一种掩膜单元及其制作方法、掩膜版技术

本发明专利技术公开了一种掩膜单元及其制作方法、掩膜版。其中，掩膜单元的制作方法包括：获取张网拉伸模拟位移数据；根据张网拉伸模拟位移数据计算掩膜单元的掩膜开口的偏移量；根据掩膜开口的偏移量以及预设掩膜开口位置在掩膜单元本体上形成掩膜开口，以使在张网拉伸后所述掩膜单元的掩膜开口位于预设掩膜开口位置。本发明专利技术提供了一种掩膜单元及其制作方法、掩膜版，以解决掩膜单元上子像素位置开口的位置在张网过程中会发生偏移的问题。

A mask unit, its fabrication method and mask plate

The invention discloses a mask unit, a manufacturing method thereof and a mask plate. The fabrication method of the mask unit includes: acquiring the analog displacement data of the tension network; calculating the offset of the mask opening of the mask unit based on the analog displacement data of the tension network; forming a mask opening on the mask unit body according to the offset of the mask opening and the preset position of the mask opening, so that the mask opening of the mask unit after the tension network is located in the preset mask. Opening position. The invention provides a mask unit, a manufacturing method and a mask plate to solve the problem that the position of the opening of the sub-pixel position on the mask unit will be offset during the stretching process.

【技术实现步骤摘要】
一种掩膜单元及其制作方法、掩膜版
本专利技术涉及显示
，尤其涉及一种掩膜单元及其制作方法、掩膜版。
技术介绍
有机发光二极管(OrganicLight-EmittingDiode，OLED)显示面板是通过有机发光材料在电场驱动下发光的显示器件，与液晶显示面板相比，有机发光显示面板更轻薄，具有更好的视角和对比度等，因此受到了人们的广泛关注。在OLED显示面板的制备过程中，有机材料是被加热后真空蒸镀沉积在衬底基板上的，在有机材料的蒸镀过程中，需要使用掩膜版来界定蒸镀区域。示例性的，通过掩膜版可限定出红色子像素蒸镀区域、绿色子像素蒸镀区域以及蓝色子像素蒸镀区域等，对应各个蒸镀区域的掩膜版开口尺寸为微米量级，所以，蒸镀使用的掩膜版为精密掩膜版(finemetalmask，FMM)。因为目前蒸镀使用的FMM的尺寸较大，无法一体加工成型，一般将FMM采用条状掩膜单元(FMMsheet)工艺制备，并将条状掩膜单元通过张网工艺单独焊接在掩膜版框架上，多条条状掩膜单元拼接成为需要尺寸的FMM，所以，条状掩膜单元上子像素位置开口决定了蒸镀后子像素的位置，条状掩膜单元上子像素位置开口的位置精度尤为重本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种掩膜单元的制作方法，其特征在于，包括：获取张网拉伸模拟位移数据；根据张网拉伸模拟位移数据计算掩膜单元的掩膜开口的偏移量；根据掩膜开口的偏移量以及预设掩膜开口位置在掩膜单元本体上形成掩膜开口，以使在张网拉伸后所述掩膜单元的掩膜开口位于预设掩膜开口位置。

【技术特征摘要】
1.一种掩膜单元的制作方法，其特征在于，包括：获取张网拉伸模拟位移数据；根据张网拉伸模拟位移数据计算掩膜单元的掩膜开口的偏移量；根据掩膜开口的偏移量以及预设掩膜开口位置在掩膜单元本体上形成掩膜开口，以使在张网拉伸后所述掩膜单元的掩膜开口位于预设掩膜开口位置。2.根据权利要求1所述的掩膜单元的制作方法，其特征在于，所述获取张网拉伸模拟位移数据，包括：形成掩模开口位于预设掩模开口位置的标准掩膜单元；将所述标准掩膜单元进行张网拉伸，获取所述张网拉伸模拟位移数据。3.根据权利要求2所述的掩膜单元的制作方法，其特征在于，将所述标准掩膜单元进行张网拉伸，获取所述张网拉伸模拟位移数据，包括：将所述标准掩膜单元进行张网拉伸，并获取所述标准掩膜单元的张网拉伸模拟位移图像；根据所述张网拉伸模拟位移图像获取所述张网拉伸模拟位移数据。4.根据权利要求2所述的掩膜单元的制作方法，其特征在于，根据张网拉伸模拟位移数据计算掩膜单元的掩膜开口的偏移量，包括：在所述标准掩膜单元上选取多个掩膜开口测试点；根据所述标准掩膜单元的张网拉伸模拟位移数据，获取所述多个掩模开口测试点的偏移量；根据所述多个掩膜开口测试点的偏移量获取所有掩膜开口的偏移量。5.根据权利要求4所述的掩膜单元的制作方法，其特征在于，根据所述多个掩膜开口测试点的偏移量获取所有掩膜开口的偏移量，包括：根据所述多个掩膜开口测试点的偏移量，形成预设掩膜开口位置-偏移量的关系曲线图；根据所述预设...

【专利技术属性】
技术研发人员：康梦华，
申请(专利权)人：昆山国显光电有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏,32