蒸镀薄膜的蒸镀方法及制作设备、蒸镀薄膜、显示装置制造方法及图纸

本发明专利技术实施例提供一种蒸镀薄膜的蒸镀方法及制作设备、蒸镀薄膜、显示装置，涉及显示技术领域，能够解决现有技术中相邻的蒸镀图案之间因交叠产生混色的问题；该蒸镀薄膜的蒸镀方法中待形成的蒸镀薄膜包括多个蒸镀单元，每个蒸镀单元包括多个蒸镀图案，且该多个蒸镀图案中包括沿第一方向上并列、且相邻设置的第一蒸镀图案和第二蒸镀图案；该蒸镀方法包括：通过修正原始蒸镀薄膜的蒸镀单元中第一蒸镀图案和第二蒸镀图案之间的原始间距，和/或，通过调整线性蒸镀源的相对第一蒸镀图案和第二蒸镀图案的移动方式，和/或，通过调整掩膜版的对位方式，来调整第一蒸镀图案和第二蒸镀图案的相对位置，以减小相邻两个不同颜色的亚像素之间的混色。

【技术实现步骤摘要】
蒸镀薄膜的蒸镀方法及制作设备、蒸镀薄膜、显示装置
本专利技术涉及显示
，尤其涉及一种蒸镀薄膜的蒸镀方法及制作设备、蒸镀薄膜、显示装置。
技术介绍
有机发光二极管(OrganicLightEmittingDiode，简称OLED)显示器因其具有自发光、轻薄、功耗低、高对比度、高色域、可实现柔性显示等优点，已被广泛地应用于包括电脑、手机等电子产品在内的各种电子设备中。其中，OLED显示装置(尤其是AMOLED显示装置)在实际的制作时，一般通过掩膜版将OLED材料通过真空蒸镀方式蒸镀至基板上，以形成各功能层图案。然而，在OLED材料的蒸镀过程，不可避免的会产生蒸镀阴影(Shadow)的问题，尤其是针对线性蒸镀源而言，在沿线性蒸镀源延伸方向上产生的Shadow更为严重，从而导致各功能层图案的厚度不均、偏移混叠等弊端。
技术实现思路
本专利技术的实施例提供一种蒸镀薄膜的蒸镀方法及制作设备、蒸镀薄膜、显示装置，能够解决现有技术中相邻的蒸镀图案之间因交叠产生混色的问题。为达到上述目的，本专利技术的实施例采用如下技术方案：本专利技术实施例提供一种蒸镀薄膜的蒸镀方法，待形成的所述蒸镀薄膜包括多个蒸镀单元，每个所述蒸镀单元包括多个蒸镀图案，且该多个蒸镀图案中包括：沿第一方向上并列、且相邻设置的第一蒸镀图案和第二蒸镀图案；所述第一蒸镀图案和所述第二蒸镀图案分别与同一像素单元中的相邻两个不同颜色的亚像素对应；所述蒸镀方法包括：通过修正原始蒸镀薄膜的蒸镀单元中第一蒸镀图案和第二蒸镀图案之间的原始间距，和/或，通过调整线性蒸镀源相对所述第一蒸镀图案和所述第二蒸镀图案的移动方式，和/或，通过调整掩膜版的对位方式，来调整所述第一蒸镀图案和所述第二蒸镀图案的相对位置，以减小所述相邻两个不同颜色的亚像素之间的混色；其中，所述原始蒸镀薄膜是按照线性蒸镀源沿所述第一方向延伸，沿第二方向移动的方式进行蒸镀形成的；所述第二方向与所述第一方向不同。可选的，待形成的所述蒸镀薄膜中的多个蒸镀单元呈矩阵排布；所述蒸镀薄膜中，所述第一蒸镀图案和所述第二蒸镀图案依次交替排布的方向为所述第一方向。可选的，所述相邻两个不同颜色的亚像素为：红色亚像素和绿色亚像素。可选的，所述蒸镀单元还包括：第三蒸镀图案；所述第三蒸镀图案的颜色与所述第一蒸镀图案和所述第二蒸镀图案的颜色不同；在沿所述第一方向上，所述第三蒸镀图案的中线位于所述第一蒸镀图案和所述第二蒸镀图案的中线之间。可选的，所述通过修正原始蒸镀薄膜的蒸镀单元中第一蒸镀图案和第二蒸镀图案之间的原始间距来调整所述第一蒸镀图案和所述第二蒸镀图案的相对位置包括：测量原始蒸镀薄膜中的蒸镀图案沿第一方向上、单侧的掩膜阴影图案的第一尺寸；测量原始蒸镀薄膜中的蒸镀图案沿第二方向上、单侧的掩膜阴影图案的第二尺寸；根据所述原始蒸镀薄膜的蒸镀单元中的蒸镀图案的所述第一尺寸、所述第二尺寸以及第一蒸镀图案和第二蒸镀图案之间的原始间距，确定待形成的所述蒸镀薄膜的蒸镀单元中第一蒸镀图案和第二蒸镀图案之间修正间距；其中，所述修正间距大于所述原始间距；采用沿所述第一方向延伸的线性蒸镀源，以沿所述第二方向移动的方式，按照所述修正间距进行蒸镀，形成蒸镀薄膜。可选的，所述根据所述原始蒸镀薄膜的蒸镀单元中的蒸镀图案的所述第一尺寸、所述第二尺寸以及第一蒸镀图案和第二蒸镀图案之间的原始间距，确定待形成的所述蒸镀薄膜中第一蒸镀图案和第二蒸镀图案之间修正间距包括：所述修正间距H2＝K(L1-L2)+H1；其中，L1为所述第一尺寸；L2为所述第二尺寸；H1为所述原始间距；K∈[1，3]。可选的，所述原始间距为0～30μm。可选的，所述通过调整线性蒸镀源的相对所述第一蒸镀图案和所述第二蒸镀图案的移动方式，来调整所述第一蒸镀图案和所述第二蒸镀图案的相对位置包括：采用沿所述第一方向上移动的第一线性蒸镀源，将第一蒸镀材料通过第一掩膜版蒸镀至基板上，形成多个第一蒸镀图案；其中，所述第一线性蒸镀源沿第二方向延伸，所述第二方向与所述第一方向不同；采用沿所述第一方向上移动的第二线性蒸镀源，将第二蒸镀材料通过第二掩膜版蒸镀至形成有所述第一蒸镀图案的基板上，形成多个分别与每一所述第一蒸镀图案沿所述第一方向上并列、且相邻设置的所述第二蒸镀图案；所述第二线性蒸镀沿所述第二方向延伸。可选的，所述通过调整掩膜版的对位方式，来调整所述第一蒸镀图案和所述第二蒸镀图案的相对位置包括：沿所述第一方向和第二方向移动第一掩膜版，以及沿所述第一掩膜版的中心轴线旋转所述第一掩膜版，在所述第一掩膜版至目标位置的距离沿所述第二方向的误差处于标准误差范围内时，使得该第一掩膜版至目标位置的距离沿所述第一方向的误差最小，以形成所述第一蒸镀图案；所述第一方向与所述第二方向垂直；沿所述第一方向和所述第二方向移动第二掩膜版，以及沿所述第二掩膜版的中心轴线旋转所述第二掩膜版，在所述第二掩膜版至目标位置的距离沿所述第二方向的误差处于标准误差范围内时，使得该第二掩膜版至目标位置的距离沿所述第一方向的误差最小，以形成所述第二蒸镀图案。可选的，所述标准误差范围为±3.5μm的范围内。可选的，所述蒸镀图案为有机发光二极管中的发光功能薄膜。本专利技术实施例还提供一种蒸镀薄膜，包括采用前述蒸镀薄膜的蒸镀方法形成的第一蒸镀图案和第二蒸镀薄膜。本专利技术实施例还提供一种显示装置，包括前述的蒸镀薄膜。本专利技术实施例还提供一种蒸镀薄膜制作设备，包括用于确定前述的蒸镀薄膜的蒸镀方法中的修正间距的采集装置；所述修正间距的采集装置包括：测量单元和处理单元；所述测量单元用于测量原始蒸镀薄膜中的原始蒸镀图案沿第一方向上、单侧的掩膜阴影图案的第一尺寸；所述测量单元还用于测量原始蒸镀薄膜中的原始蒸镀图案沿第二方向上、单侧的掩膜阴影图案的第二尺寸；所述处理单元用于根据所述原始蒸镀薄膜的蒸镀单元中的蒸镀图案的所述第一尺寸、所述第二尺寸以及第一蒸镀图案和第二蒸镀图案之间的原始间距，确定待形成的所述蒸镀薄膜中第一蒸镀图案和第二蒸镀图案之间修正间距；其中，所述修正间距大于所述原始间距。本专利技术实施例还提供一种计算机可读存储介质，所述计算机可读存储介质中存储有指令，当所述指令在终端设备上运行时，使得所述终端设备执行如前述的蒸镀薄膜的蒸镀方法。本专利技术实施例还提供一种蒸镀设备，包括处理器，存储器和执行机构；所述存储器被配置为存储有实现如前述蒸镀薄膜的蒸镀方法的指令；所述处理器被配置为控制所述执行机构执行所述指令，以形成所述蒸镀薄膜。本专利技术实施例提供一种蒸镀薄膜的蒸镀方法及制作设备、蒸镀薄膜、显示装置，该蒸镀薄膜的蒸镀方法中待形成的蒸镀薄膜包括多个蒸镀单元，每个蒸镀单元包括多个蒸镀图案，且该多个蒸镀图案中包括沿第一方向上并列、且相邻设置的第一蒸镀图案和第二蒸镀图案；第一蒸镀图案和第二蒸镀图案分别与同一像素单元中的相邻两个不同颜色的亚像素分别对应；该蒸镀方法包括：通过修正原始蒸镀薄膜的蒸镀单元中第一蒸镀图案和第二蒸镀图案之间的原始间距(其中，原始蒸镀薄膜是按照线性蒸镀源沿第一方向延伸，沿第二方向移动的方式进行蒸镀形成的；第二方向与第一方向不同)，和/或，通过调整线性蒸镀源的相对第一蒸镀图案和第二蒸镀图案的移动方式，和/或，通过调整掩膜版的对位方式，来调整第一蒸镀图案和第二蒸镀图案的相对位置，以本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种蒸镀薄膜的蒸镀方法，其特征在于，待形成的所述蒸镀薄膜包括多个蒸镀单元，每个所述蒸镀单元包括多个蒸镀图案，且该多个蒸镀图案中包括：沿第一方向上并列、且相邻设置的第一蒸镀图案和第二蒸镀图案；所述第一蒸镀图案和所述第二蒸镀图案分别与同一像素单元中的相邻两个不同颜色的亚像素对应；所述蒸镀方法包括：通过修正原始蒸镀薄膜的蒸镀单元中第一蒸镀图案和第二蒸镀图案之间的原始间距，和/或，通过调整线性蒸镀源相对所述第一蒸镀图案和所述第二蒸镀图案的移动方式，和/或，通过调整掩膜版的对位方式，来调整所述第一蒸镀图案和所述第二蒸镀图案的相对位置，以减小所述相邻两个不同颜色的亚像素之间的混色；其中，所述原始蒸镀薄膜是按照线性蒸镀源沿所述第一方向延伸，沿第二方向移动的方式进行蒸镀形成的；所述第二方向与所述第一方向不同。

【技术特征摘要】
1.一种蒸镀薄膜的蒸镀方法，其特征在于，待形成的所述蒸镀薄膜包括多个蒸镀单元，每个所述蒸镀单元包括多个蒸镀图案，且该多个蒸镀图案中包括：沿第一方向上并列、且相邻设置的第一蒸镀图案和第二蒸镀图案；所述第一蒸镀图案和所述第二蒸镀图案分别与同一像素单元中的相邻两个不同颜色的亚像素对应；所述蒸镀方法包括：通过修正原始蒸镀薄膜的蒸镀单元中第一蒸镀图案和第二蒸镀图案之间的原始间距，和/或，通过调整线性蒸镀源相对所述第一蒸镀图案和所述第二蒸镀图案的移动方式，和/或，通过调整掩膜版的对位方式，来调整所述第一蒸镀图案和所述第二蒸镀图案的相对位置，以减小所述相邻两个不同颜色的亚像素之间的混色；其中，所述原始蒸镀薄膜是按照线性蒸镀源沿所述第一方向延伸，沿第二方向移动的方式进行蒸镀形成的；所述第二方向与所述第一方向不同。2.根据权利要求1所述的蒸镀薄膜的蒸镀方法，其特征在于，待形成的所述蒸镀薄膜中的多个蒸镀单元呈矩阵排布；所述蒸镀薄膜中，所述第一蒸镀图案和所述第二蒸镀图案依次交替排布的方向为所述第一方向。3.根据权利要求1所述的蒸镀薄膜的蒸镀方法，其特征在于，所述相邻两个不同颜色的亚像素为：红色亚像素和绿色亚像素。4.根据权利要求1-3任一项所述的蒸镀薄膜的蒸镀方法，其特征在于，所述蒸镀单元还包括：第三蒸镀图案；所述第三蒸镀图案的颜色与所述第一蒸镀图案和所述第二蒸镀图案的颜色不同；在沿所述第一方向上，所述第三蒸镀图案的中线位于所述第一蒸镀图案和所述第二蒸镀图案的中线之间。5.根据权利要求1所述的蒸镀薄膜的蒸镀方法，其特征在于，所述通过修正原始蒸镀薄膜的蒸镀单元中第一蒸镀图案和第二蒸镀图案之间的原始间距来调整所述第一蒸镀图案和所述第二蒸镀图案的相对位置包括：测量原始蒸镀薄膜中的蒸镀图案沿第一方向上、单侧的掩膜阴影图案的第一尺寸；测量原始蒸镀薄膜中的蒸镀图案沿第二方向上、单侧的掩膜阴影图案的第二尺寸；根据所述原始蒸镀薄膜的蒸镀单元中的蒸镀图案的所述第一尺寸、所述第二尺寸以及第一蒸镀图案和第二蒸镀图案之间的原始间距，确定待形成的所述蒸镀薄膜的蒸镀单元中第一蒸镀图案和第二蒸镀图案之间修正间距；其中，所述修正间距大于所述原始间距；采用沿所述第一方向延伸的线性蒸镀源，以沿所述第二方向移动的方式，按照所述修正间距进行蒸镀，形成蒸镀薄膜。6.根据权利要求5所述的蒸镀薄膜的蒸镀方法，其特征在于，所述根据所述原始蒸镀薄膜的蒸镀单元中的蒸镀图案的所述第一尺寸、所述第二尺寸以及第一蒸镀图案和第二蒸镀图案之间的原始间距，确定待形成的所述蒸镀薄膜中第一蒸镀图案和第二蒸镀图案之间修正间距包括：所述修正间距H2＝K(L1-L2)+H1；其中，L1为所述第一尺寸；L2为所述第二尺寸；H1为所述原始间距；K∈[1，3]。7.根据权利要求6所述的蒸镀薄膜的蒸镀方法，其特征在于，所述原始间距为0～30μm。8.根据权利要求1所述的蒸镀薄膜的蒸镀方法，其特征在于，所述通过调整线性蒸镀源的相对所述第一蒸镀图案和所述第二蒸镀图案的...

【专利技术属性】
技术研发人员：张健，黄俊杰，王震，曹飞，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司，
类型：发明
国别省市：北京,11