一种柔性阵列基板及其制作方法技术

本发明专利技术提供一种柔性阵列基板及其制作方法，该制作方法包括：在第二栅极、未被第二栅极覆盖的第一栅极绝缘层上形成有机层；对所述有机层进行图案化处理，以形成两个阻隔孔；在所述有机层上和所述阻隔孔内形成层间绝缘层，对所述层间绝缘层进行图案化处理，以形成两个过孔；在所述过孔内以及所述层间绝缘层上形成第一金属层，对所述第一金属层进行图案化处理，形成源极和漏极；在所述源极、所述漏极以及未被所述源极、所述漏极覆盖的层间绝缘层上形成平坦层。本发明专利技术的柔性阵列基板及其制作方法，能够防止平坦层发生脱落。

A Flexible Array Substrate and Its Fabrication Method

The invention provides a flexible array substrate and a fabrication method thereof. The fabrication method includes: forming an organic layer on the second gate and the first gate insulating layer not covered by the second gate; patterning the organic layer to form two barrier holes; forming an interlayer insulating layer on the organic layer and in the barrier hole, patterning the interlayer insulating layer. In order to form two through holes, a first metal layer is formed in the through hole and on the interlayer insulating layer, and the first metal layer is patterned to form a source and a drain pole; a flat layer is formed on the source pole, the drain pole and the interlayer insulating layer not covered by the source pole and the drain pole. The flexible array substrate and its fabrication method can prevent the flat layer from falling off.

【技术实现步骤摘要】
一种柔性阵列基板及其制作方法
本专利技术涉及显示
，特别是涉及一种柔性阵列基板及其制作方法。
技术介绍
如图1所示，现有的柔性阵列基板包括柔性衬底11、缓冲层12、沟道13、第一栅极绝缘层14、第一栅极15、第二栅极绝缘层16、第二栅极17、层间绝缘层18、有机层19、第二金属层20以及平坦层21，在制程过程中需要对第二金属层20进行曝光、显影、蚀刻，以形成源极和漏极，但是由于在蚀刻过程中会对有机层19造成损伤，使得有机层19的表面特征发生异常，导致平坦层容易发生脱落。因此，有必要提供一种柔性阵列基板及其制作方法，以解决现有技术所存在的问题。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种柔性阵列基板及其制作方法，能够防止平坦层发生脱落。为解决上述技术问题，本专利技术提供一种柔性阵列基板的制作方法，其包括：制备柔性衬底；在所述柔性衬底上制作沟道；在所述沟道上制作第一栅极；在所述第一栅极上制作第一栅极绝缘层；在所述第一栅极绝缘层上制作第二栅极；在所述第二栅极、未被所述第二栅极覆盖的第一栅极绝缘层上形成有机层；对所述有机层进行图案化处理，以形成两个阻隔孔；在所述有机层上和所述阻本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种柔性阵列基板的制作方法，其包括：制备柔性衬底；在所述柔性衬底上制作沟道；在所述沟道上制作第一栅极；在所述第一栅极上制作第一栅极绝缘层；在所述第一栅极绝缘层上制作第二栅极；在所述第二栅极、未被所述第二栅极覆盖的第一栅极绝缘层上形成有机层；对所述有机层进行图案化处理，以形成两个阻隔孔；在所述有机层上和所述阻隔孔内形成层间绝缘层，对所述层间绝缘层进行图案化处理，以形成两个过孔；在所述过孔内以及所述层间绝缘层上形成第一金属层，对所述第一金属层进行图案化处理，形成源极和漏极；在所述源极、所述漏极以及未被所述源极、所述漏极覆盖的层间绝缘层上形成平坦层。

【技术特征摘要】
1.一种柔性阵列基板的制作方法，其包括：制备柔性衬底；在所述柔性衬底上制作沟道；在所述沟道上制作第一栅极；在所述第一栅极上制作第一栅极绝缘层；在所述第一栅极绝缘层上制作第二栅极；在所述第二栅极、未被所述第二栅极覆盖的第一栅极绝缘层上形成有机层；对所述有机层进行图案化处理，以形成两个阻隔孔；在所述有机层上和所述阻隔孔内形成层间绝缘层，对所述层间绝缘层进行图案化处理，以形成两个过孔；在所述过孔内以及所述层间绝缘层上形成第一金属层，对所述第一金属层进行图案化处理，形成源极和漏极；在所述源极、所述漏极以及未被所述源极、所述漏极覆盖的层间绝缘层上形成平坦层。2.根据权利要求1所述的柔性阵列基板的制作方法，其特征在于，所述在所述第一栅极绝缘层上制作第二栅极的步骤之后，以及在所述第二栅极、未被第二栅极覆盖的第一栅极绝缘层形成有机层的步骤之前，所述方法还包括：在所述第一栅极绝缘层上形成缓冲孔，所述缓冲孔从所述第一栅极绝缘层延伸到所述柔性衬底的上表面。3.根据权利要求2所述的柔性阵列基板的制作方法，其特征在于，所述在所述第二栅极、未被所述第二栅极覆盖的第一栅极绝缘层上形成有机层的步骤包括：在所述第二栅极、未被所述第二栅极覆盖的第一栅极绝缘层上以及所述缓冲孔内形成有机层。4.根据权利要求2所述的柔性阵列基板的制作方法，其特征在于，所述柔性阵列基板包括多条金属走线，所述缓冲孔在所述柔性衬底上的投影与所述沟道、所述第一栅极、...

【专利技术属性】
技术研发人员：徐品全，
申请(专利权)人：武汉华星光电半导体显示技术有限公司，
类型：发明
国别省市：湖北,42