The present disclosure provides a device (100) for maintaining a substrate (10) or mask in a vacuum deposition process. The device (100) comprises one or more first electrodes and one or more second electrodes, which can be connected to the first power supply assembly (230); and one or more third electrodes, which are arranged between the one or more first electrodes and the one or more second electrodes and which can be connected to the second power supply assembly (240).
【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】用于保持在真空沉积工艺中使用的基板的设备、用于基板上的层沉积的系统、以及用于保持基板的方法
本公开内容的实施方式涉及一种用于保持在真空沉积工艺中使用的基板的设备、一种用于基板上的层沉积的系统、以及一种用于保持基板的方法。本公开内容的实施方式特别地涉及一种用于在基本上竖直的定向上保持基板的静电吸盘(E-吸盘)。
技术介绍
用于基板上的层沉积的技术包括例如热蒸发、物理气相沉积(PVD)和化学气相沉积(CVD)。所涂覆的基板可以在数个应用和数个
中使用。例如，所涂覆的基板可以在微电子领域中使用，诸如用于有机发光二极管(OLED)装置、具有TFT的基板、滤色器等等。在真空沉积工艺期间，基板可以由基板支撑件使用例如保持装置(诸如机械夹具)支撑来将基板和可选掩模保持在基板支撑件处。在过去，基板大小已经一直增加。例如，在不通过基板破裂而牺牲产量的情况下，增加的基板大小使得基板和掩模的处理、支撑和对准日益有挑战性。此外，适于将基板保持在真空腔室内部的空间可以受到限制。由此，也存在对减小由支撑系统用来将基板保持在真空腔室内部的空间的需要。鉴于上述，克服本领域中的至少一些问题的...
【技术保护点】
1.一种用于保持在真空沉积工艺中使用的基板或掩模的设备，包括：一个或多个第一电极和一个或多个第二电极；第一电源组件，连接到所述一个或多个第一电极；和第二电源组件，连接到所述一个或多个第二电极并且提供所述第一电源组件的一个或多个冗余部件。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种用于保持在真空沉积工艺中使用的基板或掩模的设备，包括：一个或多个第一电极和一个或多个第二电极；第一电源组件，连接到所述一个或多个第一电极；和第二电源组件，连接到所述一个或多个第二电极并且提供所述第一电源组件的一个或多个冗余部件。2.如权利要求1所述的设备，其中所述一个或多个冗余部件选自由以下组成的群组：供电电源、高电压发生器和控制器。3.如权利要求1所述的设备，其中所述第一电源组件包括第一供电电源、第一高电压发生器和第一控制器中的至少一个，其中所述第二电源组件包括第二供电电源、第二高电压发生器和第二控制器中的至少一个，并且其中所述第二供电电源、所述第二高电压发生器和所述第二控制器中的所述至少一个经构造为替代所述第一供电电源、所述第一高电压发生器和所述第一控制器中的有缺陷者。4.一种用于保持在真空沉积工艺中使用的基板或掩模的设备，包括：一个或多个第一电极和一个或多个第二电极，可连接到第一电源组件；和一个或多个第三电极，布置在所述一个或多个第一电极与所述一个或多个第二电极之间并且可连接到第二电源组件。5.如权利要求4所述的设备，进一步包括一个或多个第四电极，所述一个或多个第四电极可连接到所述第二电源组件，其中所述一个或多个第二电极布置在所述一个或多个第三电极与所述一个或多个第四电极之间。6.如权利要求4或5所述的设备，其中所述第二电源组件提供所述第一电源组件的一个或多个冗余部件。7.如权利要求1至6中任一项所述的设备，进一步包括至少一个开关，所述至少一个开关连接到接地以及所述一个或多个第一电极和所述一个或多个第二电极中的至少一个。8.如权利要...
【专利技术属性】
技术研发人员：迈克尔·雷纳·舒尔特海斯，德烈亚斯·勒普，沃尔夫冈·布什贝克，于尔根·亨里奇，斯蒂芬·班格特，
申请(专利权)人：应用材料公司，
类型：发明
国别省市：美国,US
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