【技术实现步骤摘要】
有机发光二极管显示面板及其制造方法
本申请涉及一种显示技术,特别涉及一种有机发光二极管(organiclightemittingdiode)显示面板及其制造方法。
技术介绍
有机发光二极管显示器和液晶显示器(liquidcrystaldisplay,LCD)相比,最大的优势在于OLED显示器可实现柔性显示。然而,OLED器件对水氧特别敏感,为了防止水氧入侵,同时达到柔性显示的效果,传统工艺会以一薄膜封装结构模封OLED器件。一般来说,薄膜封装结构由交叠的有机层和无机层构成,薄膜封装结构中的有机层具有一定的流动性,为将其限定在一定区域内,通常会在显示区域外围形成一圈或多圈挡墙(dam)。图1显示一种现有的OLED显示面板100的示意图。如图1所示,显示面板100分成非显示区域D和显示区域E,挡墙110设置在非显示区域D中,挡墙110定义了薄膜封装结构中有机层的边界。图2显示一种现有的异形屏200的示意图。请一并参阅图1和图2,挡墙100为封闭的环形结构,其具有一直边区(straightlineregion)SR和一拐角区(cornerregion)CR。图1所示的挡墙有四个拐角区CR,图2所示的异形屏200中拐角区CR的数量和形貌则更加复杂。由于拐角区CR的形状较直边区SR的形状相对复杂,现有技术中存在薄膜封装结构的有机层从拐角区CR溢出的问题,导致水氧入侵,OLED器件无法获得良好的水氧防护,降低OLED显示器的寿命。因异形屏200的拐角区CR数量多,薄膜封装结构的有机层溢出的问题更为严重。
技术实现思路
本申请的目的在于提供一种有机发光二极管显示面板及其制造 ...
【技术保护点】
1.一种有机发光二极管显示面板,包括一显示区域和一非显示区域,所述显示区域用于显示影像,所述非显示区域围绕所述显示区域,其特征在于,所述显示面板包括:一薄膜晶体管阵列基板,其在所述非显示区域上包括一绝缘层叠构,所述绝缘层叠构包括若干个层叠的绝缘层;若干个有机发光单元,设置于所述薄膜晶体管阵列基板上,位于所述显示区域中;一第一挡墙,设置于所述薄膜晶体管阵列基板上,所述第一挡墙位于所述非显示区域且围绕所述显示区域;一第二挡墙,设置于所述薄膜晶体管阵列基板上,所述第二挡墙位于所述非显示区域且围绕所述第一挡墙,所述第一挡墙和所述第二挡墙相距一段距离,所述第一挡墙和所述第二挡墙构成一环形结构,在所述环形结构上定义有一直边区和一拐角区;一沟槽,设置于所述环形结构的所述直边区,位于所述第一挡墙和所述第二挡墙之间,所述沟槽设置于所述薄膜晶体管阵列基板之所述绝缘层叠构中,具有一暴露之开口;以及一薄膜封装结构,具有交叠的一或多个有机层和一或多个无机层,所述薄膜封装结构覆盖所述薄膜晶体管阵列基板、所述若干个有机发光单元、所述第一挡墙、所述第二挡墙及设置于所述环形结构之所述直边区的所述沟槽暴露之所述开口。
【技术特征摘要】
1.一种有机发光二极管显示面板,包括一显示区域和一非显示区域,所述显示区域用于显示影像,所述非显示区域围绕所述显示区域,其特征在于,所述显示面板包括:一薄膜晶体管阵列基板,其在所述非显示区域上包括一绝缘层叠构,所述绝缘层叠构包括若干个层叠的绝缘层;若干个有机发光单元,设置于所述薄膜晶体管阵列基板上,位于所述显示区域中;一第一挡墙,设置于所述薄膜晶体管阵列基板上,所述第一挡墙位于所述非显示区域且围绕所述显示区域;一第二挡墙,设置于所述薄膜晶体管阵列基板上,所述第二挡墙位于所述非显示区域且围绕所述第一挡墙,所述第一挡墙和所述第二挡墙相距一段距离,所述第一挡墙和所述第二挡墙构成一环形结构,在所述环形结构上定义有一直边区和一拐角区;一沟槽,设置于所述环形结构的所述直边区,位于所述第一挡墙和所述第二挡墙之间,所述沟槽设置于所述薄膜晶体管阵列基板之所述绝缘层叠构中,具有一暴露之开口;以及一薄膜封装结构,具有交叠的一或多个有机层和一或多个无机层,所述薄膜封装结构覆盖所述薄膜晶体管阵列基板、所述若干个有机发光单元、所述第一挡墙、所述第二挡墙及设置于所述环形结构之所述直边区的所述沟槽暴露之所述开口。2.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于:所述第一挡墙包括一第一闭环结构,所述第二挡墙包括一第二闭环结构,所述第一闭环结构设置于所述第二闭环结构内,所述沟槽设置于所述第一闭环结构和所述第二闭环结构之间。3.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于:所述薄膜晶体管阵列基板在所述直边区的高度低于在所述拐角区的高度。4.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于:所述沟槽具有一侧壁及一底壁,所述沟槽的所述侧壁及所述底壁邻接所述绝缘层叠构的所述若干个绝缘层中的至少一绝缘层。5.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于:所述沟槽具有一侧壁及一底壁,所述沟槽的所述侧壁邻接所述绝缘层叠构...
【专利技术属性】
技术研发人员:曹君,徐湘伦,
申请(专利权)人:武汉华星光电半导体显示技术有限公司,
类型:发明
国别省市:湖北,42
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