蒸镀结构、蒸镀系统及蒸镀结构的使用方法技术方案

本申请公开了一种蒸镀结构、蒸镀系统及蒸镀结构的使用方法，属于显示技术领域。蒸镀结构包括：蒸镀坩埚、喷嘴和浮板，蒸镀坩埚用于盛放蒸镀源材料，蒸镀源材料的状态在受热后由液态变为气态；喷嘴设置在蒸镀坩埚的出口处，喷嘴用于向待蒸镀基板表面喷射呈气态的蒸镀源材料；浮板被配置为：漂浮在呈液态的蒸镀源材料的表面，且浮板与蒸镀坩埚的内壁之间具有间隙，浮板具有多个镂空结构，多个镂空结构被配置为：供呈气态的蒸镀源材料通过。本申请提高了在待蒸镀基板上形成的膜层的均一性。本申请用于蒸镀结构和蒸镀系统。

【技术实现步骤摘要】
蒸镀结构、蒸镀系统及蒸镀结构的使用方法
本申请涉及显示
，特别涉及一种蒸镀结构、蒸镀系统及蒸镀结构的使用方法。
技术介绍
有机发光二极管(英文：OrganicLight-EmittingDiode；简称：OLED)显示面板的制备过程中，常采用蒸镀法进行膜层的制备。相关技术中，蒸镀法主要采用蒸镀结构向待蒸镀基板喷射蒸镀源材料，以在该待蒸镀基板上形成膜层。该蒸镀结构通常包括：蒸镀坩埚，以及位于蒸镀坩埚出口处的喷嘴。该蒸镀法的原理为：将固态或液态的蒸镀源材料放置在蒸镀坩埚中，通过电阻加热等方式对蒸镀源材料进行加热，使蒸镀源材料的状态在受热后变为气态，并控制蒸镀坩埚由待蒸镀基板的一端移动至另一端，同时控制喷嘴向待蒸镀基板表面喷射呈气态的蒸镀源材料，使得蒸镀源材料沉积在待蒸镀基板的表面。由于蒸镀源材料转化为气态前，通常以液态的形式保存在蒸镀坩埚中，在蒸镀坩埚移动的过程中，该呈液态的蒸镀源材料会在惯性的作用下在蒸镀坩埚内晃动，导致该呈液态的蒸镀源材料在蒸镀坩埚不同位置处的液面高度不同，从而影响在待蒸镀基板上形成的膜层的均一性。
技术实现思路
本申请提供了一种蒸镀结构、蒸镀系统及蒸镀结构的使用方法，可以解决相关技术中呈液态的蒸镀源材料在蒸镀坩埚不同位置处的液面高度不同，导致在待蒸镀基板上形成的膜层的均一性较差的问题，所述技术方案如下：一方面，提供了一种蒸镀结构，所述蒸镀结构包括：蒸镀坩埚、喷嘴和浮板，所述蒸镀坩埚用于盛放蒸镀源材料，所述蒸镀源材料的状态在受热后由液态变为气态；所述喷嘴设置在所述蒸镀坩埚的出口处，所述喷嘴用于向待蒸镀基板表面喷射呈气态的所述蒸镀源材料；所述浮板被配置为：漂浮在呈液态的所述蒸镀源材料的表面，且所述浮板与所述蒸镀坩埚的内壁之间具有间隙，所述浮板具有多个镂空结构，所述多个镂空结构被配置为：供呈气态的所述蒸镀源材料通过。可选地，所述浮板为空心的板状结构。可选地，所述浮板包括：多个连接筒、相对设置的背板和盖板，所述背板具有多个第一通孔，所述盖板具有与所述多个第一通孔一一对应的多个第二通孔；每个所述连接筒在一个第一通孔处与所述背板密封连接，且在与所述一个第一通孔对应的第二通孔处与所述盖板密封连接，得到一个所述镂空结构；所述背板未设置所述第一通孔的位置与所述盖板未设置所述第二通孔的位置密封连接，得到至少一个密闭的空腔。可选地，所述背板和所述盖板均为曲面板状结构；或者，所述背板和所述盖板中的一个为曲面板状结构，另一个为平面板状结构；或者，所述背板和所述盖板均为平面板状结构。可选地，所述浮板为实心的板状结构。可选地，所述浮板的材料为金属。可选地，所述多个镂空结构均匀分布在所述浮板的表面上；或者，所述浮板具有多个区域，位于不同区域中的镂空结构的分布密度不同。可选地，所述浮板具有多个区域，位于不同区域中的镂空结构的开口大小不同。另一方面，提供了一种蒸镀系统，所述系统包括：上述任一所述的蒸镀结构。又一方面，提供了一种蒸镀结构的使用方法，所述蒸镀结构包括：蒸镀坩埚、喷嘴和浮板，所述方法包括：依次将蒸镀源材料和所述浮板放入所述蒸镀坩埚；将所述喷嘴安装在所述蒸镀坩埚的出口处；对所述蒸镀源材料进行加热，使所述蒸镀源材料的状态在受热后由液态变为气态，并从所述喷嘴向待蒸镀基板表面喷射；其中，所述浮板被配置为：漂浮在呈液态的所述蒸镀源材料的表面，且所述浮板与所述蒸镀坩埚的内壁之间具有间隙，所述浮板具有多个镂空结构，所述多个镂空结构被配置为：供呈气态的所述蒸镀源材料通过。本申请提供的技术方案带来的有益效果至少包括：本申请提供的蒸镀结构、蒸镀系统及蒸镀结构的使用方法，通过将浮板漂浮在呈液态的蒸镀源材料的表面，增加了使呈液态的蒸镀源材料在蒸镀坩埚内产生晃动所需的动力，减小了在相同大小的动力作用下呈液态的蒸镀源材料在蒸镀坩埚内的晃动幅度；且由于浮板与蒸镀坩埚的内壁之间具有间隙，使得浮板与蒸镀坩埚的内壁能够发生碰撞，并产生与呈液态的蒸镀源材料的晃动方向相反的力，该相反的力能够减弱呈液态的蒸镀源材料在蒸镀坩埚内的晃动幅度，相对于现有技术，减小了蒸镀坩埚内不同位置处液面的高度差，降低了位于不同喷嘴的入口处的压差，提高了从不同喷嘴向待蒸镀基板表面喷射的蒸镀源材料的量的均一性，进而提高了在待蒸镀基板上形成的膜层的均一性。附图说明为了更清楚地说明本专利技术实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本申请的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。图1是一种相关技术中蒸镀结构的结构示意图；图2是本专利技术实施例提供的一种蒸镀结构的结构示意图；图3是本专利技术实施例提供的另一种蒸镀结构的结构示意图；图4是另一种相关技术中蒸镀结构的结构示意图；图5是本专利技术实施例提供的一种浮板的俯视图；图6是本专利技术实施例提供的又一种蒸镀结构的结构示意图；图7是本专利技术实施例提供的另一种浮板的俯视图；图8是本专利技术实施例提供的又一种浮板的俯视图；图9是本专利技术实施例提供的一种浮板的截面示意图；图10是本专利技术实施例提供的另一种浮板的截面示意图；图11是本专利技术实施例提供的再一种浮板的截面示意图；图12是本专利技术实施例提供的又一种浮板的截面示意图；图13是本专利技术实施例提供的再一种浮板的截面示意图；图14是本专利技术实施例提供的一种蒸镀结构的使用方法的流程图；图15是本专利技术实施例提供的一种蒸镀装置的结构示意图；图16是本专利技术实施例提供的一种蒸镀系统的结构示意图。具体实施方式为使本申请的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合附图对本申请实施方式作进一步地详细描述。通常的，当蒸镀结构未移动时，蒸镀坩埚内呈液态的蒸镀源材料在不同位置处的液面高度相同；而当蒸镀结构移动时，在惯性的作用下，呈液态的蒸镀源材料会在蒸镀坩埚内晃动，导致呈液态的蒸镀源材料在蒸镀坩埚中不同位置处的液面高度不同。例如，请参考图1，当蒸镀结构的移动方向X为水平向右时，在惯性的作用下，靠近蒸镀坩埚01左侧内壁的呈液态的蒸镀源材料L的液面高度h1大于靠近蒸镀坩埚01右侧内壁的呈液态的蒸镀源材料L的液面高度h2，导致蒸镀坩埚内呈气态的蒸镀源材料的压力分布不均匀。当蒸镀坩埚01内呈气态的蒸镀源材料的压力分布不均匀时，较容易出现不同喷嘴02的入口处的呈气态的蒸镀源材料的压力不同。当喷嘴02入口处呈气态的蒸镀源材料的压力越大时，该喷嘴02在单位时间内向待蒸镀基板(图1中未示出)表面喷射的蒸镀源材料越多，相应的，沉积在待蒸镀基板上的蒸镀源材料越厚。因此，不同的喷嘴02入口处的呈气态的蒸镀源材料的压力不同时，较容易出现形成在待蒸镀基板上的蒸镀源材料的厚度不同的情况，导致在待蒸镀基板上形成的膜层的均匀度较差。为此，本专利技术实施例提供了一种蒸镀结构，可降低在蒸镀结构移动时，呈液态的蒸镀源材料在蒸镀坩埚内晃动的幅度，能够有效地提高在待蒸镀基板上形成的膜层的均匀度。图2为本专利技术实施例提供的一种蒸镀结构的结构示意图。如图2所示，该蒸镀结构1可以包括：蒸镀坩埚11、喷嘴12和浮板13。蒸镀坩埚11用于盛放蒸镀源材料，蒸镀源材料的状态在受热后由液态变为气态。其中，蒸镀源材料在未被加热时(也即在常温状态下)可以呈液态，在被加热后可以呈本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种蒸镀结构，其特征在于，所述蒸镀结构包括：蒸镀坩埚、喷嘴和浮板，所述蒸镀坩埚用于盛放蒸镀源材料，所述蒸镀源材料的状态在受热后由液态变为气态；所述喷嘴设置在所述蒸镀坩埚的出口处，所述喷嘴用于向待蒸镀基板表面喷射呈气态的所述蒸镀源材料；所述浮板被配置为：漂浮在呈液态的所述蒸镀源材料的表面，且所述浮板与所述蒸镀坩埚的内壁之间具有间隙，所述浮板具有多个镂空结构，所述多个镂空结构被配置为：供呈气态的所述蒸镀源材料通过。

【技术特征摘要】
1.一种蒸镀结构，其特征在于，所述蒸镀结构包括：蒸镀坩埚、喷嘴和浮板，所述蒸镀坩埚用于盛放蒸镀源材料，所述蒸镀源材料的状态在受热后由液态变为气态；所述喷嘴设置在所述蒸镀坩埚的出口处，所述喷嘴用于向待蒸镀基板表面喷射呈气态的所述蒸镀源材料；所述浮板被配置为：漂浮在呈液态的所述蒸镀源材料的表面，且所述浮板与所述蒸镀坩埚的内壁之间具有间隙，所述浮板具有多个镂空结构，所述多个镂空结构被配置为：供呈气态的所述蒸镀源材料通过。2.根据权利要求1所述的蒸镀结构，其特征在于，所述浮板为空心的板状结构。3.根据权利要求2所述的蒸镀结构，其特征在于，所述浮板包括：多个连接筒、相对设置的背板和盖板，所述背板具有多个第一通孔，所述盖板具有与所述多个第一通孔一一对应的多个第二通孔；每个所述连接筒在一个第一通孔处与所述背板密封连接，且在与所述一个第一通孔对应的第二通孔处与所述盖板密封连接，得到一个所述镂空结构；所述背板未设置所述第一通孔的位置与所述盖板未设置所述第二通孔的位置密封连接，得到至少一个密闭的空腔。4.根据权利要求3所述的蒸镀结构，其特征在于，所述背板和所述盖板均为曲面板状结构；或者，所述背板和所述盖板中的一个为曲面板状结构，另一个为...

【专利技术属性】
技术研发人员：饶勇，李有亮，刘金彪，谭瑞，岳小非，罗楠，胡斌，仪修超，沈萌，加新星，肖鹏，李靖，晋亚杰，
申请(专利权)人：成都京东方光电科技有限公司，京东方科技集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：四川,51