The invention relates to a method for improving the cutting burr of flexible base plate, which is used for reducing or eliminating the burr at the cutting edge after pre-cutting of flexible base plate, and adopting polishing method to reduce or eliminate the burr. After verification, it is found that after pre-cutting, a large number of burrs will be formed on one side of the flexible substrate at the cutting edge. The burrs can be treated by polishing method to reduce the height of burrs, even eliminate burrs, so that the flexible substrate can meet the requirements of flat surface in the subsequent process, and to a large extent improve the yield of the flexible substrate, as well as the yield of the subsequent process. It improves the production efficiency.
【技术实现步骤摘要】
改善柔性基板切割毛刺的方法
本专利技术涉及柔性基板的制备工艺
,特别是涉及改善柔性基板切割毛刺的方法。
技术介绍
柔性基板如彩色滤光片基板在制作过程中,为了方便后期的绑定可以在TFT基板(ThinFilmTransistor,薄膜晶体管基板)上顺利的进行,需要事先在CF基板(ColorFilter,彩色滤光片基板)上进行预切割,暴露出TFT基板上的bonding位(打线位)。在预切割后经过ODF制程(OneDropFilling,液晶滴下制程),随后在切割裂片之后去掉CF基板上多余的部分。但是,因为预切割时,CF基板结构的限制,在经过预切割后会导致在切缝两边形成大量很高的毛刺,影响ODF等制程的顺利进行,使产品良品率下降。
技术实现思路
基于此,有必要针对上述问题,提供一种改善柔性基板切割毛刺的方法,,在不损伤柔性基板情况下,有效改善毛刺,利于后续制程的顺利进行,提高了产品良率。一种改善柔性基板切割毛刺的方法,用于削减或消除柔性基板预切割后于切割口处产生的毛刺,采用抛光方法削减或消除毛刺,包括以下步骤:将具有毛刺的柔性基板沿毛刺延伸的方向逐渐靠近抛光盘,使毛刺与抛光盘的抛光面接触,并随着毛刺高度的削减将所述柔性基板逐渐靠向抛光盘,至该处的毛刺高度削减至要求的高度,或者消除毛刺;然后沿多个毛刺排列的方向移动柔性基板,按前述操作继续抛光,直至将所有毛刺削减或消除。上述改善柔性基板切割毛刺的方法,经过验证发现,在预切割后,柔性基板的其中一侧面于切割口处会形成大量毛刺,该毛刺可以通过抛光方法处理,来降低毛刺的高度,甚至消除毛刺,使柔性基板可以满足后续工序的板面平 ...
【技术保护点】
1.一种改善柔性基板切割毛刺的方法,用于削减或消除柔性基板预切割后于切割口处产生的毛刺,其特征在于,采用抛光方法削减或消除所述毛刺,包括以下步骤:将具有毛刺的柔性基板沿毛刺延伸的方向逐渐靠近抛光盘,使毛刺与抛光盘的抛光面接触,并随着毛刺高度的削减将所述柔性基板逐渐靠向抛光盘,至该处的毛刺高度削减至要求的高度,或者消除毛刺;然后沿多个毛刺排列的方向移动柔性基板,按前述操作继续抛光,直至将所有毛刺削减或消除。
【技术特征摘要】
1.一种改善柔性基板切割毛刺的方法,用于削减或消除柔性基板预切割后于切割口处产生的毛刺,其特征在于,采用抛光方法削减或消除所述毛刺,包括以下步骤:将具有毛刺的柔性基板沿毛刺延伸的方向逐渐靠近抛光盘,使毛刺与抛光盘的抛光面接触,并随着毛刺高度的削减将所述柔性基板逐渐靠向抛光盘,至该处的毛刺高度削减至要求的高度,或者消除毛刺;然后沿多个毛刺排列的方向移动柔性基板,按前述操作继续抛光,直至将所有毛刺削减或消除。2.根据权利要求1所述的改善柔性基板切割毛刺的方法,其特征在于,所述抛光盘的直径为50mm~150mm。3.根据权利要求1所述的改善柔性基板切割毛刺的方法,其特征在于,所述抛光盘的转速为70±1r/min。4.根据权利要求1所述的改善柔性基板切割毛刺的方法,其特征在于,每一处毛刺的抛...
【专利技术属性】
技术研发人员:柳发霖,方翠怡,董思娜,谭晓彬,李林,
申请(专利权)人:信利半导体有限公司,
类型:发明
国别省市:广东,44
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。