一种阵列基板及其制备方法、显示面板技术

本发明专利技术提供一种阵列基板及其制备方法、显示面板，属于显示技术领域，其可解决现有的两条金属线之间的曝光量不足致使两线连到一起无法正常传递信号的问题。本发明专利技术的阵列基板的制备方法，在形成的绝缘层中设置了多个间隔设置的条状凸起，该凸起可以将后续形成的金属层的部分位置处垫高，相当于其可以使得金属层对应凸起的位置的距离曝光机更近，故曝光量较大，这样曝光后，形成的相邻的金属线间不会发生连线情况。

【技术实现步骤摘要】
一种阵列基板及其制备方法、显示面板
本专利技术属于显示
，具体涉及一种阵列基板及其制备方法、显示面板。
技术介绍
液晶显示面板包括显示(ActiveArea)区和显示区边缘的布线(Fan-out)区。随着显示技术的发展，显示产品需要以窄边框、全面屏设计来实现完美的视觉效果，这就需要减小布线区的线间距。当布线设计达到曝光机分辨率极限时，布线区容易发生缺陷，如相邻的两条金属线之间的曝光量不足或无法被曝光，会导致两线连到一起无法正常传递信号。
技术实现思路
本专利技术针对现有的两条金属线之间的曝光量不足致使两线连到一起无法正常传递信号的问题，提供一种阵列基板及其制备方法、显示面板。解决本专利技术技术问题所采用的技术方案是：一种阵列基板的制备方法，包括以下制备步骤：在衬底上形成绝缘层，所述衬底的至少部分边缘的位置处包括布线区；在布线区，所述绝缘层背离衬底的面具有多个间隔设置的条状凸起；在完成上述步骤的绝缘层上方形成金属层；将布线区的金属层图案化，以使所述金属层的对应两个凸起之间的位置处和对应凸起的位置处在图案化过程中接受的曝光量不同。可选的是，在垂直于所述衬底所在面的方向上，所述凸起的尺寸本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种阵列基板的制备方法，其特征在于，包括以下制备步骤：在衬底上形成绝缘层，所述衬底的至少部分边缘的位置处包括布线区；在布线区，所述绝缘层背离衬底的面具有多个间隔设置的条状凸起；在完成上述步骤的绝缘层上方形成金属层；将布线区的金属层图案化，以使所述金属层的对应两个凸起之间的位置处和对应凸起的位置处在图案化过程中接受的曝光量不同。

【技术特征摘要】
1.一种阵列基板的制备方法，其特征在于，包括以下制备步骤：在衬底上形成绝缘层，所述衬底的至少部分边缘的位置处包括布线区；在布线区，所述绝缘层背离衬底的面具有多个间隔设置的条状凸起；在完成上述步骤的绝缘层上方形成金属层；将布线区的金属层图案化，以使所述金属层的对应两个凸起之间的位置处和对应凸起的位置处在图案化过程中接受的曝光量不同。2.根据权利要求1所述的阵列基板的制备方法，其特征在于，在垂直于所述衬底所在面的方向上，所述凸起的尺寸范围为200-4000埃米。3.根据权利要求1所述的阵列基板的制备方法，其特征在于，所述形成绝缘层包括以下制备步骤：采用绝缘材料在衬底上形成绝缘涂层；利用半色调曝光工艺将绝缘涂层图案化，得到在布线区的背离衬底的面具有多个条状凸起的所述绝缘层。4.根据权利要求3所述的阵列基板的制备方法，其特征在于，在垂直于所述衬底所在面的方向上，所述绝缘涂层的尺寸范围为4200-8000埃米。5.根据权利要求1所述的阵列基板的制备方法，其特征在于，所述金属层的对应两个凸起之间的位...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘兆范，
申请(专利权)人：合肥京东方光电科技有限公司，京东方科技集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：安徽,34