压印模板及其制作方法技术

本发明专利技术提供了压印模板及其制作方法。制作压印模板的方法包括：提供基板；在基板上形成网格结构，网格结构包括多个开口；在每个开口中形成子模板图案，多个子模板图案构成模板图案，以便得到压印模板。由此，制备方法简单，工艺成熟，易于工业化生产；而且网格结构中的多个子模板图案拼接构成一个大尺寸的模板图案，得到大尺寸的压印模板，使得压印模板的尺寸不再受限于现有压印模板的制作工艺。

Impression Template and Its Making Method

The invention provides an impression template and a manufacturing method thereof. The method of making the impression template includes: providing a substrate; forming a grid structure on the substrate, which includes multiple openings; forming a sub-template pattern in each opening, and forming a template pattern with multiple sub-template patterns in order to obtain the impression template. As a result, the preparation method is simple, the process is mature, and easy to industrialize production; moreover, a large-scale template pattern is formed by splicing multiple sub-templates in the grid structure, which can obtain large-scale template, so that the size of the template is no longer limited by the existing manufacturing process of the template.

【技术实现步骤摘要】
压印模板及其制作方法
本专利技术涉及压印
，具体的，涉及压印模板及其制作方法。
技术介绍
压印技术是一种光刻技术之外的重要薄膜图案化技术，其中，纳米压印技术是一种新型的微纳加工技术，该技术通过机械转移的手段，达到了超高的分辨率，有望在未来取代传统光刻技术，成为微电子、材料领域的重要加工手段。模板是纳米压印技术中重要的组成部分，现阶段模板的制作方法有电子束直写、激光干涉等，但由于技术原理、设备和成本等方面的原因，模板的尺寸较小，大尺寸模板的制作却非常困难。因此，关于压印模板的研究有待深入。
技术实现思路
本专利技术旨在至少在一定程度上解决相关技术中的技术问题之一。为此，本专利技术的一个目的在于提出一种具有大尺寸、无缝拼接、制作成本低或制作简单等优点的压印模板。在本专利技术的一个方面，本专利技术提供了一种制作压印模板的方法。根据本专利技术的实施例，制作压印模板的方法包括：提供基板；在所述基板上形成网格结构，所述网格结构包括多个开口；在每个所述开口中形成子模板图案，多个所述子模板图案构成模板图案，以便得到所述压印模板。由此，制备方法简单，工艺成熟，成本低，易于工业化生产；而且网格结构中的多个子模板图案拼接构成一个大尺寸的模板图案，得到大尺寸的压印模板，使得压印模板的尺寸不再受限于现有压印模板的制作工艺。根据本专利技术的实施例，形成所述子模板图案的步骤包括：向所述开口中填充模板胶；利用压印模具对位压印所述模板胶；对对位压印之后的所述模板胶进行固化和脱模处理。根据本专利技术的实施例，对位压印之前所述模板胶的高度低于所述网格结构的高度，对位压印之后所述模板胶的高度等于所述网格结构的高度。根据本专利技术的实施例，所述网格结构的高度为50纳米～10微米。根据本专利技术的实施例，所述网格结构中的挡板的宽度为200纳米～10微米。根据本专利技术的实施例，形成所述网格结构的方法选自光刻和激光直写中的至少一种。根据本专利技术的实施例，形成所述网格结构的材料选自聚二甲基硅氧烷、丙烯酸盐聚合物和聚合多元醇中的至少一种；形成所述模板胶的材料选自聚二甲基硅氧烷、丙烯酸盐聚合物和聚合多元醇中的至少一种。根据本专利技术的实施例，所述开口的形状选自圆形、椭圆形、规则多边形或不规则多边形中的至少一种。根据本专利技术的实施例，制作压印模板的方法包括：提供所述基板；在所述基板上通过光刻或激光直写形成所述网格结构，所述网格结构包括多个呈矩形的所述开口，所述挡板的宽度为1微米；向所述开口中填充模板胶；利用具有条纹图案的压印模具对位压印所述模板胶，对位压印后所述模板胶的高度等于所述网格结构的高度；通过紫外光照射对对位压印之后的所述模板胶进行所述固化处理，之后进行所述脱模处理，其中，所述紫外光的波长为365纳米。在本专利技术的另一方面，本专利技术提供了一种压印模板。根据本专利技术的实施例，所述压印模板是利用前面所述的方法制作得到的。由此，该压印模板尺寸较大，可以压印制作大尺寸的图案，且制作的图案精准美观。附图说明图1是本专利技术一个实施例中制作压印模板的方法流程图。图2是本专利技术另一个实施例中制作压印模板的结构示意图。图3为图2中沿AA’的截面图。图4是本专利技术又一个实施例中制作压印模板的结构示意图。图5为图4中沿BB’的截面图。图6是本专利技术又一个实施例中制作压印模板的结构示意图。图7是本专利技术又一个实施例中制作压印模板的结构示意图。图8是本专利技术又一个实施例中制作压印模板的结构示意图。图9是本专利技术又一个实施例中制作压印模板的结构示意图。图10是本专利技术又一个实施例中制作压印模板的结构示意图。具体实施方式下面详细描述本专利技术的实施例。下面描述的实施例是示例性的，仅用于解释本专利技术，而不能理解为对本专利技术的限制。实施例中未注明具体技术或条件的，按照本领域内的文献所描述的技术或条件或者按照产品说明书进行。如前所述，大尺寸的压印模板的制作非常困难，目前在制作大尺寸压印图案时，通常是先在基板上涂覆压印材料，将压印材料划分为多个区域，然后利用现有的多个小尺寸压印模板(通常不会大于20cm×20cm)分别依次压印每个区域的压印材料，以形成大尺寸压印图案的一部分，最终多个压印区域的压印图案共同拼接构成大尺寸的压印图案，但是在压印时，一方面压印材料在压印模板的作用下会向四周流动，进而会影响其他区域的压印材料或已压印成型的部分压印图案；另一方面为了减弱上述压印材料的流动对其他区域的影响，相邻两个区域的压印图案之间的间距较大，无法实现无缝拼接的效果，影响压印图案的美观性。针对上述问题，专利技术人提出了一种大尺寸压印模板的制作方法，该方法可以完美地解决上述技术的缺陷。在本专利技术的一个方面，本专利技术提供了一种制作压印模板的方法。根据本专利技术的实施例，制作压印模板的方法包括：S100：提供基板。根据本专利技术的实施例，形成基板的材料没有限制要求，本领域技术人员可以根据压印模板的用途和应用环境等实际需求灵活选择即可，在本专利技术的一些实施例中，形成基板的材料包括但不限于聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)和聚二甲基硅氧烷(PDMS)。由此，使用性能好，性质稳定，不易受到外界环境的干扰。S200：在基板10上形成网格结构20，网格结构包括多个开口21，结构示意图参照图2和图3。根据本专利技术的实施例，形成网格结构的方法选自光刻(比如紫外光光刻)和激光直写中的至少一种。由此，制作的网格结构尺寸精准，纹理清晰，性能稳定，而且网格结构和后续步骤中制作的子模板图案的兼容性好，可以作为所制作的模板图案的一部分。根据本专利技术的实施例，形成网格结构的材料选自聚二甲基硅氧烷、丙烯酸盐聚合物和聚合多元醇中的至少一种。由此，网格结构性能稳定，使用性能较佳，与后续制备的模板图案兼容性强。根据本专利技术的实施例，参照图3(图2中沿AA’的截面图)，网格结构的高度H为50纳米～10微米，比如50纳米、80纳米、100纳米、150纳米、200纳米、250纳米、300纳米、400纳米、500纳米、60纳米、700纳米、800纳米、900纳米、1微米、1.5微米、2微米、2.5微米、3微米、4微米、5微米、6微米、7微米、8微米、9微米或10微米。由此，可以根据需要制备所需纹理深度的压印模板，以便得到所需压印深度的压印图案，而且在后续步骤中可以有效阻挡模板胶向网格结构中其他开口的流动，以免影响其他区域的模板胶。根据本专利技术的实施例，参照图2和图3，网格结构20中的挡板22的宽度S为200纳米～10微米，比如200纳米、250纳米、300纳米、350纳米、400纳米、500纳米、600纳米、700纳米、800纳米、900纳米、1微米、1.5微米、2微米、2.5微米、3微米、4微米、5微米、6微米、7微米、8微米、9微米或10微米。由此，在后续步骤中，在每个开口中形成子模板图案，多个子模板图案拼接构成整体的模板图案，由于挡板的宽度较窄，可以实现相邻两个子模板图案的无缝拼接，进而很大程度的提高最终制作的压印图案的精准度，由此也可提高压印图案的美观性，此外，当网格结构构成所需模板图案的一部分时，本领域技术人员可以根据模板图案的尺寸设计挡板的宽度。需要说明的是，网格结构20中的挡板22是用于划分多个开口21，挡板22既包括网格结构20内部的网格挡板，也包括网格结构边缘的网格挡板。根据本专利技术的实施例，网格结构中开口的数量(比如可以本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种制作压印模板的方法，其特征在于，包括：提供基板；在所述基板上形成网格结构，所述网格结构包括多个开口；在每个所述开口中形成子模板图案，多个所述子模板图案构成模板图案，以便得到所述压印模板。

【技术特征摘要】
1.一种制作压印模板的方法，其特征在于，包括：提供基板；在所述基板上形成网格结构，所述网格结构包括多个开口；在每个所述开口中形成子模板图案，多个所述子模板图案构成模板图案，以便得到所述压印模板。2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，形成所述子模板图案的步骤包括：向所述开口中填充模板胶；利用压印模具对位压印所述模板胶；对对位压印之后的所述模板胶进行固化和脱模处理。3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，对位压印之前所述模板胶的高度低于所述网格结构的高度，对位压印之后所述模板胶的高度等于所述网格结构的高度。4.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述网格结构的高度为50纳米～10微米。5.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述网格结构中的挡板的宽度为200纳米～10微米。6.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，形成所述网格结构的方法选自光刻和激光直写中的至少一种。7.根据权利要求...

【专利技术属性】
技术研发人员：张笑，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：北京,11