类E类射频功率放大器制造技术

技术编号:19938121 阅读:37 留言:0更新日期:2018-12-29 06:23
本发明专利技术公开了一种类E类射频功率放大器,两个MOS管串联后第二MOS一端通过第一电感接电源,第一MOS的剩余一端接地,接地的MOS管栅极为类E类功率放大器的输入端口;接第一电感的MOS管的栅极与第一电容连接,第一电容的另一端接地;第一电阻一端接第一电容,另一端接VB;第二MOS的漏端依次串接第二电容以及第二电感后形成第二输出端,且第二输出端还通过一第四电容接地;第一MOS的漏端依次串接第三电容以及第三电感后形成第一输出端,且第一输出端还通过一第五电容接地。本发明专利技术每个MOS管均具有漏端输出,具有较强的输出功率,且实际占用的版图面积与传统的E类功率放大器的面积相当。

【技术实现步骤摘要】
类E类射频功率放大器
本专利技术涉及RF前端集成电路,特别是指一种类E类功率放大器。
技术介绍
功率放大器简称功放,其作用主要是将输入的较微弱信号进行放大后,输出足够大的功率去推动负载。传统的单端类E类功率放大器如图1所示,包含有两串联的MOS管M1、M2,以及电阻、电容、电感等器件,级联晶体管可以避免电路被击穿。单端的输出使得电路的负载能力较弱。图2是一种组合的单端类E类功率放大器,简单来说,就是将两个图1所示的单端类E类功率放大器进行并联,将两路的输出功率经过功率合成器合并形成一个较强的输出端口,来提高输出功率。其缺点是因为使用了两路甚至更多的单端类E类功率放大器,元器件多,占用了较大的芯片面积。
技术实现思路
本专利技术所要解决的技术问题在于提供一种类E类功率放大器。为解决上述问题,本专利技术所述的一种类E类功率放大器,包含一个电阻、第一~第二共两个MOS管、第一~第三共3个电感、第一~第五共5个电容:两个MOS管串联后第二MOS一端通过第一电感接电源,第一MOS的剩余一端接地,接地的MOS管栅极为类E类功率放大器的输入端口;接第一电感的MOS管的栅极与第一电容连接,第一电容的另一本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种类E类射频功率放大器,其特征在于:包含一个电阻、第一~第二共两个MOS管、第一~第三共3个电感、第一~第五共5个电容:两个MOS管串联后第二MOS一端通过第一电感接电源,第一MOS的剩余一端接地,接地的MOS管栅极为类E类功率放大器的输入端口;接第一电感的MOS管的栅极与第一电容连接,第一电容的另一端接地;第一电阻一端接第一电容,另一端接电压VB,所述电压VB为一偏置电压,采用连接电源或者其他偏置电压,根据电路需要进行调整;第二MOS的漏端依次串接第二电容以及第二电感后,形成第二输出端,且第二输出端还通过一第四电容接地;第一MOS的漏端依次串接第三电容以及第三电感后,形成第一输出端,且...

【技术特征摘要】
1.一种类E类射频功率放大器,其特征在于:包含一个电阻、第一~第二共两个MOS管、第一~第三共3个电感、第一~第五共5个电容:两个MOS管串联后第二MOS一端通过第一电感接电源,第一MOS的剩余一端接地,接地的MOS管栅极为类E类功率放大器的输入端口;接第一电感的MOS管的栅极与第一电容连接,第一电容的另一端接地;第一电阻一端接第一电容,另一端接电压VB,所述电压VB为一偏置电压,采用连接电源或者其他偏置电压,根据电路需要进行调整;第二MOS的漏端依次串接第二电容以及第二电感后,形成第二输出端,且第二输出端还通过一第四电容接地;第一MOS的漏端依次串接第三电容以及第三电感后,形成第一输出端,且第一输出端还通过一第五电容接地。2.如权利要求1所述的类E类射频功率放大器,其特征在于:所述的第一及第二MOS管均为NMOS管,两个MOS管均提供输出,且每个MOS管均为漏端输出。3.如权利要求2所述的类E类射频功率放大器,其特征在于:所述的两个MOS管的漏端输出具有类似的输出曲线,即相位相同,仅振幅不同。4.一种类E类射频功率放大器,其特征在于:包含一个电阻、第一~第二共两个MOS管、第一~第三共3个电感、第一~第五共5个电容:两个MOS管串联后第二MOS一端通过第一电感接电源,第一MOS的剩余一端接地,接地的MOS管栅极为类E类功率放大器的输入端口;接第一电感的MOS管的栅极与第一电容连接,第一电容的另一端接地;第一电阻一端接第一电容,另一端接VB;第二MOS的漏端还依次串接第二电容以及第二电感后,连接一功率合成器的输入端,且该输入端还通过一第四电容接地;第一MOS的漏端还依次串接第三电容以及第三电感后,连接所述功率合成器的另一输入端,且该输入端还通过一第五电容接地;功率合成器的输出端形成该类E类功率放大器的总输出端。5.如权利要求4所述的类E类射频功率放大器,其特征在于:所述的第一及第二MOS管均为NMOS管,两个MOS管均提供输出,且每个MOS管均为漏端输出。6.一种类E类射频...

【专利技术属性】
技术研发人员:任江川戴若凡
申请(专利权)人:上海华虹宏力半导体制造有限公司
类型:发明
国别省市:上海,31

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