曝光补偿表的生成方法、光阻曝光补偿的方法及曝光机台技术

本发明专利技术公开了一种曝光补偿表的生成方法、光阻曝光补偿的方法及曝光机台。所述曝光机台包括：曝光部件、与所述曝光部件控制连接的曝光补偿控制模块、及曝光补偿表，所述曝光补偿表包括：曝光后的目标光阻图案线宽值、曝光机台类型、光罩开口尺寸、及对应的曝光能量和曝光时间参数；所述的曝光补偿控制模块根据曝光后的目标光阻图案线宽值、曝光机台类型和现有光罩开口尺寸从曝光补偿表中读取对应的曝光能量和曝光时间参数进行曝光。本发明专利技术通过生成记录有预设的曝光参数和得到的光阻图案线宽值的曝光补偿表，而在曝光时查询曝光补偿表查询对应的曝光能量和曝光时间参数，使得适用不同曝光参数曝光后形成的光阻图案线宽一致更高，显示效果更好。

Generation of Exposure Compensation Meter, Method of Photoresistive Exposure Compensation and Exposure Platform

The invention discloses a generating method of an exposure compensation meter, a photoresistive exposure compensation method and an exposure machine. The exposure stage comprises an exposure component, an exposure compensation control module connected with the exposure component control, and an exposure compensation meter, which comprises: the linewidth of the target photoresistive pattern after exposure, the type of the exposure stage, the aperture size of the hood, and the corresponding exposure energy and exposure time parameters; the exposure compensation control module is based on the target light after exposure. The line width of the resistance pattern, the type of exposure machine and the opening size of the existing hood are read from the exposure compensation meter to obtain the corresponding exposure energy and exposure time parameters for exposure. The invention generates an exposure compensation table that records the preset exposure parameters and the line width of the photoresistive pattern obtained, and inquires the corresponding exposure energy and exposure time parameters by inquiring the exposure compensation table during exposure, so that the line width of the photoresistive pattern formed after exposure with different exposure parameters is uniform and higher, and the display effect is better.

【技术实现步骤摘要】
曝光补偿表的生成方法、光阻曝光补偿的方法及曝光机台
本专利技术涉及光阻曝光领域，尤其涉及一种曝光补偿表的生成方法、光阻曝光补偿的方法及曝光机台。
技术介绍
光阻曝光显示技术普遍应用于各种领域，以显示面板的制造来说，显示面板上各光阻的图案形成都是普遍采用对光阻进行曝光显影技术形成的。对光阻进行曝光时，通常需要使用曝光机，配合特定图案的光罩，使得光阻部分暴露部分遮挡，以在显影后形成预设的图案。曝光显影后形成的光阻线宽与光罩的开口尺寸和曝光机台的相关参数有直接关系。当同一黑色矩阵(blackmatrix)光阻在两种不同曝光机的曝光参数状态下使用时，因频谱差异不同，材料反应时交联程度不同，最终造成图案线宽(patternCD)差异，导致不同产品的光阻图案线宽不同，显示效果受到明显影响。
技术实现思路
有鉴于现有技术的上述问题，本专利技术所要解决的技术问题是提供一种能适用不同曝光参数使得曝光后光阻图案线宽一致的曝光补偿表的生成方法、光阻曝光补偿的方法及曝光机台。为实现本专利技术的目的，本专利技术提供了一种曝光补偿表的生成方法、光阻曝光补偿的方法及曝光机台。一种曝光补偿表的生成方法，包括以下步骤：A本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种曝光补偿表的生成方法，其特征在于，包括以下步骤：A：按照预设的曝光参数，开始一次曝光显影测试，并将预设的曝光参数和得到的光阻图案线宽值记录至曝光补偿表中；所述曝光参数包括以下各参数的至少一个：曝光机台类型、光罩开口尺寸、光能量、曝光时间；B：按照曝光补偿表预设的曝光参数调整曝光机，重新执行步骤A，直至所有预设的曝光参数全部测试完毕。

【技术特征摘要】
1.一种曝光补偿表的生成方法，其特征在于，包括以下步骤：A：按照预设的曝光参数，开始一次曝光显影测试，并将预设的曝光参数和得到的光阻图案线宽值记录至曝光补偿表中；所述曝光参数包括以下各参数的至少一个：曝光机台类型、光罩开口尺寸、光能量、曝光时间；B：按照曝光补偿表预设的曝光参数调整曝光机，重新执行步骤A，直至所有预设的曝光参数全部测试完毕。2.如权利要求1所述的一种曝光补偿表的生成方法，其特征在于，所述曝光补偿表中，各次测试中对应同一位置的光罩开口尺寸不变，光罩开口尺寸作为一固定值记录在所述曝光补偿表中。3.如权利要求1所述的一种曝光补偿表的生成方法，其特征在于，所述的曝光补偿表中，所述曝光机为扫描式曝光机。4.如权利要求1所述的一种曝光补偿表的生成方法，其特征在于，所述的曝光补偿表中，所述曝光机为近接式曝光机，所述曝光参数还包括曝光机的光线波段。5.如权利要求1所述的一种曝光补偿表的生成方法，其特征在于，所述曝光参数还包括被曝光的光阻类型。6.一种使用如权利要求1-5任意一项所述的曝光补偿表的光阻曝光补偿的方法，其特征在于，包括以...

【专利技术属性】
技术研发人员：黄北洲，
申请(专利权)人：惠科股份有限公司，
类型：发明
国别省市：广东,44