【技术实现步骤摘要】
纳米压印模板、纳米压印装置及纳米压印方法
本专利技术涉及压印
，特别涉及一种纳米压印模板、纳米压印装置及纳米压印方法。
技术介绍
普通的纳米压印方法为在沉积金属层的基板上形成光阻薄膜，使用压印机台搭配压印模板完成压印，除底胶后刻蚀金属层形成光栅。由于目前技术限制，模板面积很难做大，因此单次压印只能得到小面积的金属线栅偏光片，而小面积的金属线栅偏光片拼接后会存在拼接缝，目前对应的拼接技术仍只能将拼接缝控制在微米级别，当拼接的金属线栅偏光片用于电视机等大型显示器时会出现明显亮暗条纹。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种纳米压印模板、纳米压印装置及纳米压印方法，以解决拼接的金属线栅偏光片用于大型显示器时会出现明显亮暗条纹的技术问题。本专利技术提供一种纳米压印模板，用于对显示面板上的待压印偏光片进行压印，所述显示面板包括多个像素以及位于多个所述像素之间的黑色矩阵，所述纳米压印模板包括数个压印模块以及围绕所述压印模块的非压印模块，所述纳米压印模板用于在对所述待压印偏光片压印时置于所述待压印偏光片上，且所述非压印模块在所述显示面板上的正投影在所述黑色矩阵之内。其中，...
【技术保护点】
1.一种纳米压印模板，用于对显示面板上的待压印偏光片进行压印，所述显示面板包括多个像素以及位于多个所述像素之间的黑色矩阵，其特征在于，所述纳米压印模板包括数个压印模块以及围绕所述压印模块的非压印模块，所述纳米压印模板用于在对所述待压印偏光片压印时置于所述待压印偏光片上，且所述非压印模块在所述显示面板上的正投影在所述黑色矩阵之内。
【技术特征摘要】
1.一种纳米压印模板，用于对显示面板上的待压印偏光片进行压印，所述显示面板包括多个像素以及位于多个所述像素之间的黑色矩阵，其特征在于，所述纳米压印模板包括数个压印模块以及围绕所述压印模块的非压印模块，所述纳米压印模板用于在对所述待压印偏光片压印时置于所述待压印偏光片上，且所述非压印模块在所述显示面板上的正投影在所述黑色矩阵之内。2.根据权利要求1所述的纳米压印模板，其特征在于，所述非压印模块的宽度在5μm以内。3.一种纳米压印装置，其特征在于，包括如权利要求1-2任一项所述的纳米压印模板，所述黑色矩阵上设有第一对位标志，所述非压印模块上设有第二对位标志，所述第一对位标志与所述第二对位标志对位，以使所述非压印模块在所述显示面板上的正投影在所述黑色矩阵之内。4.根据权利要求3所述的纳米压印装置，其特征在于，纳米压印装置包括CCD相机，所述CCD相机用于获取所述第一对位标志与所述第二对位标志的对位图像。5.根据权利要求4所述的纳米压印装置，其特征在于，所述纳米压印装置还包括与CCD相机连接的所述处理器以及与所述处理器连接的报警器；所述处理器用于判断所...
【专利技术属性】
技术研发人员：侯俊，李冬泽，李佳育，
申请(专利权)人：深圳市华星光电技术有限公司，
类型：发明
国别省市：广东,44
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