The present invention relates to a vacuum deposition device (1) for continuously depositing coatings on a moving substrate (S) consisting of a metal alloy containing a main element and at least one additional element. The device comprises a vacuum deposition chamber (2) and a device for passing the substrate (5) through the chamber. The device also includes a vapor spray coater (3), evaporation crucible (4), and the evaporation crucible.\uff08 4) Suitable for supplying vapor containing the main element and at least one additional element to the vapor spray coater, refilling furnace (9). The refilling furnace (9) is suitable for supplying the melted main element to the evaporating crucible and can maintain the constant liquid level in the evaporating crucible, At least one additional element is supplied elsewhere in the molten, solid or partially solid state. The invention also relates to a process of continuously depositing a coating formed by a metal alloy comprising a main element and at least one additional element on a moving substrate.
【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】用于真空沉积的设备及方法
本专利技术涉及真空沉积设备,该设备用于在基材上沉积由比如锌镁合金的金属合金形成的涂层,所述设备更具体地用于涂覆钢带,但不限于此。本专利技术还涉及涂覆其基材的方法。
技术介绍
已知有用于在比如钢带的基材上沉积由合金构成的金属涂层的各种过程。在这些过程之中,可以提及热浴镀层、电沉积以及比如真空蒸发和磁控溅射的各种真空沉积过程。从WO2008/142222中已知用真空沉积设备在移动的基材上沉积金属合金层,该真空沉积设备包括:声波蒸气喷射涂覆器;蒸发坩埚,该蒸发炉适于向涂覆器供给包含涂层的金属元素的蒸气;以及再充料炉,该再充料炉适于通过气压效应向蒸发坩埚供给熔融的金属合金。这种再充料炉便于生产给定的涂层成分。然而,一旦需要涂料成分的变化,就必须调整再充料炉与蒸发坩埚之间的高度。这可能导致对再充料炉进行大型工程,这在工业上是不合理的。从EP2937442中还已知用真空沉积设备在移动的基材上沉积金属合金层,其中该真空沉积设备包括:声波蒸气喷射涂覆器;蒸发坩埚,该蒸发坩埚供给有在金属合金镀液之上略微熔融的锭。这种供给是受限制的,因为下述两种锭是必需的:一种处于金属合金镀液成分以启动该设备而另一种处于金属合金层成分以在运行功率下补偿蒸发。而且,给定合金成分的这种锭可能难以制造并且成本高昂。此外,锭的熔融速度限制了设备的跟随产线速度变化的能力。
技术实现思路
因此,本专利技术的目的是通过提供如下的用于沉积由金属合金形成的涂层的真空沉积设备以及用于制造覆盖有金属合金层的基材的过程来弥补现有技术的设备和过程的缺点,该真空沉积设备和过程允许在不损害产线容量的 ...
【技术保护点】
1.一种真空沉积设备(1),所述真空沉积设备(1)用于在行进的基材(S)上连续沉积由包含主元素和至少一种附加元素的金属合金形成的涂层,所述设备包括真空沉积腔室(2)和用于使所述基材行进穿过所述腔室的器件,其中,所述设备还包括:‑蒸气喷射涂覆器(3),‑蒸发坩埚(4),所述蒸发坩埚(4)适于向所述蒸气喷射涂覆器供给包含所述主元素和所述至少一种附加元素的蒸气,‑再充料炉(9),所述再充料炉(9)适于向所述蒸发坩埚供给熔融态的所述主元素并且能够保持所述蒸发坩埚中恒定的液位,‑供给单元(11),所述供给单元(11)适于供给固态的所述至少一种附加元素,并且适于向所述蒸发坩埚无差别地供给熔融态、固态或部分固态的所述至少一种附加元素。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2016.07.27 IB PCT/IB2016/0544771.一种真空沉积设备(1),所述真空沉积设备(1)用于在行进的基材(S)上连续沉积由包含主元素和至少一种附加元素的金属合金形成的涂层,所述设备包括真空沉积腔室(2)和用于使所述基材行进穿过所述腔室的器件,其中,所述设备还包括:-蒸气喷射涂覆器(3),-蒸发坩埚(4),所述蒸发坩埚(4)适于向所述蒸气喷射涂覆器供给包含所述主元素和所述至少一种附加元素的蒸气,-再充料炉(9),所述再充料炉(9)适于向所述蒸发坩埚供给熔融态的所述主元素并且能够保持所述蒸发坩埚中恒定的液位,-供给单元(11),所述供给单元(11)适于供给固态的所述至少一种附加元素,并且适于向所述蒸发坩埚无差别地供给熔融态、固态或部分固态的所述至少一种附加元素。2.根据权利要求1所述的真空沉积设备,其中,所述供给单元(11)包括供给管(12)。3.根据权利要求2所述的真空沉积设备,其中,所述供给管(12)的下端部低于所述蒸发坩埚(4)中的液位。4.根据权利要求2或3中的任一项所述的真空沉积设备,其中,所述蒸发坩埚(4)包括罩(6),所述供给管(12)连接在所述罩(6)上。5.根据权利要求2或4中的任一项所述的真空沉积设备,其中,所述供给管(12)包括锭保持器(15),所述锭保持器(15)在一方面适于在所述至少一种附加元素被加热时保持所述至少一种附加元素,在另一方面适于将所述至少一种附加元素释放在所述蒸发坩埚(4)中。6.根据权利要求5所述的真空沉积设备,其中,所述锭保持器(15)是具有U形横截面的阀。7.根据权利要求2至6中的任一项所述的真空沉积设备,其中,所述供给管(12)包括惰性气体入口(13),所述惰性气体入口(13)适于至少在所述供给管的下部部分中提供高于所述蒸发坩埚(4)中压强的压强。8.根据前述权利要求中的任一项所述的真空沉积设备,其中,所述供给单元(11)包括预热炉。9.根据前述权利要求中的任一项所述的真空沉积设备,其中,所述供给单元(11)包括加热装置(14)。10.根据前述权利要求中的任一项所述的真空沉积设备,其中,所述蒸气喷射涂覆器(3)是声波蒸气喷射涂覆器。11.根据前述权利要求中的任一项所述的真空沉积设备,其中,所述蒸气喷射涂覆器(3)的蒸气的供给通过蒸发管(7)进行,所述蒸发管(7)将所述蒸发坩埚(4)连接在所述蒸气喷射涂覆器(3)上。12.根据前述权利要求中的任一项所述的真空沉积设备,其中,所述再充料炉(9)放置在所述蒸发坩埚(4)下方并且适于保持在大气压下。13.根据前述权利要求中的任一项所述的真空沉积设备,其中,所述蒸发坩埚(4)的主元素的供给通过管道(10)进行,所述管道(10)将所述再充料炉(9)连接在所述蒸发坩埚(4)上。14.根据前述权利要求中的任一项所述的真空沉...
【专利技术属性】
技术研发人员:塞尔吉奥·帕切,埃里克·西尔伯贝格,迪米特里·维尔德尔斯,雷米·邦内曼,露西·加乌亚,
申请(专利权)人:安赛乐米塔尔公司,
类型:发明
国别省市:卢森堡,LU
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