一种12管高产能PECVD设备制造技术

本发明专利技术公开了一种12管高产能PECVD设备，包括气源柜、主机和工作台框架，气源柜的右侧与主机的左侧固定连接，主机的右侧与工作台框架表面的一侧固定连接，工作台框架的顶部固定连接有加热炉体，加热炉体的表面活动连接有真空炉门机构，加热炉体的表面固定连接有自动控制系统，本发明专利技术涉及太阳能电池技术领域。该12管高产能PECVD设备，通过加热炉体、自动送取料系统和推拉舟使得载有待镀膜晶片的石墨舟传送给上下料机械手，通过这个全自动机械手的精准定位，把石墨舟放到每管对应的推拉舟上，然后再由推拉舟送入工艺管内，晶片在工艺管内，通过密封炉门机构和真空系统，达到所需要的工艺真空度，然后通入工艺气体。

A 12-tube PECVD equipment with high productivity

The invention discloses a 12-tube high-productivity PECVD device, which comprises a gas source cabinet, a main engine and a workbench frame, a fixed connection between the right side of the gas source cabinet and the left side of the main engine, a fixed connection between the right side of the main engine and one side of the workbench frame surface, a fixed connection between the top of the workbench frame and a heating furnace body, a vacuum furnace door mechanism and a fixed surface of the heating furnace body. The invention is connected with an automatic control system, and relates to the technical field of solar cells. The 12-tube high-productivity PECVD equipment transmits the graphite boat containing the wafer to the feeding and unloading manipulator through heating furnace body, automatic feeding and withdrawing system and push-pull boat. Through the precise positioning of the automatic manipulator, the graphite boat is placed on the corresponding push-pull boat of each tube, and then the graphite boat is put into the process tube. The wafer is in the process tube, and the wafer is sealed through the furnace door mechanism and vacuum. The system achieves the required process vacuum, and then feeds into the process gas.

【技术实现步骤摘要】
一种12管高产能PECVD设备
本专利技术涉及太阳能电池
，具体为一种12管高产能PECVD设备。
技术介绍
PECVD是指等离子体增强化学的气相沉积法，是太阳能电池片中比较重要的工序，也是体现一个企业太阳能电池片效率的一个重要指标。镀膜技术是整个光伏行业比较重视的技术，太阳能电池的效率提升可以通过镀膜技术的提升来实现。光在硅表面的反射损失率高达35%左右，减反膜可以极高地提高电池片对太阳光的利用率，提高光电转换效率。PECVD是指等离子体增强化学的气相沉积法，是太阳能电池片中比较重要的工序，现在的设备生产状态下，原先的设备量已经无法满足产能的需求。而通过增加设备数量来提高产能，又会带来占地面积的问题，并且大多数电池片生产厂家的设备用地已经达到饱和，在这种情况下，提高设备本身的产能就成了迫切的需求。
技术实现思路
针对现有技术的不足，本专利技术提供了一种12管高产能PECVD设备，解决了原先设备量已经无法满足产能需求的问题。为实现以上目的，本专利技术通过以下技术方案予以实现：一种12管高产能PECVD设备12管高产能PECVD设备，包括气源柜、主机和工作台框架，所述气源柜的右侧与主机的左侧固定连接，所述主机的右侧与工作台框架表面的一侧固定连接，所述工作台框架的顶部固定连接有加热炉体，所述加热炉体的表面活动连接有真空炉门机构，所述加热炉体的表面固定连接有自动控制系统，所述加热炉体内壁的底部固定连接有工作台，所述加热炉体内壁底部的两侧均活动连接有自动送取料系统，所述加热炉体的内部活动连接有推拉舟，所述加热炉体内壁的一侧固定连接有间歇台，所述加热炉体内壁的一侧活动连接有上下料机械手。优选的，所述推拉舟包括外框，所述外框内壁的两侧均固定连接有滑动轨道板，所述滑动轨道板的内表面活动连接有滚动轮。优选的，所述滚动轮的表面固定连接有限位环板，所述滚动轮的轴心处固定连接有移动杆。优选的，所述移动杆的底部活动连接有支撑板，所述移动杆的表面活动连接有稳定块，所述稳定块的内部安装有驱动设备。优选的，所述稳定块的顶部通过旋转轴转动连接有推拉臂，所述推拉臂的一端固定连接有接触块。优选的，所述加热炉体内部工作时保持工艺气体内的压力恒定在需求数值。有益效果本专利技术提供了一种12管高产能PECVD设备。与现有技术相比具备以下有益效果：（1）、该12管高产能PECVD设备，通过工作台框架的顶部固定连接有加热炉体，加热炉体的表面活动连接有真空炉门机构，加热炉体的表面固定连接有自动控制系统，加热炉体内壁的底部固定连接有工作台，加热炉体内壁底部的两侧均活动连接有自动送取料系统，加热炉体的内部活动连接有推拉舟，加热炉体内壁的一侧固定连接有间歇台，加热炉体内壁的一侧活动连接有上下料机械手，通过加热炉体、自动送取料系统和推拉舟使得载有待镀膜晶片的石墨舟传送给上下料机械手，通过这个全自动机械手的精准定位，把石墨舟放到每管对应的推拉舟上，然后再由推拉舟送入工艺管内，晶片在工艺管内，通过密封炉门机构和真空系统，达到所需要的工艺真空度，然后通入工艺气体，在此过程中，控制系统发挥着大脑的指挥作用，通过一整套严密的闭环控制软件，使得镀膜工艺能够保持在稳定的低压环境。（2）、该12管高产能PECVD设备，通过外框内壁的两侧均固定连接有滑动轨道板，滑动轨道板的内表面活动连接有滚动轮，滚动轮的表面固定连接有限位环板，滚动轮的轴心处固定连接有移动杆，移动杆的底部活动连接有支撑板，移动杆的表面活动连接有稳定块，稳定块的顶部通过旋转轴转动连接有推拉臂，推拉臂的一端固定连接有接触块，通过推拉舟、滑动轨道板、移动杆和稳定块的设置，推拉舟机构不仅有横向进出机构，还增加了水平传动系统，使得此送料机构在每层的两根管之间的移动，以达到送取料的目的，推拉舟机构不仅有横向进出机构，还增加了水平传动系统，使得此送料机构在每层的两根管之间的移动，以达到送取料的目的，在此基础上，两列工艺管可以共用工作台的送取料系统，这样在很大幅度上降低了晶片的生产成本，给企业带来更高的效益。附图说明图1为本专利技术结构的主视图；图2为本专利技术结构的侧视图；图3为本专利技术推拉舟结构的俯视图；图4为本专利技术滚动轮结构的剖视图。图中：1-气源柜、2-主机、3-工作台框架、4-加热炉体、5-真空炉门机构、6-自动控制系统、7-工作台、8-自动送取料系统、9-推拉舟、91-外框、92-滑动轨道板、93-滚动轮、94-限位环板、95-移动杆、96-支撑板、97-稳定块、98-推拉臂、99-接触块、10-间歇台、11-上下料机械手。具体实施方式下面将结合本专利技术实施例中的附图，对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本专利技术保护的范围。请参阅图1-4，本专利技术提供一种技术方案：一种12管高产能PECVD设备，包括气源柜1、主机2和工作台框架3，气源柜1的右侧与主机2的左侧固定连接，主机2的右侧与工作台框架3表面的一侧固定连接，工作台框架3的顶部固定连接有加热炉体4，加热炉体4的表面活动连接有真空炉门机构5，加热炉体4的表面固定连接有自动控制系统6，加热炉体4内壁的底部固定连接有工作台7，加热炉体4内壁底部的两侧均活动连接有自动送取料系统8，加热炉体4的内部活动连接有推拉舟9，加热炉体4内壁的一侧固定连接有间歇台10，通过推拉舟9、滑动轨道板92、移动杆95和稳定块97的设置，推拉舟9机构不仅有横向进出机构，还增加了水平传动系统，使得此送料机构在每层的两根管之间的移动，以达到送取料的目的，推拉舟9机构不仅有横向进出机构，还增加了水平传动系统，使得此送料机构在每层的两根管之间的移动，以达到送取料的目的，加热炉体4内壁的一侧活动连接有上下料机械手11，推拉舟9包括外框91，外框91内壁的两侧均固定连接有滑动轨道板92，滑动轨道板92的内表面活动连接有滚动轮93，滚动轮93的表面固定连接有限位环板94，滚动轮93的轴心处固定连接有移动杆95，移动杆95的底部活动连接有支撑板96，移动杆95的表面活动连接有稳定块97，稳定块97的内部安装有驱动设备，驱动设备可以带动稳定块在滑动轨道板92内移动，在移动杆95表面移动，稳定块97的顶部通过旋转轴转动连接有推拉臂98，推拉臂98的一端固定连接有接触块99，加热炉体4内部工作时保持工艺气体内的压力恒定在需求数值。工作时，将装置调节稳定，自动送取料系统8安装在工作台7上，其功能就是把载有待镀膜晶片的石墨舟传送给上下料机械手11，通过这个全自动机械手的精准定位，把石墨舟放到每管对应的推拉舟9上，然后再由推拉舟9送入工艺管内，晶片在工艺管内，通过真空炉门机构5和真空系统，达到所需要的工艺真空度，然后通入工艺气体，在此过程中，自动控制系统6发挥着大脑的指挥作用，通过一整套严密的闭环控制软件，使得镀膜工艺保持在稳定的低压环境。工艺结束后，由推拉舟9把石墨舟从工艺管中取出，然后由上下料机械手11把高温石墨舟放置在间歇台10，并由循环风冷系统进行冷却，待到合适温度后，由自动送取料系统8传送出工作台，然后可以进行取石墨舟程序，工艺结束后，经过对工艺腔本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种12管高产能PECVD设备，包括气源柜（1）、主机（2）和工作台框架（3），其特征在于：所述气源柜（1）的右侧与主机（2）的左侧固定连接，所述主机（2）的右侧与工作台框架（3）表面的一侧固定连接，所述工作台框架（3）的顶部固定连接有加热炉体（4），所述加热炉体（4）的表面活动连接有真空炉门机构（5），所述加热炉体（4）的表面固定连接有自动控制系统（6），所述加热炉体（4）内壁的底部固定连接有工作台（7），所述加热炉体（4）内壁底部的两侧均活动连接有自动送取料系统（8），所述加热炉体（4）的内部活动连接有推拉舟（9），所述加热炉体（4）内壁的一侧固定连接有间歇台（10），所述加热炉体（4）内壁的一侧活动连接有上下料机械手（11）。

【技术特征摘要】
1.一种12管高产能PECVD设备，包括气源柜（1）、主机（2）和工作台框架（3），其特征在于：所述气源柜（1）的右侧与主机（2）的左侧固定连接，所述主机（2）的右侧与工作台框架（3）表面的一侧固定连接，所述工作台框架（3）的顶部固定连接有加热炉体（4），所述加热炉体（4）的表面活动连接有真空炉门机构（5），所述加热炉体（4）的表面固定连接有自动控制系统（6），所述加热炉体（4）内壁的底部固定连接有工作台（7），所述加热炉体（4）内壁底部的两侧均活动连接有自动送取料系统（8），所述加热炉体（4）的内部活动连接有推拉舟（9），所述加热炉体（4）内壁的一侧固定连接有间歇台（10），所述加热炉体（4）内壁的一侧活动连接有上下料机械手（11）。2.根据权利要求1所述的一种12管高产能PECVD设备，其特征在于：所述推拉舟（9）包括外框（91），所述外框（91）内壁的两侧均...

【专利技术属性】
技术研发人员：崔慧敏，林罡，王鹏，
申请(专利权)人：无锡华源晶电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏,32