【技术实现步骤摘要】
一种利用高能等离子体轰击工件表面并形成光滑镀层的设备
本专利技术属于镀膜
，具体的说是一种利用高能等离子体轰击工件表面并形成光滑镀层的设备。
技术介绍
溅镀是一种物理气相沉积技术，溅镀原理是在真空环境下，利用辉光放电或离子束产生的高能等离子体撞击耙材，以动量转移方式将耙材内的原子从耙材上轰击出来而沉积在基板上形成薄膜。由于溅镀可以达成较佳的沉积效率、精确的成份控制，以及较低的制造成本，因此已广泛应用于工业中各种金属和非金属膜层的制作。圆柱式磁控溅镀装置一般包括圆筒状外壳、一个置于该圆筒状外壳内的圆柱筒状靶材及一个置于该圆柱筒状靶材内的磁铁组。该磁铁组一般由多个独立的磁铁组成，该磁铁组形成一个叠加磁场。由于多个磁铁间彼此独立，该叠加磁场在该靶材表面的分布一般都不均匀。溅镀时，靶材表面磁场强度高的区域电子集中度较高，该部分靶材被轰击的频率因此也较高。反复使用后，该部分靶材相对于其它磁场强度低部分的靶材消耗较多。当该部分靶材耗净，需更换靶材时，其它部分却还剩有靶材，靶材利用率低。
技术实现思路
为了弥补现有技术的不足，本专利技术提出的一种利用高能等离子体轰击工件表面并...
【技术保护点】
1.一种利用高能等离子体轰击工件表面并形成光滑镀层的设备，包括外壳体(1)、内壳体(11)、工作台(12)、靶材(13)、电机(14)、旋转轴(2)、一号轴承(21)，所述内壳体(11)将外壳体(1)内分割为溅镀空间和容置空间；所述靶材(13)固定连接在溅镀空间的顶部，靶材(13)的下方设有工作台(12)；所述工作台(12)固定连接在外壳体(1)的底板上；所述旋转轴(2)设置于容置空间内，旋转轴(2)下端与电机(14)的轴端固定连接，旋转轴(2)的中部通过一号轴承(21)转动连接在内壳体(11)侧壁上；所述电机(14)固定连接在外壳体(1)的底板上；其特征在于：还包括固定环...
【技术特征摘要】
1.一种利用高能等离子体轰击工件表面并形成光滑镀层的设备，包括外壳体(1)、内壳体(11)、工作台(12)、靶材(13)、电机(14)、旋转轴(2)、一号轴承(21)，所述内壳体(11)将外壳体(1)内分割为溅镀空间和容置空间；所述靶材(13)固定连接在溅镀空间的顶部，靶材(13)的下方设有工作台(12)；所述工作台(12)固定连接在外壳体(1)的底板上；所述旋转轴(2)设置于容置空间内，旋转轴(2)下端与电机(14)的轴端固定连接，旋转轴(2)的中部通过一号轴承(21)转动连接在内壳体(11)侧壁上；所述电机(14)固定连接在外壳体(1)的底板上；其特征在于：还包括固定环(3)、永磁铁(31)、转动杆(4)、推力轴承(5)、环形磁铁(41)、弹簧、挡板(42)、磁性隔离模块(6)，所述旋转轴(2)上端的圆柱面上设有一组永磁铁(31)；所述固定环(3)的上下端各设有一个推力轴承(5)；所述推力轴承(5)固定连接在内壳体(11)表面；所述固定环(3)的内侧圆柱面上设有一组永磁铁(31)，固定环(3)的外侧圆柱面上设有一组转动杆(4)；所述转动杆(4)一端固定连接在固定环(3)的外侧圆柱面上，转动杆(4)的另一端固定连接挡板(42)，转动杆(4)上滑动连接一组环形磁铁(41)；所述环形磁铁(41)的正负极沿轴向分布，相邻的环形磁铁(41)的极性相同，靠近固定环(3)一端的环形磁铁(41)与固定环(3)之间设有弹簧，靠近挡板(42)一端的环形磁铁(41)与挡板(42)之间设有弹簧；所述旋转轴(2)上端与固定环(3)之间设有磁性隔离模块(6)；所述磁性隔离模块(6)用于阻挡旋转轴(2)上的永磁铁(31)对固定环(3)上的永磁铁(31)的吸引。2.根据权利要求1所述的一种利用高能等离子体轰击工件表面并形成光滑镀层的设备，其特征在于：所述磁性隔离模块(6)包括隔离筒(61)、固定轴(62)、平键(63)、弹簧、滑动轴(64)、支撑筒(65)、摩擦片(66)、一号气缸(67)，所述隔离筒(61)设置在旋转轴(2)和固定环(3)之间，隔离筒(61)上端通过平键(63)滑动连接在固定轴(62)上；所述固定轴(62)上端固定连接在外壳体(1)的顶板上；所述隔离筒(61)上端面与外壳体(1)的顶板之间设有弹簧；所述固定轴(62)的下端端面上的安装孔内滑动连接滑动轴(64)的上端；所述滑动轴(64...
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