曝光装置、基板处理装置、曝光方法以及基板处理方法制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种曝光装置、基板处理装置、曝光方法以及基板处理方法。通过排气部开始排出处理室内的气体，在从开始排出气体起经过预定的时间后，通过供气部开始向处理室内供给非活性气体。或者，通过排气部排出容纳有基板的处理室内的气体，通过供气部向处理室内供给非活性气体，使具有透光板的投光部内的压力与处理室内的压力一致或者接近。在处理室内的气体中的氧浓度降低至预定的浓度的状态下，通过投光部向处理室内的基板照射真空紫外线，从而使基板曝光。

【技术实现步骤摘要】
曝光装置、基板处理装置、曝光方法以及基板处理方法
本专利技术涉及对基板进行曝光处理的曝光装置、基板处理装置、曝光方法以及基板处理方法。
技术介绍
近年来，为了将形成于基板的图案微细化，正在开发利用嵌段共聚物的定向自组装化(DSA：DirectedSelfAssembly)的光刻技术。在这种光刻技术中，在对涂覆有嵌段共聚物的基板进行加热处理后，通过使基板的一面曝光，从而对嵌段共聚物进行改质。在该处理中，要求准确地调整基板的曝光量。在日本特开2016-183990号公报中记载了对基板上包含定向自组装化材料的膜(DSA膜)进行曝光处理的曝光装置。曝光装置具有能够射出截面呈带状的真空紫外线的光射出部，能够使基板以横切来自光射出部的真空紫外线的路径的方式从光射出部的前方位置向后方位置移动。在进行曝光处理前，预先通过照度传感器检测真空紫外线的照度，为了照射所希望的曝光量的真空紫外线，基于检测出的照度计算出基板的移动速度。在进行曝光处理时，基板以计算出的移动速度移动，从而向基板上的DSA膜照射所希望的曝光量的真空紫外线。
技术实现思路
在进行曝光处理时，若在向基板照射的真空紫外线的路径中存在氧气，则接收到真空紫外线的氧分子会分离成氧原子，并且分离的氧原子与其他氧分子再结合而产生臭氧。在该情况下，到达基板的真空紫外线衰减。因此，在日本特开2016-183990号公报中，为了将曝光处理中的氧浓度降低至1％以下，排出曝光装置的壳体内的气体。然而，由于排出氧分子需要较长时间，因此，会降低基板的曝光处理的效率。本专利技术的目的在于，提供能够提高基板的曝光处理的效率的曝光装置、基板处理装置、曝光方法以及基板处理方法。(1)本专利技术的一个方式的曝光装置，具有：处理室，容纳基板；载置部，在处理室内载置基板；第一排气部，用于排出处理室内的气体；第一供气部，用于向处理室内供给非活性气体；投光部，射出真空紫外线；第一供气控制部，控制第一供气部，以使在从通过第一排气部开始排出处理室内的气体起经过预定的第一时间后，开始向处理室内供给非活性气体；投光控制部，控制投光部，以使在处理室内的气体中的氧浓度降低至预定的浓度的状态下，向处理室内的基板照射真空紫外线，从而使基板曝光；以及驱动部，使载置部在第一位置以及第二位置之间移动，以使在向处理室内搬入基板以及向处理室外搬出基板时，载置部位于处理室内的第一位置，在利用投光部向基板照射真空紫外线时，载置部位于比第一位置更靠近投光部的第二位置。在该曝光装置中，通过驱动部使载置部向处理室内的第一位置移动。在该状态下，向处理室内搬入基板，并将其载置于载置部。其中，通过第一排气部开始排出处理室内的气体。从开始排出气体起经过预定的第一时间后，通过第一供气部开始向处理室内供给非活性气体。在该情况下，处理室内的气体被置换为非活性气体，氧浓度降低。在处理室内的气体中的氧浓度降低至预定的浓度的情况下，通过驱动部使载置部向比第一位置更靠近投光部的第二位置移动。另外，通过投光部向处理室内的基板照射真空紫外线。由此，使基板曝光而几乎不会产生臭氧。然后，通过驱动部使载置部向第一位置移动，从处理室内搬出基板。根据该结构，通过使载置部向第一位置移动，能够易于在处理室内与外部之间交接基板而不干扰投光部。另外，当从投光部向基板照射真空紫外线时，通过使载置部向第二位置移动，能够在投光部与基板接近的状态下使基板高效地曝光。而且，从开始排出处理室内的气体起经过第一时间后，开始向处理室内供给非活性气体。在该情况下，在供给非活性气体前，将处理室内的氧气与其他气体一起排出至处理室外。由此，处理室内的压力降低，并且氧气量降低。然后，向处理室内供给非活性气体，使残留在处理室内的少量氧气与非活性气体一起排出至处理室外。因此，在向处理室内搬入基板后，处理室内的气体中的氧浓度在短时间内降低。由此，能够在搬入基板后的短时间内开始基板的曝光。其结果，能够提高基板的曝光处理的效率。(2)曝光装置还可以具有排气控制部，该排气控制部控制第一排气部，以使在从通过第一供气部开始向处理室内供给非活性气体起经过预定的第二时间后，停止排出处理室内的气体。在该情况下，在停止排出处理室内的气体的状态下，进一步向处理室内供给非活性气体。由此，使处理室内的气体中的氧浓度进一步降低，从而能够更加有效地防止臭氧的产生。(3)投光部可以配置在载置部的上方，向下方射出真空紫外线，第二位置可以位于投光部的下方，第一位置可以位于第二位置的下方，驱动部可以使载置部在第一位置与第二位置之间升降。在该情况下，能够在处理室内与外部之间高效地交接基板。(4)驱动部可以使载置部移动，以使在通过第一排气部排出处理室内的气体时，载置部位于比第一位置更靠近上方且比第二位置更靠近下方的第三位置。在该情况下，由于第三位置的载置部的上方以及下方的空间较大，因此，氧气难以滞留。由此，能够高效地排出氧气。(5)第一排气部可以在处理室内具有排出气体的排气口，第一供气部在处理室内具有供给非活性气体的供气口，排气口配置在第三位置的上方和下方中的一方，供气口配置在第三位置的上方和下方中的另一方。在该情况下，在第三位置的载置部的上方以及下方的空间形成非活性气体的气流。由此，能够更加高效地排出氧气。(6)排气口可以配置在第三位置的下方，供气口可以配置在第三位置的上方。在该情况下，能够直接向第三位置的载置部的上方的空间供给非活性气体。由此，能够更加高效地排出载置部与投光部之间的氧气，能够在搬入基板后的短时间内开始基板的曝光。(7)排气口和供气口可以配置为隔着第三位置。在该情况下，形成沿第三位置的载置部的周围空间的非活性气体的气流。由此，能够更加高效地排出氧气。(8)曝光装置可以在处理室内还具有沿上下方向延伸的多个支撑构件，多个支撑构件的上端高于第一位置且低于第二位置，载置部具有能够使多个支撑构件通过的多个通孔，在载置部位于第一位置时，多个支撑构件贯穿载置部的多个通孔。在该情况下，多个支撑构件能够在高于第一位置且低于第二位置的上端支撑搬入至处理室内的基板。因此，通过使载置部从第一位置上升，能够易于将基板载置于载置部。另外，通过使载置部从第二位置下降，能够易于将基板支撑在多个支撑构件的上端。由此，能够易于将基板从多个支撑构件的上端向处理室外搬出。(9)曝光装置还可以具有压力控制部，该压力控制部控制投光部内的压力，以使投光部内的压力与处理室内的压力一致或者接近，投光部具有透光性的窗构件，通过窗构件向处理室内的基板照射真空紫外线。在该情况下，从投光部通过窗构件向处理室内的基板照射真空紫外线。其中，控制投光部内的压力，以使投光部内的压力与处理室内的压力一致或者接近，因此，即使在向处理室内供气之前进行处理室内的气体的排出的情况下，也几乎不会产生处理室内与投光部内的压力差。因此，可防止在窗构件上产生应力。由此，可延长窗构件的寿命。另外，由于无需增大窗构件的厚度，因此，可提高窗构件的透光率。其结果，能够提高基板的曝光处理的效率。(10)压力控制部可以包括：第二排气部，用于排出投光部内的气体；第二供气部，用于向投光部内供给非活性气体；以及第二供气控制部，控制第二供气部，以使在从通过第二排气部开始排出投光部内的气体起经过第一时间后，开始向投光部内供给非活性气体本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种曝光装置，其中，具有：处理室，容纳基板；载置部，在所述处理室内载置基板；第一排气部，用于排出所述处理室内的气体；第一供气部，用于向所述处理室内供给非活性气体；投光部，射出真空紫外线；第一供气控制部，控制所述第一供气部，以使在从通过所述第一排气部开始排出所述处理室内的气体起经过预定的第一时间后，开始向所述处理室内供给非活性气体；投光控制部，控制所述投光部，以使在所述处理室内的气体中的氧浓度降低至预定的浓度的状态下，向所述处理室内的基板照射真空紫外线，从而使基板曝光；以及驱动部，使所述载置部在所述第一位置以及所述第二位置之间移动，以使在向所述处理室内搬入基板以及向所述处理室外搬出基板时，所述载置部位于所述处理室内的第一位置，在利用所述投光部向基板照射真空紫外线时，所述载置部位于比所述第一位置更靠近所述投光部的第二位置。

【技术特征摘要】
2017.09.21 JP 2017-181527;2017.09.21 JP 2017-181521.一种曝光装置，其中，具有：处理室，容纳基板；载置部，在所述处理室内载置基板；第一排气部，用于排出所述处理室内的气体；第一供气部，用于向所述处理室内供给非活性气体；投光部，射出真空紫外线；第一供气控制部，控制所述第一供气部，以使在从通过所述第一排气部开始排出所述处理室内的气体起经过预定的第一时间后，开始向所述处理室内供给非活性气体；投光控制部，控制所述投光部，以使在所述处理室内的气体中的氧浓度降低至预定的浓度的状态下，向所述处理室内的基板照射真空紫外线，从而使基板曝光；以及驱动部，使所述载置部在所述第一位置以及所述第二位置之间移动，以使在向所述处理室内搬入基板以及向所述处理室外搬出基板时，所述载置部位于所述处理室内的第一位置，在利用所述投光部向基板照射真空紫外线时，所述载置部位于比所述第一位置更靠近所述投光部的第二位置。2.根据权利要求1所述的曝光装置，其中，所述曝光装置还具有排气控制部，该排气控制部控制所述第一排气部，以使在从通过所述第一供气部开始向所述处理室内供给非活性气体起经过预定的第二时间后，停止排出所述处理室内的气体。3.根据权利要求1或2所述的曝光装置，其中，所述投光部配置在所述载置部的上方，向下方射出真空紫外线，所述第二位置位于所述投光部的下方，所述第一位置位于所述第二位置的下方，所述驱动部使所述载置部在所述第一位置与所述第二位置之间升降。4.根据权利要求3所述的曝光装置，其中，所述驱动部使所述载置部移动，以使在通过所述第一排气部排出所述处理室内的气体时，所述载置部位于比所述第一位置更靠近上方且比所述第二位置更靠近下方的第三位置。5.根据权利要求4所述的曝光装置，其中，所述第一排气部在所述处理室内具有排出气体的排气口，所述第一供气部在所述处理室内具有供给非活性气体的供气口，所述排气口配置在所述第三位置的上方和下方中的一方，所述供气口配置在所述第三位置的上方和下方中的另一方。6.根据权利要求3至5中任一项所述的曝光装置，其中，在所述处理室内还具有沿上下方向延伸的多个支撑构件，所述多个支撑构件的上端高于所述第一位置且低于所述第二位置，所述载置部具有能够使所述多个支撑构件通过的多个通孔，在所述载置部位于所述第一位置时，所述多个支撑构件贯穿所述载置部的所述多个通孔。7.根据权利要求1至6中任一项所述的曝光装置，其中，所述曝光装置还具有压力控制部，该压力控制部控制所述投光部内的压力，以使所述投光部内的压力与所述处理室内的压力一致或者接近，所述投光部具有透光性的窗构件，通过所述窗构件向所述处理室内的基板照射真空紫外线。8.根据权利要求7所述的曝光装置，其中，所述压力控制部包括：第二排气部，用于排出所述投光部内的气体；第二供气部，用于向所述投光部内供给非活性气体；以及第二供气控制部，控制所述第二供气部，以使在从通过所述第二排气部开始排出所述投光部内的气体起经过所述第一时间后，开始向所述投光部内供给非活性气体。9.根据权利要求7所述的曝光装置，其中，所述压力控制部包括：连接部，使所述处理室的内部空间与所述投光部的内部空间连接；以及第二供气部，向所述投光部内供给非活性气体。10.一种基板处理装置，其中，具有：涂覆处理部，通过在基板上涂覆处理液，在基板上形成膜；热处理部，对通过所述涂覆处理部形成有膜的基板进行热处理；权利要求1～9中任一项所述的曝光装置，使通过所述热处理部进行了热处理的基板曝光；以及显影处理部，通过向由所述曝光装置曝光的基板供给溶剂，使基板的膜显影。11.一种曝光方法，其中，包括：通过驱动部使载置部向处理室内的第一位置移动的步骤；向所述处理室内搬入基板，并将所述基板载置于所述载置部的步骤；通过第一排气部开始排出所述处理室内的气体的步骤；在从通过所述第一排气部开始排出所述处理室内的气体起经过预定的第一时间后，通过第一供气部开始向所述处理室内供给非活性气体的步骤；在所述处理室内的气体中的氧浓度降低至预定的浓度的状态下，通过所述驱动部使所述载置部向比所述第一位置更靠近投光部的第二位置移动的步骤；通过所述投光部向所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：中山知佐世，田中裕二，春本将彦，浅井正也，福本靖博，金山幸司，
申请(专利权)人：株式会社斯库林集团，
类型：发明
国别省市：日本,JP