层叠反射电极膜、层叠反射电极图案及层叠反射电极图案的制造方法技术

本发明专利技术的层叠反射电极膜具有：Ag膜，由Ag或Ag合金构成；及透明导电氧化物膜，配置于所述Ag膜上，所述透明导电氧化物膜由氧化物构成，所述氧化物包含Zn和Ga，还包含Sn、Y及Ti中的一种或两种以上。

Manufacturing Method of Laminated Reflector Electrode Film, Laminated Reflector Electrode Patterns and Laminated Reflector Electrode Patterns

The stacked reflective electrode film of the present invention has: Ag film, which is composed of Ag or Ag alloy; and transparent conductive oxide film, which is disposed on the Ag film. The transparent conductive oxide film is composed of oxide, the oxide contains Zn and Ga, and one or more of Sn, Y and Ti.

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】层叠反射电极膜、层叠反射电极图案及层叠反射电极图案的制造方法
本专利技术涉及一种例如能够用作有机电致发光(EL)元件的阳极的层叠反射电极膜、由该层叠反射电极膜构成的层叠反射电极图案及层叠反射电极图案的制造方法。本申请主张基于2016年3月23日于日本申请的专利申请2016-059097号及2017年2月13日于日本申请的专利申请2017-024269号的优先权，并将其内容援用于此。
技术介绍
通常，有机EL显示器由排列在透明基板上的有机EL元件构成。有机EL元件由以规定的图案形成于透明基板上的阳极、有机EL发光层及阴极构成，且为利用如下原理的发光元件：从阳极向有机EL膜注入正孔，且从阴极向有机EL膜注入电子，正孔和电子在有机EL发光层中结合时发光。作为有机EL元件的光的提取方式，已知有从透明基板侧提取光的底部发光方式及从与透明基板相反的一侧提取光的顶部发光方式。在此，与底部发光方式相比，顶部发光方式的开口率较高，因此有助于高亮度化。关于在顶部发光方式的有机EL元件中所使用的阳极，为了将在电场发光层中产生的光高效地提取到外部，期望反射率高、导电率高，并且期望功函数高以使能够高效地向电场发光层注入正孔。例如，在专利文献1、2中，作为有机EL元件的阳极，可使用对金属膜的表面实施氧等离子体处理等而形成表面氧化膜，从而增加功函数的层叠膜。并且，进一步在专利文献3、4、5中，作为有机EL元件的电极，使用在金属膜的表面形成有ITO膜等透明导电膜的层叠膜。而且，在专利文献6中，作为有机EL元件的阳极，可使用向ITO膜的表面照射氧离子或电子来实施表面改性，从而增加功函数的表面改性ITO膜。在专利文献7中记载有：在将Ag作为主要成分的导电层上层叠金属氧化物薄膜而成的层叠膜中，使用氧化锌(ZnO)、添加了铝的氧化锌(AZO)、添加了镓的氧化锌(GZO)来作为金属氧化物。然而，如非专利文献1中所记载那样，包含ZnO的金属氧化物易溶解于在蚀刻法中所使用的抗蚀剂的剥离液(弱碱性)。因此，难以通过蚀刻法来将使用了AZO、GZO等的包含ZnO的金属氧化物的层叠膜形成为如用作有机EL显示器用电极那样的微细的电极图案。专利文献1：日本特开2006-294261号公报专利文献2：国际公开第2010/032443号专利文献3：日本特开2006-98856号公报专利文献4：日本特开2011-9790号公报专利文献5：日本特开2004-103247号公报专利文献6：日本特开2000-133466号公报专利文献7：日本特开2012-246511号公报非专利文献1：日本学术振兴会透明氧化物光电子材料第166委员会编、“透明导电膜的技术(修订第2版)”、Ohmsha,Ltd.、2006年12月20日修订第2版第1次印刷发行、P.171～172(日本学術振興会透明酸化物光·電子材料第166委員会編、「透明導電膜の技術(改訂2版)」、株式会社オーム社、平成18年12月20日改訂2版第1刷発行、P.171－172)近来，推进有机EL元件等的微细化及高亮度化，对于上述层叠反射电极膜，要求与纯银同等的低电阻和高反射率。并且，制造有机EL元件时，需要通过蚀刻法能够容易地形成由层叠反射电极膜构成的微细的电极图案。然而，在记载于专利文献1、2中的具有表面氧化膜的层叠膜中，有可能因氧等离子体处理时的损伤，反射率下降并且电阻率上升。并且，在将由纯银构成的Ag膜用作金属膜的情况下，耐硫化性不充分，有可能因大气中的使用而反射率下降并且电阻率上升。另一方面，在专利文献3、4、5中所记载的形成有ITO等透明导电膜的层叠膜中，可见光的反射率、尤其蓝色区域(400～500nm)的光的反射率有可能下降。尤其，如专利文献6中所记载那样，若向ITO膜的表面照射氧离子或电子来实施表面改性，则有可能ITO膜的表面变得粗糙而使光散射。并且，在Ag合金膜和ITO膜的层叠膜中，通过蚀刻来形成电极图案时，与ITO膜相比，Ag合金膜的蚀刻速度较快，因此若使用相同的蚀刻液一并进行蚀刻，则有可能Ag合金膜被过蚀刻、或者产生ITO膜残渣。
技术实现思路
本专利技术是鉴于前述情况而完成的，且其目的在于提供一种可见光区域、尤其蓝色区域的反射率高，电阻值低，并且通过蚀刻法能够容易地形成微细的电极图案的层叠反射电极膜、由该层叠反射电极膜构成的层叠反射电极图案及层叠反射电极图案的制造方法。为了解决上述问题，本专利技术的层叠反射电极膜的特征在于，其具有：Ag膜，由Ag或Ag合金构成；及透明导电氧化物膜，配置于所述Ag膜上，所述透明导电氧化物膜由氧化物构成，所述氧化物包含Zn和Ga，还包含Sn、Y及Ti中的一种或两种以上。根据本专利技术的层叠反射电极膜，因具有Ag膜，电阻变低。并且，在该Ag膜上配置有透明导电氧化物膜，所述透明导电氧化物膜由氧化物构成，所述氧化物包含Zn和Ga，还包含Sn、Y及Ti中的一种或两种以上，因此可见光、尤其蓝色区域的光的反射率变高。认为其原因在于，在上述透明导电氧化物膜中，与ITO等其他透明导电氧化物相比，可见光区域、尤其蓝色区域的折射率较低。并且，上述透明导电氧化物膜包含Sn、Y及Ti中的一种或两种以上，因此耐碱性有所提高，难以溶解于碱性抗蚀剂去除液。因此，本专利技术的层叠反射电极膜能够通过蚀刻法来形成电极图案。而且，通过蚀刻法形成电极图案时，对上述Ag膜和透明导电氧化物膜，使用包含磷酸、乙酸的酸性混合液来作为蚀刻剂的情况下，蚀刻速度之差变小。由此，关于本专利技术的层叠反射电极膜，通过蚀刻法形成电极图案时的过蚀刻的产生量变少。另外，上述透明导电氧化物膜的功函数比ITO高，因此还能够不进行因氧离子或电子的照射导致的表面改性的方式使用。在此，在本专利技术的层叠反射电极膜中，优选将所述透明导电氧化物膜中所包含的所有金属元素的原子比例设为：Ga为0.5原子％以上且30.0原子％以下，Sn、Y及Ti分别为0.1原子％以上且10.0原子％以下，剩余部分为Zn。在该情况下，将透明导电氧化物膜中所包含的所有金属元素中的Ga的含量设在0.5原子％以上且30.0原子％以下的范围内，因此能够抑制电阻的增加，并且能够提高Ag膜和透明导电氧化物膜的密合性。并且，Sn、Y及Ti的总量分别设在0.1原子％以上且10.0原子％以下的范围内，因此能够抑制电阻的增加，并且能够提高耐碱性及耐环境性。另外，Y的提高耐碱性的效果更大，因此更优选包含于透明导电氧化物膜13中。并且，在本专利技术的层叠反射电极膜中，更优选将所述透明导电氧化物膜中所包含的所有金属元素的原子比例设为：Ga为0.5原子％以上且18.0原子％以下，Sn、Y及Ti分别为0.1原子％以上且10.0原子％以下，剩余部分为Zn。在该情况下，将透明导电氧化物膜中所包含的所有金属元素中的Ga的含量设在0.5原子％以上且18.0原子％以下的范围内，因此能够进一步抑制电阻的增加，并且能够进一步提高Ag膜和透明导电氧化物膜的密合性。并且，Sn、Y及Ti的总量分别设在0.1原子％以上且10.0原子％以下的范围内，因此能够抑制电阻的增加，并且能够提高耐碱性及耐环境性。而且，在本专利技术的层叠反射电极膜中，进一步优选将所述透明导电氧化物膜中所包含的所有金属元素的原子比例设为：Ga为0.5原子％以上且14.0原子％本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种层叠反射电极膜，其特征在于，具有：Ag膜，由Ag或Ag合金构成；及透明导电氧化物膜，配置于所述Ag膜上，所述透明导电氧化物膜由氧化物构成，所述氧化物包含Zn和Ga，还包含Sn、Y及Ti中的一种或两种以上。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2016.03.23 JP 2016-059097;2017.02.13 JP 2017-024261.一种层叠反射电极膜，其特征在于，具有：Ag膜，由Ag或Ag合金构成；及透明导电氧化物膜，配置于所述Ag膜上，所述透明导电氧化物膜由氧化物构成，所述氧化物包含Zn和Ga，还包含Sn、Y及Ti中的一种或两种以上。2.根据权利要求1所述的层叠反射电极膜，其特征在于，将所述透明导电氧化物膜中所包含的所有金属元素的原子比例设为：Ga为0.5原子％以上且30.0原子％以下，Sn、Y及Ti分别为0.1原子％以上且10.0原子％以下，剩余部分为Zn。3.根据权利要求2所述的层叠反射电极膜，其特征在于，将所述透明导电氧化物膜中所包含的所有金属元素的原子比例设为：Ga为0.5原子％以上且18.0原子％以下，Sn、Y及Ti分别为0.1原子％以上且10.0原子％以下，剩余部分为Zn。4.根据权利要求3所述的层叠反射电极膜，其特征在于，将所述透明导电氧化物膜中所包含的所有金属元素的原子比例设为：Ga为0.5原子％以上且14.0原子％以下，Sn、Y及Ti分别为0.1原子％以上且10.0原子％以下，剩余部分为Zn。5.根据权利要求1至4中任一项所述的层叠反射电极膜，其特征在于，在所述透明导电氧化物膜中包含Y。6.根据权利要求1至5中任一项所述的层叠反射电极膜，其特征在于，所述Ag膜由Ag合金构成...

【专利技术属性】
技术研发人员：中泽弘实，石井博，岁森悠人，斋藤淳，林雄二郎，
申请(专利权)人：三菱综合材料株式会社，
类型：发明
国别省市：日本,JP