的方法，该方法包括：使用曝光装置对基板进行曝光；对经曝光的基板进行显影；以及对经显影的基板进行处理以制造物品，其中，所述曝光装置经由投影光学系统对基板进行曝光并且包括：测量单元，被配置为测量投影光学系统的像点位置；改变单元，被配置为改变投影光学系统的光学特性；以及控制器，被配置为控制改变单元，其中，所述控制器：使测量单元针对投影光学系统的物平面上的多个测量点在不同的测量时刻处测量像点位置；基于针对所述多个测量点中的每个测量点测量的像点位置和所述多个测量点中的每个测量点的测量时刻，计算所述光学特性；以及基于所计算的光学特性控制改变单元。通过参照附图阅读示例性实施例的以下描述，本专利技术的进一步特征将变得清楚。附图说明图1A是示出了根据第一实施例的曝光装置的示意图；图1B是示出了测量图案的布置的示例的图；图2示出了曝光时间与光学特性的变化量之间的关系的曲线图，以及曝光光的强度与曝光时间之间的关系的曲线图；图3A是示出了第一测量点的测量定时处的投影区域的图；图3B是示出了第二测量点的测量定时处的投影区域的图；图3C是示出了第三测量点的测量定时处的投影区域的图；图3D是示出了第四测量点的测量定时处的投影区域的图；图4是示出了在不同的测量定时处执行各个测量点处的像点位置的测量的情况下的测量结果的图；图5是示出了预测公式的确定方法的流程图；图6是示出了多个测量点的布置的示例的图；图7A是示出了被分配到第一组的测量点的示例的图；图7B是示出了被分配到第二组的测量点的示例的图；图7C是示出了被分配到第三组的测量点的示例的图；图8是示出了在曝光步骤之间对于每个组执行测量步骤的情况下投影光学系统的光学特性的变化量的曲线图；以及图9是示出了在曝光步骤之后在所有测量点处执行测量的情况下投影光学系统的光学特性的变化量的曲线图。具体实施方式下面将参照附图描述本专利技术的示例性实施。注意，在所有附图中相同的附图标记表示相同的构件，并且将不给出对它们的重复描述。<第一实施例>将参照图1A描述根据本专利技术的第一实施例的曝光装置100。图1A是示出了根据第一实施例的曝光装置100的示意图。曝光装置100可以包括例如保持原版1(掩模)的原版台架2、投影光学系统3、在保持基板4的同时可以移动的基板台架5、照明光学系统6以及控制器7。控制器7包括例如CPU和存储器，并且控制将原版1的图案转印到基板4上的投射区域的曝光处理(控制曝光装置100的各个单元)。照明光学系统6通过使用系统中包括的诸如掩蔽片(maskingblade)之类的遮光构件来对从光源(未示出)发出的光进行整形，并且用整形后的光对图案区域(包括电路图案的区域)进行照明。原版1和基板4可以分别由原版台架2和基板台架5保持，并且经由投影光学系统3定位在光学上几乎共轭的位置(投影光学系统3的物平面和像平面)。投影光学系统3将原版1的图案投影到基板4(投射区域)上。在如此构造的曝光装置100中，一部分曝光光在投影光学系统3中被吸收，并且因此在吸收所产生的热量的影响下，投影光学系统3的光学特性(例如，诸如畸变之类的光学像差)可能随着曝光时间而变化。例如，当如图2的下面的曲线图中所示用具有预定强度的曝光光执行曝光处理时，投影光学系统3的光学特性可以如图2的上面的曲线图中所示的那样关于曝光时间呈指数地变化。因此可能变得难以在曝光装置100中精确地将原版1的图案转印到投射区域，除非考虑投影光学系统3的光学特性的这种变化量。在曝光装置100中，预测在基板4的曝光期间由于热量而变化的投影光学系统3的光学特性，并且在基于此预测值改变(校正)投影光学本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种计算方法，计算在基板的曝光期间由于热量而变化的投影光学系统的光学特性，其特征在于，该计算方法包括：针对投影光学系统的物平面上的多个测量点，在不同的测量时刻测量像点位置；以及基于在针对所述多个测量点中的每个测量点的所述测量中测量的像点位置和所述多个测量点中的每个测量点的测量时刻，计算所述光学特性。

【技术特征摘要】
2017.09.21 JP 2017-1814721.一种计算方法，计算在基板的曝光期间由于热量而变化的投影光学系统的光学特性，其特征在于，该计算方法包括：针对投影光学系统的物平面上的多个测量点，在不同的测量时刻测量像点位置；以及基于在针对所述多个测量点中的每个测量点的所述测量中测量的像点位置和所述多个测量点中的每个测量点的测量时刻，计算所述光学特性。2.根据权利要求1所述的计算方法，其中，在所述计算中，基于在所述测量中测量的每个像点位置以及通过使用预测公式和所述多个测量点中的每个测量点的测量时刻预测的每个像点位置，确定所述预测公式的系数，其中所述预测公式用于预测像点位置的时间率变化；并且通过使用所确定的所述预测公式的系数来计算所述光学特性。3.根据权利要求2所述的计算方法，其中，所述预测公式是通过包含透过投影光学系统的光量和投影光学系统的时间常数作为参数的时间函数表示的。4.根据权利要求1所述的计算方法，其中，在所述光学特性变化的时段内执行所述测量。5.根据权利要求4所述的计算方法，其中，在经由投影光学系统对基板进行曝光之后，在所述曝光中产生的光学特性的变化量减小的时段内，执行所述测量。6.根据权利要求5所述的计算方法，其中所述多个测量点被分配到包括第一组和第二组的多个组，并且在针对第一组的所述测量和针对第二组的所述测量之间执行所述曝光。7.根据权利要求1所述的计算方法，其中，在透过投影光学系统的光量小于在基板的曝光期间的光量的状态下，执行所述测量。8.一种曝光基板的曝光方法，其特征在于，该曝光方法包括：通过使用计算方法，计算在基板的曝光期间由于热量而变化的投影光学系统的光学特性；以及在基于所计算的光学特性改变所述光学特性的同时，经由投影光学系统对基板进行曝光，其中，所述计算方法包括：针对投影光学系统...

【专利技术属性】
技术研发人员：荒原幸士郎，
申请(专利权)人：佳能株式会社，
类型：发明
国别省市：日本,JP