一种光刻投影物镜及光刻机制造技术

本发明专利技术实施例提供一种光刻投影物镜，所述光刻投影物镜包括沿光轴顺次排列的第一透镜组、第二透镜组、第三透镜组、光阑、第四透镜组、第五透镜组和第六透镜组，所述第一透镜组与所述第六透镜组关于所述光阑对称，所述第二透镜组与所述第五透镜组关于所述光阑对称；所述第三透镜组和所述第四透镜组关于所述光阑对称；

【技术实现步骤摘要】
一种光刻投影物镜及光刻机
本专利技术实施例涉及光刻技术，尤其涉及一种光刻投影物镜及光刻机。
技术介绍
光学光刻是一种用光将掩模图案投影复制的技术。集成电路就是由投影曝光装置制成的。借助于投影曝光装置，具有不同掩模图案的图形被成像至基底上，如硅片或LCD板，用于制造集成电路、薄膜磁头、液晶显示板，或微机电(MEMS)等一系列结构。过去数十年曝光设备技术水平不断发展，满足了更小线条尺寸，更大曝光面积，更高可靠性及产率，更低成本的需求。现有的光刻投影物镜存在诸如数值孔径较小、分辨率低、适用波段窄、数值孔径不可变和通常包括非球面透镜加工制造成本高等问题，目前尚没有任何文献或产品公开了能同时解决上述问题的现有技术。
技术实现思路
本专利技术实施例提供一种光刻投影物镜及光刻机，以解决上述现有技术中存在的问题。第一方面，本专利技术实施例提供一种光刻投影物镜，所述光刻投影物镜包括沿光轴顺次排列的第一透镜组、第二透镜组、第三透镜组、光阑、第四透镜组、第五透镜组和第六透镜组，所述第一透镜组与所述第六透镜组关于所述光阑对称，所述第二透镜组与所述第五透镜组关于所述光阑对称；所述第三透镜组和所述第四透镜组关于所述本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种光刻投影物镜，其特征在于，所述光刻投影物镜包括沿光轴顺次排列的第一透镜组、第二透镜组、第三透镜组、光阑、第四透镜组、第五透镜组和第六透镜组，所述第一透镜组与所述第六透镜组关于所述光阑对称，所述第二透镜组与所述第五透镜组关于所述光阑对称；所述第三透镜组和所述第四透镜组关于所述光阑对称；

【技术特征摘要】
1.一种光刻投影物镜，其特征在于，所述光刻投影物镜包括沿光轴顺次排列的第一透镜组、第二透镜组、第三透镜组、光阑、第四透镜组、第五透镜组和第六透镜组，所述第一透镜组与所述第六透镜组关于所述光阑对称，所述第二透镜组与所述第五透镜组关于所述光阑对称；所述第三透镜组和所述第四透镜组关于所述光阑对称；其中，f1为所述第一透镜组以及所述第六透镜组的焦距，f2为所述第二透镜组以及所述第五透镜组的焦距，f3为所述第三透镜组以及所述第四透镜组的焦距。2.根据权利要求1所述的光刻投影物镜，其特征在于，所述第一透镜组以及所述第六透镜组具有正的光焦度，所述第二透镜组以及所述第五透镜组具有负的光焦度，所述第三透镜组以及所述第四透镜组的焦距具有正的光焦度。3.根据权利要求1所述的光刻投影物镜，其特征在于，所述第一透镜组、所述第二透镜组、所述第三透镜组、所述第四透镜组、所述第五透镜组和所述第六透镜组中的所有的透镜均为球面透镜。4.根据权利要求1所述的光刻投影物镜，其特征在于，所述第一透镜组、所述第二透镜组、所述第三透镜组、所述第四透镜组、所述第五透镜组和所述第六透镜组均包括至少一个弯月透镜。5.根据权利要求1所述的光刻投影物镜，其特征在于，所述第一透镜组包括4个透镜，所述第二透镜组包括2个透镜；所述第三透镜组包括4个透镜；所述第四透镜组包括4个透镜；所述第五透镜组包括2个透镜；所述第六透镜组包括4个透镜。6.根据权利要求5所述的光刻投影物镜，其特征在于，所述第一透镜组包括沿光轴依次排列的第一透镜、第二透镜、第三透镜和第四透镜；所述第一透...

【专利技术属性】
技术研发人员：张羽，安福平，
申请(专利权)人：上海微电子装备集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：上海,31