【技术实现步骤摘要】
成膜用基板以及旋转成膜装置
本技术涉及一种成膜用基板以及旋转成膜装置，具体涉及一种利用成膜用基板的粗糙面部来抑制在旋转成膜时成膜用基板与掩模之间的相对滑动的成膜用基板以及旋转成膜装置。
技术介绍
对于通常的并非旋转成膜的蒸镀成膜等而言，在进行蒸镀成膜时，在进行作为成膜对象的基板与掩模的对位等之后，在使所述基板和掩模不移动的状态下进行蒸镀成膜，在成膜完成后，移出所述基板。相比之下，当在旋转成膜装置中进行旋转成膜时，在通常为真空腔室的成膜室内，在使成膜用基板与掩模贴合的状态下，使所述成膜用基板与掩模一起绕与所述成膜用基板和掩模的表面垂直的旋转轴旋转，使例如来自蒸镀源或溅射源等的粒子穿过在所述掩模上形成的开口部，从而在所述成膜用基板上形成规定图案的膜。在所述旋转成膜装置中，可以在成膜用基板的与所述掩模相反的一侧的表面配置有冷却板，借助该冷却板，粒子在所述成膜用基板的成膜面侧的表面冷却而形成规定图案的膜。另外，在所述旋转成膜装置中，例如将成膜用基板放置在掩模上，借助该成膜用基板的重力使所述成膜用基板和所述掩模处于贴合的状态，当在上述贴合的状态下进行旋转成膜时、例如刚开始旋...
【技术保护点】
1.一种成膜用基板，在所述成膜用基板的成膜面侧的表面与掩模贴合的状态下，使所述成膜用基板与掩模一起绕与所述成膜用基板的所述成膜面侧的表面垂直的旋转轴旋转，从而在所述成膜用基板上形成膜，所述成膜用基板的特征在于，所述成膜用基板的所述成膜面侧的一部分表面为粗糙面部。
【技术特征摘要】
1.一种成膜用基板，在所述成膜用基板的成膜面侧的表面与掩模贴合的状态下，使所述成膜用基板与掩模一起绕与所述成膜用基板的所述成膜面侧的表面垂直的旋转轴旋转，从而在所述成膜用基板上形成膜，所述成膜用基板的特征在于，所述成膜用基板的所述成膜面侧的一部分表面为粗糙面部。2.如权利要求1所述的成膜用基板，其特征在于，在所述成膜用基板的所述成膜面侧的外周部的一部分，连续地或间断地形成有所述粗糙面部。3.如权利要求1所述的成膜用基板，其特征在于，在所述成膜用基板的所述成膜面侧的整个外周部，连续地或间断地形成有所述粗糙面部。4.如权利要求1～3中任一项所述的成膜用基板，其特征在于，所述成膜用基板的形成有所述粗糙面部的部位是所述成膜用基板的所述成膜面侧的不进行成膜的部位。5.如权利要求1～3中任一项所述的成膜用基板，其特征在于，在所述掩模上设置有多个开口部，在从所述成...
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