层叠透明导电膜、层叠布线膜及层叠布线膜的制造方法技术

技术编号:19562532 阅读:35 留言:0更新日期:2018-11-25 00:42
本发明专利技术的层叠透明导电膜具有由Ag或Ag合金构成的Ag膜及配置于所述Ag膜的双面的透明导电氧化物膜,所述透明导电氧化物膜由包含Zn、Ga及Ti的氧化物形成。

Manufacturing method of laminated transparent conductive film, laminated wiring film and laminated wiring film

The laminated transparent conductive film of the invention has an Ag film composed of Ag or Ag alloy and a transparent conductive oxide film arranged on both sides of the Ag film, which is formed by oxides containing Zn, Ga and Ti.

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】层叠透明导电膜、层叠布线膜及层叠布线膜的制造方法
本专利技术涉及一种能够用作例如显示器或者触摸面板等透明电极膜的层叠透明导电膜、由该层叠透明导电膜构成的层叠布线膜及层叠布线膜的制造方法。本申请主张基于2016年3月23日于日本申请的专利申请2016-058937号及2017年2月13日于日本申请的专利申请2017-024386号的优先权,并将其内容援用于此。
技术介绍
在液晶显示器、有机EL(电致发光)显示器及触摸面板等中,作为透明电极膜,例如提供一种如专利文献1~4中所示的透明导电膜。在该透明导电膜中,要求可见光区域的光的透射率高,并且电阻低。在此,在专利文献1中,作为透明导电膜,使用由作为透明导电氧化物的一种的ITO(In2O3+Sn)构成的ITO膜,但是在该ITO膜中,为了降低电阻,需要将膜厚形成为较厚,因此导致可见光区域的透射率下降。由此,不易兼顾高透射率和低电阻。并且,在专利文献2中,使用了Cu等的金属网格材料,但是在该金属网格材料中,为了降低电阻,需要扩大金属部分的宽度,仍然存在导致透射率下降的问题。并且,有可能通过光的反射而视觉辨认金属网格材料,因此需要在金属网格材料的本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种层叠透明导电膜,其特征在于,具有由Ag或Ag合金构成的Ag膜及配置于所述Ag膜的双面的透明导电氧化物膜,所述透明导电氧化物膜由包含Zn、Ga及Ti的氧化物形成。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2016.03.23 JP 2016-058937;2017.02.13 JP 2017-024381.一种层叠透明导电膜,其特征在于,具有由Ag或Ag合金构成的Ag膜及配置于所述Ag膜的双面的透明导电氧化物膜,所述透明导电氧化物膜由包含Zn、Ga及Ti的氧化物形成。2.根据权利要求1所述的层叠透明导电膜,其特征在于,将所述透明导电氧化物膜中所包含的所有金属元素的原子比例设为:Ga为0.5原子%以上且30.0原子%以下、Ti为0.1原子%以上且10.0原子%以下、剩余部分为Zn。3.根据权利要求2所述的层叠透明导电膜,其特征在于,将所述透明导电氧化物膜中所包含的所有金属元素的原子比例设为:Ga为0.5原子%以上且18.0原子%以下、Ti为0.1原子%以上且10.0原子%以下、剩余部分为Zn。4.根据权利要求3所述的层叠透明导电膜,其特征在于,将所述透明导电氧化物膜中所包含的所有金属元素的原子比例设为:Ga为0.5原子%以上且14.0原子%以下、Ti为0.1原子%以上且10.0原子%以下、剩余部分为Zn。5.根据权利要求1所述的层叠透明导电膜,其特征在于,形成所述透明导电氧化物膜的氧化物还包含Y。6.根据权利要求5所述的层叠透明导电膜,其特征在于,将所述透明导电氧化物膜中所包含的所有金属元素的原子比例设为:Ga为0.5原子%以上且30.0原子%以下、Ti为0.1原子%以上且10.0原子%以下、Y为0.1原子%以上且10.0原子%以下、剩余部分为Zn。7.根据权利要求1至6中任一项所述的层叠透明导...

【专利技术属性】
技术研发人员:中泽弘实石井博岁森悠人斋藤淳林雄二郎
申请(专利权)人:三菱综合材料株式会社
类型:发明
国别省市:日本,JP

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