透明导电图案的形成方法技术

课题是提供一种透明导电图案的形成方法，在使用包含金属纳米线和/或金属纳米管作为导电成分的透明导电性墨的丝网印刷中，通过减轻对金属纳米线和/或金属纳米管的损伤，能够采用简易的制造工序形成透明导电图案，抑制制造成本和环境负荷。解决手段是使用与丝网掩模(2)接触的顶端部具有曲面形状的圆刮板(3)，将透明导电性墨(5)进行丝网印刷，透明导电性墨(5)包含金属纳米线与金属纳米管中的至少一者以及分散介质。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】透明导电图案的形成方法
本专利技术涉及透明导电图案的形成方法。
技术介绍
透明导电膜在液晶显示器(LCD)、等离子显示板(PDP)、有机电致发光器件(OLED)、太阳能电池(PV)和触摸屏(TP)的透明电极、防静电(ESD)膜以及电磁波屏蔽(EMI)膜等各种领域使用，要求(1)低表面电阻、(2)高透光率、(3)高可靠性。例如，对于LCD的透明电极，表面电阻处于10～300Ω/□的范围内，且透光率在可见光范围为85％以上是合适的。更优选的范围是表面电阻为20～100Ω/□，且透光率为90％以上。对于OLED的透明电极，表面电阻处于10～100Ω/□的范围内，且透光率在可见光范围为80％以上是合适的。更优选的范围是表面电阻为10～50Ω/□，且透光率为85％以上。对于PV的透明电极，表面电阻处于5～100Ω/□的范围内，且透光率在可见光范围为65％以上是合适的。更优选的范围是表面电阻为5～20Ω/□，且透光率为70％以上。对于TP的电极，表面电阻处于100～1000Ω/□的范围内，且透光率在可见光范围为85％以上是合适的。更优选的是表面电阻处于150～500Ω/□的范围内，且透光率在可见本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种透明导电图案的形成方法，其特征在于，使用与丝网掩模接触的顶端部具有曲面形状的刮板，将透明导电性墨进行丝网印刷，所述透明导电性墨包含金属纳米线与金属纳米管中的至少一者以及分散介质。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2016.05.31 JP 2016-1094291.一种透明导电图案的形成方法，其特征在于，使用与丝网掩模接触的顶端部具有曲面形状的刮板，将透明导电性墨进行丝网印刷，所述透明导电性墨包含金属纳米线与金属纳米管中的至少一者以及分散介质。2.根据权利要求1所述的透明导电图案的形成方法，与丝网掩模接触的所述刮板的顶端部的曲面的曲率半径为0.1～20mm。3.根据权利要求2所述的透明导电图案的形成方法，与丝网掩模接触的所述刮板的顶端部的曲面的曲率半径为2～10mm。4.根据权利要求1～3的任一项所述的透明导电图案的形成方法，所述刮板的材质是合成橡胶、天然橡胶、金属、塑料中的任一者。5.根据权利要求4所述的透明导电图案的形成方法，所述合成橡胶由聚氨酯橡胶或硅橡胶构成。6.根据权利要求1～5的任一项所述的透明导电图案的形成方法，将刮板速度设为5～200mm/秒进行丝网印刷。7.根据权利要求1～6的任一项所述的透明导电图案的形成方法，所述透明导电性墨中，作为金属纳米线和金属纳米管的总量相对于透明导电性墨总质量包含0.01～10质量％...

【专利技术属性】
技术研发人员：若林正一郎，山木繁，
申请(专利权)人：昭和电工株式会社，
类型：发明
国别省市：日本,JP