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本发明公开了一种曝光补偿表的生成方法、光阻曝光补偿的方法及曝光机台。所述曝光机台包括：曝光部件、与所述曝光部件控制连接的曝光补偿控制模块、及曝光补偿表，所述曝光补偿表包括：曝光后的目标光阻图案线宽值、曝光机台类型、光罩开口尺寸、及对应的曝光...
该专利属于惠科股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过惠科股份有限公司授权不得商用。

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