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本发明提供一种柔性阵列基板及其制作方法,该制作方法包括:在第二栅极、未被第二栅极覆盖的第一栅极绝缘层上形成有机层;对所述有机层进行图案化处理,以形成两个阻隔孔;在所述有机层上和所述阻隔孔内形成层间绝缘层,对所述层间绝缘层进行图案化处理,以形...该专利属于武汉华星光电半导体显示技术有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过武汉华星光电半导体显示技术有限公司授权不得商用。
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本发明提供一种柔性阵列基板及其制作方法,该制作方法包括:在第二栅极、未被第二栅极覆盖的第一栅极绝缘层上形成有机层;对所述有机层进行图案化处理,以形成两个阻隔孔;在所述有机层上和所述阻隔孔内形成层间绝缘层,对所述层间绝缘层进行图案化处理,以形...