一种抛光盘清洗装置及化学机械抛光机制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种抛光盘清洗装置，抛光盘清洗装置适于设于化学机械抛光机的工作平台上，工作平台上还设有抛光盘，抛光盘清洗装置包括：固定座，固定座固定于工作平台上；喷臂，喷臂的一端与固定座相连，喷臂的另一端延伸至抛光盘的上方，喷臂内限定出沿其长度方向延伸的流道，喷臂上设有与流道连通的进口和至少一个第一出口，第一出口设有第一喷嘴，进口连通清洗液源，第一喷嘴的喷口的中心线与第一基准线之间的夹角α为钝角，以使由第一喷嘴喷射的清洗液对所述抛光盘形成由内向外的冲刷力。根据本实用新型专利技术的抛光盘清洗装置，可使抛光盘表面的抛光残屑顺畅排出至抛光盘之外，清洗效果好，有利于提高抛光质量。

A Polishing Disk Cleaning Device and Chemical Mechanical Polishing Machine

The utility model discloses a polishing disc cleaning device, which is suitable for being installed on the working platform of a chemical mechanical polishing machine. The working platform is also provided with a polishing disc. The polishing disc cleaning device includes a fixed seat, a fixed seat fixed on the working platform, a spray arm, one end of the spray arm connected with a fixed seat and a spray arm. The other end extends to the top of the polishing plate, and the nozzle arm is provided with an inlet connected with the flow channel and at least one first outlet. The first outlet is provided with a first nozzle, and the inlet is connected with a cleaning liquid source. The angle alpha between the central line of the nozzle of the first nozzle and the first baseline is a blunt angle. In order to form an internal and external scouring force on the polishing disc by the cleaning liquid sprayed by the first nozzle. According to the polishing disc cleaning device of the utility model, the polishing debris on the polishing disc surface can be smoothly discharged outside the polishing disc, the cleaning effect is good, and the polishing quality can be improved.

【技术实现步骤摘要】
一种抛光盘清洗装置及化学机械抛光机
本技术涉及化学机械抛光领域，尤其是涉及一种抛光盘清洗装置和具有该抛光盘清洗装置的化学机械抛光机。
技术介绍
化学机械抛光机具有工作平台、抛光盘、修整器、抛光液输送装置、抛光垫和用于夹持待抛光晶圆的抛光头，抛光盘设于工作平台的上表面，抛光垫设于抛光盘上，修整器设于工作平台上以修整晶圆或抛光垫，抛光液输送装置设于工作平台上以朝向抛光盘输送抛光液。抛光机在进行抛光工作时，抛光盘上表面将会堆积抛光残屑，为了不影响抛光质量，需要定期对抛光盘进行清洗以保证抛光盘洁净。相关技术中，对抛光盘进行清洗时，水流通常垂直于抛光盘上表面冲刷或对抛光盘由外向内冲刷，这样清洗方式不能使抛光盘表面的抛光残屑顺畅排出至抛光盘之外，清洁效果不佳，由此很难保证抛光质量。
技术实现思路
本技术旨在至少在一定程度上解决相关技术中的技术问题之一。为此，本技术提出一种抛光盘清洗装置，所述抛光盘清洗装置可使抛光盘表面的抛光残屑顺畅排出至抛光盘之外，清洗效果好，有利于提高抛光质量。本技术还提出一种具有上述抛光盘清洗装置的化学机械抛光机。根据本技术第一方面实施例的抛光盘清洗装置，所述抛光盘清洗装置适于设于本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种抛光盘清洗装置，其特征在于，所述抛光盘清洗装置适于设于化学机械抛光机的工作平台上，所述工作平台上还设有抛光盘，所述抛光盘清洗装置包括：固定座，所述固定座固定于所述工作平台上；喷臂，所述喷臂的一端与所述固定座相连，所述喷臂的另一端延伸至所述抛光盘的上方，所述喷臂内限定出沿其长度方向延伸的流道，所述喷臂上设有与所述流道连通的进口和至少一个第一出口，所述第一出口设有第一喷嘴，所述进口连通清洗液源，所述第一喷嘴的喷口的中心线与第一基准线之间的夹角α为钝角，以使由所述第一喷嘴喷射的清洗液对所述抛光盘形成由内向外的冲刷力，其中，所述第一喷嘴的喷口的中心线与所述抛光盘的上表面之间的交点为第一基准点，...

【技术特征摘要】
1.一种抛光盘清洗装置，其特征在于，所述抛光盘清洗装置适于设于化学机械抛光机的工作平台上，所述工作平台上还设有抛光盘，所述抛光盘清洗装置包括：固定座，所述固定座固定于所述工作平台上；喷臂，所述喷臂的一端与所述固定座相连，所述喷臂的另一端延伸至所述抛光盘的上方，所述喷臂内限定出沿其长度方向延伸的流道，所述喷臂上设有与所述流道连通的进口和至少一个第一出口，所述第一出口设有第一喷嘴，所述进口连通清洗液源，所述第一喷嘴的喷口的中心线与第一基准线之间的夹角α为钝角，以使由所述第一喷嘴喷射的清洗液对所述抛光盘形成由内向外的冲刷力，其中，所述第一喷嘴的喷口的中心线与所述抛光盘的上表面之间的交点为第一基准点，所述第一基准线为所述抛光盘上表面中心与所述第一基准点的连线。2.根据权利要求1所述的抛光盘清洗装置，其特征在于，所述第一出口包括多个，多个所述第一出口沿所述喷臂的长度方向依次间隔设置，每个所述第一出口均设有所述第一喷嘴。3.根据权利要求2所述的抛光盘清洗装置，其特征在于，每个所述第一喷嘴的喷口的中心线彼此平行。4.根据权利要求2所述的抛光盘清洗装置，其特征在于，每个所述第一喷嘴的喷口的中心线与所述抛光盘上表面的交点...

【专利技术属性】
技术研发人员：许振杰，姚宇，董兵超，尹士龙，崔凯，赵德文，王同庆，路新春，
申请(专利权)人：清华大学，天津华海清科机电科技有限公司，
类型：新型
国别省市：北京,11