The invention provides a method for selecting LED epitaxy wafers, which includes: obtaining the wavelength K value according to the current density of the LED epitaxy wafer and the current density of the required LED chip; obtaining the required wavelength range of the LED epitaxy wafer according to the wavelength K value and the wavelength range of the required LED chip; and selecting the corresponding wavelength standard from a plurality of LED epitaxy wafers according to different wavelength standard deviations. The corresponding wavelength range of the peripheral LED epitaxy sheet is less than or equal to the required wavelength range of the LED epitaxy sheet. After the selected LED epitaxy chip is made into LED chip, the LED chip with high demand conformity rate and high product output concentration can be obtained.
【技术实现步骤摘要】
一种LED外延片的选片方法
本专利技术涉及半导体加工
,更具体地说,涉及一种LED外延片的选片方法。
技术介绍
现有技术中,都是在LED芯片的制作过程中,选出一些LED外延片制成LED芯片成品,测出LED芯片成品发出的光线的波长,并将该波长与直接测出的LED外延片的波长相减,得出波长k值,即波长波动值。然后将任一LED外延片的波长与波长k值相加后得到该LED外延片制成的LED芯片的波长预估值,判断该波长预估值是否在正常的波长范围内,若在范围内,则将该LED外延片选出并制成LED芯片,若不在范围内,则该LED外延片报废。但是,这种选择LED外延片的方式的周期较长,不能满足实际生产的需要。
技术实现思路
有鉴于此,本专利技术提供了一种LED外延片的选片方法,以缩短LED外延片的选片周期。为实现上述目的,本专利技术提供如下技术方案:一种LED外延片的选片方法,包括:根据LED外延片的电流密度以及所需的LED芯片的电流密度得出波长k值;根据所述波长k值以及所述所需的LED芯片的波长范围得到所需的LED外延片波长范围;根据不同的波长标准差从多个LED外延片中选出满足相应的波长范围的LED外延片,所述相应的波长范围小于或等于所述所需的LED外延片波长范围。可选地,根据LED外延片的电流密度以及所需的LED芯片的电流密度得出波长k值包括:根据所述LED外延片的电流密度以及电流密度与波长的对应关系得到所述LED外延片的波长;根据所述所需的LED芯片的电流密度以及电流密度与波长的对应关系得到所述所需的LED芯片的波长;根据所述LED外延片的波长以及所述所需的LED芯片的波 ...
【技术保护点】
1.一种LED外延片的选片方法,其特征在于,包括:根据LED外延片的电流密度以及所需的LED芯片的电流密度得出波长k值;根据所述波长k值以及所述所需的LED芯片的波长范围得到所需的LED外延片波长范围;根据不同的波长标准差从多个LED外延片中选出满足相应的波长范围的LED外延片,所述相应的波长范围小于或等于所述所需的LED外延片波长范围。
【技术特征摘要】
1.一种LED外延片的选片方法,其特征在于,包括:根据LED外延片的电流密度以及所需的LED芯片的电流密度得出波长k值;根据所述波长k值以及所述所需的LED芯片的波长范围得到所需的LED外延片波长范围;根据不同的波长标准差从多个LED外延片中选出满足相应的波长范围的LED外延片,所述相应的波长范围小于或等于所述所需的LED外延片波长范围。2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,根据LED外延片的电流密度以及所需的LED芯片的电流密度得出波长k值包括:根据所述LED外延片的电流密度以及电流密度与波长的对应关系得到所述LED外延片的波长;根据所述所需的LED芯片的电流密度以及电流密度与波长的对应关系得到所述所需的LED芯片的波长;根据所述LED外延片的波长以...
【专利技术属性】
技术研发人员:李镇勇,艾国栋,刘岩,刘建鋆,
申请(专利权)人:厦门乾照光电股份有限公司,
类型:发明
国别省市:福建,35
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