蒸镀掩模的制造方法、蒸镀掩模及有机半导体元件的制造方法技术

一种蒸镀掩模(100)的制造方法，其是具备树脂层(10)、及形成于树脂层(10)上的磁性金属层(20)的蒸镀掩模(100)的制造方法，包含如下步骤：(A)准备基板的步骤；(B)将包含树脂材料的溶液或树脂材料的前驱物溶液赋予至基板的表面后，进行热处理，而形成树脂层的步骤；(C)在树脂层(10)上形成磁性金属层(20)的步骤，该磁性金属层(20)具有包含存在金属膜的实心部(20a(1))与不存在金属膜的非实心部(20a(2))的掩模部(20a)、及以包围掩模部(20a)的方式配置的周边部(20b)；(D)在树脂层(10)中的位于掩模部(20a)的非实心部的区域形成多个开口部(13)的步骤；及(E)于步骤(D)之后，从基板剥离树脂层(10)的步骤。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】蒸镀掩模的制造方法、蒸镀掩模及有机半导体元件的制造方法
本专利技术是关于一种蒸镀掩模的制造方法，尤其是关于一种具有树脂层与金属层积层而形成的结构的蒸镀掩模的制造方法。另外，本专利技术也关于一种蒸镀掩模、及使用蒸镀掩模的有机半导体元件的制造方法。
技术介绍
近年来，作为下一代显示器，有机电致发光(EL，ElectroLuminescence)显示装置正吸引人们重视。目前，在量产的有机EL显示装置，有机EL层的形成主要使用真空蒸镀法而进行。作为蒸镀掩模，一般为金属制的掩模(金属掩模)。然而，随着有机EL显示装置的高精细化发展，使用金属掩模精度良好地形成蒸镀图案正逐渐变得困难。其原因在于，利用目前的金属加工技术，难以在成为金属掩模的金属板(例如厚度100μm左右)高精度地形成与较短的像素间距(例如10～20μm左右)对应的小的开口部。因此，作为用于形成精细度较高的蒸镀图案的蒸镀掩模，提出有具有树脂层与金属层积层而成的结构的蒸镀掩模(以下，也称为“积层型掩模”)。例如专利文献1中揭示有树脂薄膜与作为金属磁体的保持部件积层而形成的积层型掩模。在树脂薄膜形成有与所期望的蒸镀图案对应的多个开口部。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种蒸镀掩模的制造方法，其是具备树脂层、及形成于所述树脂层上的磁性金属层的蒸镀掩模的制造方法，其特征在于，包含如下步骤：(A)准备基板的步骤；(B)将包含树脂材料的溶液或树脂材料的前驱物溶液赋予至所述基板的表面后，进行热处理，而形成树脂层的步骤；(C)在所述树脂层上形成磁性金属层的步骤，该磁性金属层具有包含存在金属膜的实心部与不存在金属膜的非实心部的掩模部、及以包围所述掩模部的方式配置的周边部；(D)在所述树脂层中的位于所述掩模部的所述非实心部的区域形成多个开口部的步骤；及(E)在所述步骤(D)之后，将所述树脂层自所述基板剥离的步骤。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2016.02.10 JP 2016-0240111.一种蒸镀掩模的制造方法，其是具备树脂层、及形成于所述树脂层上的磁性金属层的蒸镀掩模的制造方法，其特征在于，包含如下步骤：(A)准备基板的步骤；(B)将包含树脂材料的溶液或树脂材料的前驱物溶液赋予至所述基板的表面后，进行热处理，而形成树脂层的步骤；(C)在所述树脂层上形成磁性金属层的步骤，该磁性金属层具有包含存在金属膜的实心部与不存在金属膜的非实心部的掩模部、及以包围所述掩模部的方式配置的周边部；(D)在所述树脂层中的位于所述掩模部的所述非实心部的区域形成多个开口部的步骤；及(E)在所述步骤(D)之后，将所述树脂层自所述基板剥离的步骤。2.如权利要求1所述的蒸镀掩模的制造方法，其特征在于，在所述步骤(C)与所述步骤(E)之间进一步包含将框架固定于所述磁性金属层的所述周边部的步骤(F)。3.如权利要求2所述的蒸镀掩模的制造方法，其特征在于，所述步骤(F)在所述步骤(D)之后进行。4.如权利要求2或者3所述的蒸镀掩模的制造方法，其特征在于，在所述步骤(F)中，以不对所述磁性金属层及所述树脂层从外部对层面内方向赋予张力的状态，将所述框架固定于所述磁性金属层。5.如权利要求1所述的蒸镀掩模的制造方法，其特征在于，所述步骤(E)之后进一步包含将框架固定于所述磁性金属层的所述周边部的步骤(F)。6.如权利要求1至5中任一项所述的蒸镀掩模的制造方法，其特征在于，在所述步骤(C)中，所述掩模部的所述实心部包含离散地配置的多个岛状部。7.一种蒸镀掩模，其特征在于，所述蒸镀掩模是使用权利要1至6中任一项所述的蒸镀掩模的制造方法而制造。8.一种蒸镀掩模，其具备树脂层、及形成于所述树脂层上的磁性金属层，其特征在于，所述磁性金属层具有包含存在金属膜的实心部、不存在金属膜的非实心部的掩模部、及以包围所述掩模部的方式配置的周边部，所述蒸镀掩模进一步包括固定于所述磁性金属层的所述周边部的框架，所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：西田光志，矢野耕三，岸本克彥，崎尾进，竹井日出夫，
申请(专利权)人：鸿海精密工业股份有限公司，
类型：发明
国别省市：中国台湾,71