曝边机及曝光方法技术

本申请公开了一种曝边机及曝光方法，包括：支撑面，以及在所述支撑面两侧相对设置的第一侧壁以及第二侧壁，在所述第一侧壁的第一表面以及第二侧壁的第二表面上设置有多个照射源，所述多个照射源用于在曝光基板时对所述支撑面进行照射，以消除所述基板与所述支撑面接触而产生的静电。

Edge Exposer and Exposure Method

The present application discloses an edge-exposing machine and an exposure method, including a support surface, a first side wall and a second side wall opposite each other on the two sides of the support surface. A plurality of irradiation sources are arranged on the first surface of the first side wall and the second surface of the second side wall. The multiple irradiation sources are used to irradiate the support surface when exposing the substrate to eliminate the substrate. The electrostatic generated by contacting the supporting surface.

【技术实现步骤摘要】
曝边机及曝光方法
本申请涉及显示
，具体涉及一种曝边机及曝光方法。
技术介绍
近年来，中小尺寸液晶显示器发展迅猛，制备过程中在使用到精密光学仪器曝光机的基础上，还需要使用到曝边机，对基板长短边进行洗边，取出金属等边缘导电物质。现有技术中，传统的曝边机易出现静电放电(electrostaticdischarge，ESD)炸伤，导致产品在固定点位出现群亮暗点，目前为了解决机台内ESD炸伤，在曝边机出口连接去离子棒，但是效果不佳。因此，现有技术存在缺陷，急需改进。
技术实现思路
本申请实施例提供一种曝边机及曝光方法，可以消除在曝边机内部曝光过程中基板与曝光机接触产生的静电。本申请实施例提供一种曝边机，包括：支撑面，以及在所述支撑面两侧相对设置的第一侧壁以及第二侧壁，其中，在所述第一侧壁的第一表面以及第二侧壁的第二表面上设置有多个照射源，所述多个照射源用于在曝光基板时对所述支撑面进行照射，以消除所述基板与所述支撑面接触而产生的静电。在本申请所述的曝边机中，所述支撑面由多个支撑针组成，所述多个支撑针的顶部连线形成所述支撑面，所述多个支撑针用于在曝光基板时减少所述支撑面与所述基板的接触面积。在本申请所述的曝边机中，所述第一侧壁以及所述第二侧壁上的所述多个照射源与所述多个支撑针的顶部处于同一竖直高度。在本申请所述的曝边机中，所述支撑面为方形的支撑面，所述多个照射源相对于所述方形的支撑面的拐角设置。在本申请所述的曝边机中，所述多个照射源照射出的光线形成一照射面，所述照射面用于在曝光基板时对所述支撑面进行照射。在本申请所述的曝边机中，所述照射面的照射面积大于所述支撑面的面积，以使在曝光基板时所述多个照射源照射出的光线可以覆盖所述支撑面。本申请实施例还提供一种曝光方法，包括：在支撑面两侧相对设置的第一侧壁的第一表面以及第二侧壁的第二表面上设置多个照射源；在曝光基板时通过所述多个照射源对所述支撑面进行照射，以消除所述基板与所述支撑面接触产生的静电。在本申请所述的曝光方法中，所述支撑面由多个支撑针组成，所述多个支撑针的顶部连线形成所述支撑面，所述多个支撑针用于在曝光基板时减少所述支撑面与所述基板的接触面积。在本申请所述的曝光方法中，所述多个照射源照射出的光线形成一照射面，所述在曝光基板时通过所述多个照射源对所述支撑面进行照射，包括：在曝光基板时通过所述照射面对所述支撑面进行照射。在本申请所述的曝光方法中，所述照射面的照射面积大于所述支撑面的面积，以使在曝光基板时所述多个照射源照射出的光线可以覆盖所述支撑面。本申请实施例提供的曝边机包括，支撑面，以及在所述支撑面两侧相对设置的第一侧壁以及第二侧壁，其中，在所述第一侧壁的第一表面以及第二侧壁的第二表面上设置有多个照射源，所述多个照射源用于在曝光基板时对所述支撑面进行照射，以消除所述基板与所述支撑面接触而产生的静电。本申请实施例提供的曝边机通过在侧壁设置多个照射源对支撑面进行覆盖式照射，以消除后续加工时基板放置在支撑面上产生的静电。附图说明为了更清楚地说明本申请实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本申请的一些实施例，对于本领域技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。图1为本申请实施例提供的曝边机的结构示意图。图2为本申请实施例提供的曝光过程中基板与支撑针接触的示意图。图3为本申请实施例提供的曝边机的另一结构示意图。图4为本申请实施例提供的曝边机内部光线照射示意图。图5为本申请实施例提供的曝边机内部光线照射的另一示意图。具体实施方式近年来，中小尺寸液晶显示器发展迅猛，制备过程中在使用到精密光学仪器曝光机的基础上，还需要使用到曝边机，但是传统的曝边机易出现静电放电(electrostaticdischarge，ESD)炸伤，导致产品在固定点位出现群亮暗点，目前为解决机台内ESD问题，在曝边机出口连接去离子棒，但是无法解决基板在进入机台后导致的ESD炸伤。因而，本申请实施例提供一种曝边机及曝光方法，可以消除在曝边机内部曝光过程中基板与曝光机接触产生的静电。请参阅图1，图1为本申请实施例提供的曝边机的结构示意图。本申请实施例提供一种曝边机100，包括：支撑面10，以及在所述支撑面10两侧相对设置的第一侧壁20以及第二侧壁30，其中，在所述第一侧壁20的第一表面201以及第二侧壁30的第二表面301上设置有多个照射源40，所述多个照射源40用于在曝光基板200时对所述支撑面10进行照射，以消除所述基板200与所述支撑面10接触而产生的静电。具体的，曝光机100可以为图1所示的长方体，但不仅限于长方体，第一侧壁20以及第二侧壁30为该长方体的两个相对面。支撑面10垂直于该第一侧壁20以及第二侧壁30。在该第一侧壁20的第一表面201以及该第二侧壁30的第二表面301上设置有多个照射源40，其中，第一表面201以及第二表面301为朝向长方体中心的表面。照射源40可以为射出X光线(X-ray)或者其他可以消除静电光线的照射器，在此不做赘述。其中，在所述曝边机100中垂直所述第一侧壁20的第三侧壁以及垂直所述第二侧壁30的第四侧壁上设置开口，以用于在实际生产中可通过所述开口进行基板200的运放工作。其中，在所述开口处设置有离子棒，所述离子棒用于清除所述基板200的静电。本申请实施例提供的曝边机100包括，支撑面10，以及在所述支撑面10两侧相对设置的第一侧壁20以及第二侧壁30，其中，在所述第一侧壁20的第一表面201以及第二侧壁30的第二表面301上设置有多个照射源40，所述多个照射源40用于在曝光基板200时对所述支撑面10进行照射，以消除所述基板200与所述支撑面10接触而产生的静电。本申请实施例提供的曝边机100通过在侧壁设置多个照射源40对支撑面10进行覆盖式照射，以消除后续加工时基板200放置在支撑面10上产生的静电。在一些实施例中，请参阅，图1，图2及图3，图2为本申请实施例提供的曝光过程中基板与支撑针接触的示意图，图3为本申请实施例提供的曝边机的另一结构示意图。所述支撑10面由多个支撑针50组成，所述多个支撑针50的顶部501连线形成所述支撑面10，所述多个支撑针50用于在曝光基板200时减少所述支撑面10与所述基板200的接触面积。在一些实施例中，所述第一侧壁20以及所述第二侧壁30上的所述多个照射源40与所述多个支撑针50的顶部501处于同一竖直高度。具体的，支撑面10是由多个支撑针50形成的一假想面，该支撑面10是由多个支撑针50的顶部501连线形成的一个可以承载基板200的假想面，每一支撑针50的顶部501的高度处于同一竖直高度，以使得形成的假想面可以稳定的承载基板200。在曝光基板200时，基板200与曝边机100的接触面积为基板200与多个支撑针50的接触面积，可以有效的减少支撑面10与基板200的接触面积。并且，为了消除基板200与支撑针50的顶部501接触时产生静电的现象，照射源40的设置高度应与该支撑针50的顶部501处于同一竖直高度。以使照射源40发出的光线可以照射到顶部501，从而在基板200与顶部501接触时不会产生静电。请参阅图4以及图5，本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种曝边机，其特征在于，包括：支撑面，以及在所述支撑面两侧相对设置的第一侧壁以及第二侧壁，其中，在所述第一侧壁的第一表面以及第二侧壁的第二表面上设置有多个照射源，所述多个照射源用于在曝光基板时对所述支撑面进行照射，以消除所述基板与所述支撑面接触而产生的静电。

【技术特征摘要】
1.一种曝边机，其特征在于，包括：支撑面，以及在所述支撑面两侧相对设置的第一侧壁以及第二侧壁，其中，在所述第一侧壁的第一表面以及第二侧壁的第二表面上设置有多个照射源，所述多个照射源用于在曝光基板时对所述支撑面进行照射，以消除所述基板与所述支撑面接触而产生的静电。2.如权利要求1所述的曝边机，其特征在于，所述支撑面由多个支撑针组成，所述多个支撑针的顶部连线形成所述支撑面，所述多个支撑针用于在曝光基板时减少所述支撑面与所述基板的接触面积。3.如权利要求2所述的曝边机，其特征在于，所述第一侧壁以及所述第二侧壁上的所述多个照射源与所述多个支撑针的顶部处于同一竖直高度。4.如权利要求2所述的曝边机，其特征在于，所述支撑面为方形的支撑面，所述多个照射源相对于所述方形的支撑面的拐角设置。5.如权利要求1所述的曝边机，其特征在于，所述多个照射源照射出的光线形成一照射面，所述照射面用于在曝光基板时对所述支撑面进行照射。6.如权利要求5所述的基板，其特...

【专利技术属性】
技术研发人员：王威，
申请(专利权)人：武汉华星光电技术有限公司，
类型：发明
国别省市：湖北,42