【技术实现步骤摘要】
一种物理气相沉积装置
本技术涉及磁控溅射镀膜
，尤其涉及一种物理气相沉积装置。
技术介绍
闭合场非平衡磁控溅射离子镀膜设备，可优化镀膜沉积条件，沉积出致密的具有优良结合力的硬质镀层和各种固体润滑镀层。传统的磁控溅射镀膜的优点是工艺较易控制、膜层表面光滑，缺点是离化率低，膜的致密度低，膜基结合力差。因此，如果提高磁控溅射镀膜的离化率，提高膜的致密度和膜基结合力是一个亟待解决的问题。
技术实现思路
本技术的目的是针对以上不足之处，提供了一种物理气相沉积装置，解决磁控溅射镀膜的离化率低、膜的致密度低、膜基结合力差的问题。本技术解决的技术问题所采用的方案是：一种物理气相沉积装置，包括不锈钢腔体、冷却夹套、工件架、进气口、抽气口和磁靶，所述冷却夹套安装在所述不锈钢腔体外侧，所述不锈钢腔体为圆柱体，所述不锈钢腔体一侧的顶部开设所述进气口，所述不锈钢腔体另一侧的底部开设所述抽气口，所述磁靶包括磁钢和靶面，所述靶面设置在所述磁钢的外侧，所述磁钢并排设置有三个，相邻磁钢的磁极相反，所述磁靶共有四个，四个所述磁靶设置在所述不锈钢腔体内的同一水平高度上，四个所述磁靶的靶面两两相对设置，使得四个所述磁靶可形成一个正方形，相邻磁靶的磁钢磁极相反，所述工件架安装于四个所述磁靶的连线交点处。进一步地，所述抽气口与分子泵连接。进一步地，所述工件架与机械泵连接，所述工件架在所述机械泵的驱动下保持匀速转动。进一步地，所述冷却夹套中通有冷却水，所述冷却水的温度为18℃-25℃。本技术的有益效果是：采用封闭磁场，并合理分配磁场空间内的磁场强度，使电子在飞行过程中与中性粒子碰撞的机会增大，大大提高镀...
【技术保护点】
1.一种物理气相沉积装置，其特征在于，包括不锈钢腔体、冷却夹套、工件架、进气口、抽气口和磁靶，所述冷却夹套安装在所述不锈钢腔体外侧，所述不锈钢腔体为圆柱体，所述不锈钢腔体一侧的顶部开设所述进气口，所述不锈钢腔体另一侧的底部开设所述抽气口，所述磁靶包括磁钢和靶面，所述靶面设置在所述磁钢的外侧，所述磁钢并排设置有三个，相邻磁钢的磁极相反，所述磁靶共有四个，四个所述磁靶设置在所述不锈钢腔体内的同一水平高度上，四个所述磁靶的靶面两两相对设置，使得四个所述磁靶可形成一个正方形，相邻磁靶的磁钢磁极相反，所述工件架安装于四个所述磁靶的连线交点处。
【技术特征摘要】
1.一种物理气相沉积装置，其特征在于，包括不锈钢腔体、冷却夹套、工件架、进气口、抽气口和磁靶，所述冷却夹套安装在所述不锈钢腔体外侧，所述不锈钢腔体为圆柱体，所述不锈钢腔体一侧的顶部开设所述进气口，所述不锈钢腔体另一侧的底部开设所述抽气口，所述磁靶包括磁钢和靶面，所述靶面设置在所述磁钢的外侧，所述磁钢并排设置有三个，相邻磁钢的磁极相反，所述磁靶共有四个，四个所述磁靶设置在所述不锈钢腔体内的同一水平高度上，四个所述磁靶的靶面两两相对设...
【专利技术属性】
技术研发人员：李颖，
申请(专利权)人：毅砺上海节能环保科技有限公司，
类型：新型
国别省市：上海,31
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