显示面板及其制备方法、阵列基板技术

本发明专利技术涉及显示面板技术领域，公开了一种显示面板的制备方法、阵列基板以及显示面板。该制备方法包括：提供一基板；在基板上形成电极；在基板上形成电极保护结构，电极保护结构包覆电极设置。通过上述方式，本发明专利技术能够保护电极，使其不被过度刻蚀。

【技术实现步骤摘要】
显示面板及其制备方法、阵列基板
本专利技术涉及显示面板
，特别是涉及一种显示面板的制备方法、阵列基板以及显示面板。
技术介绍
TFT-LCD(thinfilmtransistor-liquidcrystaldisplay，薄膜晶体管液晶显示器)是在Si上进行微电子精细加工的技术，移植到在大面积玻璃上进行TFT阵列的加工，再将该阵列基板与另一片带彩色滤色膜的基板，利用已成熟的LCD技术，形成一个液晶盒相结合，再经过后工序如偏光片贴覆等过程，最后形成液晶显示器。低温多晶硅技术LTPS(LowTemperaturePoly-silicon)是薄膜晶体管液晶显示器是在封装过程中，利用准分子镭射作为热源，镭射光经过投射系统后，会产生能量均匀分布的镭射光束，投射于非晶硅结构的玻璃基板上，当非晶硅结构玻璃基板吸收准分子镭射的能量后，会转变成为多晶硅结构。其能够降低显示屏的能耗，令显示屏显得更薄更轻。而在LTPSTFTLCDin-cell工艺中，即将触摸面板功能嵌入到液晶像素。刻蚀touchline结构所使用的药液会对电极造成侧向侵蚀，对产品品质造成不良影响。
技术实现思路
有鉴于此，本专利技术主本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种显示面板的制备方法，其特征在于，所述制备方法包括：提供一基板；在所述基板上形成电极；在所述基板上形成电极保护结构，所述电极保护结构包覆所述电极设置。

【技术特征摘要】
1.一种显示面板的制备方法，其特征在于，所述制备方法包括：提供一基板；在所述基板上形成电极；在所述基板上形成电极保护结构，所述电极保护结构包覆所述电极设置。2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述在所述基板上形成电极保护结构的步骤具体包括：在所述基板上形成一金属层，所述金属层覆盖所述电极以及所述基板表面；在所述金属层上对应所述电极的区域形成一掩膜结构；在所述金属层上除所述掩膜结构之外的区域涂布刻蚀药液，以对所述金属层进行图案化处理，形成所述电极保护结构。3.根据权利要求2所述的制备方法，其特征在于，所述电极在所述掩膜结构所处平面上的投影处于所述掩膜结构内。4.根据权利要求2所述的制备方法，其特征在于，所述金属层的材质为铝，所述刻蚀药液为对应所述金属层的铝酸刻蚀药液。5.根据权利要求2所述的制备方法，其特征在于，所述在所述金属层上对应所述电极的区域形成一掩膜结构的步骤具体包括：在所述金属层上涂布光刻胶，形成光刻胶层；在所述光刻胶层远离所述金属层的一侧设置一掩膜板，所述掩膜板包括对应所述电极的目标掩膜区域...

【专利技术属性】
技术研发人员：张海杰，陈小静，
申请(专利权)人：武汉华星光电技术有限公司，
类型：发明
国别省市：湖北,42