含乙烯基的芴系化合物制造技术

提供新型的含乙烯基的芴系化合物及其制造方法、包含所述化合物的聚合性单体和交联剂、含离去基团的芴系化合物、含单乙烯基的芴系化合物及其制造方法、含单乙烯基和单(甲基)丙烯酰氧基的芴系化合物、以及含(甲基)丙烯酰氧基的芴系化合物及其制造方法。本发明专利技术所涉及的含乙烯基的芴系化合物如式(1)所示(式中，W

【技术实现步骤摘要】
含乙烯基的芴系化合物本申请是分案申请，其母案申请的申请号：201480018921.9，申请日：2014.3.28，专利技术名称：含乙烯基的芴系化合物。
本专利技术涉及含乙烯基的芴系化合物、包含所述含乙烯基的芴系化合物的聚合性单体、包含所述含乙烯基的芴系化合物的交联剂、所述含乙烯基的芴系化合物的制造方法、含离去基团的芴系化合物、含单乙烯基的芴系化合物的制造方法、含单乙烯基的芴系化合物、含单乙烯基和单(甲基)丙烯酰氧基的芴系化合物、以及含(甲基)丙烯酰氧基的芴系化合物及其制造方法。
技术介绍
已知具有芴骨架(9，9－二苯基芴骨架等)的化合物在透光率、折射率等光学特性、耐热性等热特性方面具有优异的性能。因此，具有芴骨架的化合物用作以下光学部件的原料：透镜、棱镜、滤波器、图像显示材料、光盘用基板、光纤、光波导、壳体材料、膜、涂层材料等。作为具有这样的芴骨架的化合物，例如可举出专利文献1中公开的化合物。现有技术文献专利文献专利文献1:日本特开2011－201791号公报
技术实现思路
专利技术要解决的问题本专利技术的目的在于提供新型的含乙烯基的芴系化合物、包含上述含乙烯基的芴系化合物的聚合性单体、包含上述芴系化合物的交联剂、上述含乙烯基的芴系化合物的制造方法、含离去基团的芴系化合物、含单乙烯基的芴系化合物的制造方法、含单乙烯基的芴系化合物、含单乙烯基和单(甲基)丙烯酰氧基的芴系化合物、以及含(甲基)丙烯酰氧基的芴系化合物及其制造方法。解决问题的手段本专利技术人等为了解决上述课题反复进行了深入研究。结果发现了新型的含乙烯基的芴系化合物，从而完成了本专利技术。具体而言，本专利技术提供如下内容。本专利技术的第一方式是下述通式(1)所示的含乙烯基的芴系化合物。[化1](式中，W1和W2独立地表示下述通式(2)所示基团、下述通式(4)所示基团、羟基或(甲基)丙烯酰氧基，但是，W1和W2不能同时为羟基或下述通式(4)所示基团，R3a和R3b独立地表示氰基、卤素原子或一价烃基，n1和n2独立地表示0～4的整数。)[化2](式中，环Z表示芳香族烃环；X表示单键或以－S－表示的基团；R1表示单键或碳原子数1～4的亚烷基；R2表示一价烃基、羟基、以－OR4a表示的基团、以－SR4b表示的基团、酰基、烷氧羰基、卤素原子、硝基、氰基、巯基、羧基、氨基、氨甲酰基、以－NHR4c表示的基团、以－N(R4d)2表示的基团、(甲基)丙烯酰氧基、磺基，或者与在一价烃基、以－OR4a表示的基团、以－SR4b表示的基团、酰基、烷氧羰基、以－NHR4c表示的基团、或以－N(R4d)2表示的基团中含有的碳原子相键合的氢原子的至少一部分被一价烃基、羟基、以－OR4a表示的基团、以－SR4b表示的基团、酰基、烷氧羰基、卤素原子、硝基、氰基、巯基、羧基、氨基、氨甲酰基、以－NHR4c表示的基团、以－N(R4d)2表示的基团、(甲基)丙烯酰氧基、甲磺酰氧基、或磺基所取代而成的基团；R4a～R4d独立地表示一价烃基；m表示0以上的整数。)[化3](式中，环Z、X、R1、R2和m如上所述。)本专利技术的第二方式是包含上述含乙烯基的芴系化合物的聚合性单体。本专利技术的第三方式是包含上述含乙烯基的芴系化合物的交联剂，其中W1和W2独立地表示如上述通式(2)所示基团或(甲基)丙烯酰氧基。本专利技术的第四方式是含乙烯基的芴系化合物的制造方法，其特征在于，由下述通式(3)所示的含羟基的芴系化合物，经过下述通式(5)所示的含离去基团的芴系化合物，得到下述通式(1a)所示的含乙烯基的芴系化合物。[化4](式中，W3和W4独立地表示上述通式(4)所示基团或羟基，但是，W3和W4不能同时为羟基，R3a、R3b、n1和n2如上所述。)[化5](式中，W5和W6独立地表示下述通式(6)所示基团或羟基，但是，W5和W6不能同时为羟基，R3a、R3b、n1和n2如上所述。)[化6](式中，E表示氯原子、溴原子、碘原子、甲磺酰氧基、三氟甲磺酰氧基、对甲苯磺酰氧基、或者以苯磺酰氧基取代的碳原子数1～4的烷氧基，环Z、X、R1、R2和m如上所述。)[化7](式中，W1a和W2a独立地表示上述通式(2)所示基团、上述通式(4)所示基团、羟基或(甲基)丙烯酰氧基，但是，W1a和W2a不能同时为羟基或上述通式(4)所示基团或(甲基)丙烯酰氧基，R3a、R3b、n1和n2如上所述。)本专利技术的第五方式是上述通式(5)所示的含离去基团的芴系化合物。本专利技术的第六方式是含乙烯基的芴系化合物的制造方法，其特征在于，由下述通式(7)所示的含羟烷氧基的芴系化合物，经过上述通式(5)所示的含离去基团的芴系化合物，得到上述通式(1a)所示的含乙烯基的芴系化合物。[化8](式中，W7和W8独立地表示下述通式(8)所示基团或羟基，但是，W7和W8不能同时为羟基，R3a、R3b、n1和n2如上所述。)[化9](式中，l表示1～4的整数，环Z、X、R1、R2和m如上所述。)本专利技术的第七方式是含单乙烯基的芴系化合物的制造方法，其特征在于，由下述通式(5a)所示的含离去基团的芴系化合物得到下述通式(9)所示的含单乙烯基的芴系化合物。[化10](式中，W5a和W6a表示上述通式(6)所示基团，R3a、R3b、n1和n2如上所述。)[化11](式中，W9和W10中任一个表示上述通式(2)所示基团，另外一个表示上述通式(6)所示基团，R3a、R3b、n1和n2如上所述。)本专利技术的第八方式是上述通式(9)所示的含单乙烯基的芴系化合物。本专利技术的第九方式是下述通式(10)所示的含单乙烯基和单(甲基)丙烯酰氧基的芴系化合物。[化12](式中，W11和W12中任一个表示上述通式(2)所示基团，另一个表示下述通式(11)或(12)所示基团，R3a和R3b独立地表示氰基、卤素原子或一价烃基，n1和n2独立地表示0～4的整数。)[化13](式中，R5表示氢原子或甲基，环Z、X、R1、R2、m和l如上所述。)[化14](式中，环Z、X、R1、R2、R5和m如上所述。)本专利技术的第十方式是下述通式(19)所示的含(甲基)丙烯酰氧基的芴系化合物。[化15](式中，W13和W14独立地表示上述通式(12)所示基团、羟基或(甲基)丙烯酰氧基，但是，W13和W14中至少一个是上述通式(12)所示基团，R3a、R3b、n1和n2如上所述。)本专利技术的第十一方式是含(甲基)丙烯酰氧基的芴系化合物的制造方法，其特征在于，由上述通式(3)所示的含羟基的芴系化合物得到上述通式(19)所示的含(甲基)丙烯酰氧基的芴系化合物。专利技术效果根据本专利技术，能够提供新型的含乙烯基的芴系化合物、包含上述含乙烯基的芴系化合物的聚合性单体、包含上述芴系化合物的交联剂、上述含乙烯基的芴系化合物的制造方法、含离去基团的芴系化合物、含单乙烯基的芴系化合物的制造方法、含单乙烯基的芴系化合物、含单乙烯基和单(甲基)丙烯酰氧基的芴系化合物、以及含(甲基)丙烯酰氧基的芴系化合物及其制造方法。具体实施方式《通式(1)所示的含乙烯基的芴系化合物》本专利技术所涉及的含乙烯基的芴系化合物是下述通式(1)所示化合物。[化16]上述通式(1)中，W1和W2独立地表示下述通式(2)所示基团、下述通式(4)所示基团、羟基或(甲基)丙烯酰氧基，但是，W1和W2不能同时本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种下述通式(19)所示的含(甲基)丙烯酰氧基的芴系化合物，

【技术特征摘要】
2013.03.29 JP 2013-0753951.一种下述通式(19)所示的含(甲基)丙烯酰氧基的芴系化合物，式中，W13和W14独立地表示下述通式(12)所示基团、羟基或(甲基)丙烯酰氧基，但是，W13和W14中至少一个是下述通式(12)所示基团，R3a和R3b独立地表示氰基、卤素原子或一价烃基，n1和n2独立地表示0～4的整数；式中，环Z表示稠合多环式芳香族烃环；X表示单键或以－S－表示的基团；R1表示单键或碳原子数1～4的亚烷基；R2表示一价烃基、羟基、以－OR4a表示的基团、以－SR4b表示的基团、酰基、烷氧羰基、卤素原子、硝基、氰基、巯基、羧基、氨基、氨甲酰基、以－NHR4c表示的基团、以－N(R4d)2表示的基团、(甲基)丙烯酰氧基、磺基，或者与在一价烃基、以－OR4a表示的基团、以－SR4b表示的基团、酰基、烷氧羰基、以－NHR4c表示的基团、或以－N(R4d)2表示的基团中含有的碳原子相键合的氢原子的至少一部分被一价烃基、羟基、以－OR4a表示的基团、以－SR4b表示的基团、酰基、烷氧羰基、卤素原子、硝基、氰基、巯基、羧基、氨基、氨甲酰基、以－NHR4c表示的基团、以－N(R4d)2表示的基团、(甲基)丙烯酰氧基、甲磺酰氧基、或磺基所取代而成的基团；R4a～R4d独立地表示一价烃基；R5表示氢原子或甲基；m表示0以上的整数。2.如权利要求1所述的含(甲基)丙烯酰氧基的芴系化合物，其中，环Z是萘环。3.如权利要求1或2所述的含(甲基)丙烯酰氧基的芴系化合物，其中，R1是单键。4.一种含(甲基)丙烯酰氧基的芴系化合物的制造方法，其特征在于，由下述通式(3)所示的含羟基...

【专利技术属性】
技术研发人员：盐田大，野田国宏，千坂博树，赤井泰之，高濑一郎，楢崎美也，谷田大辅，北尾久平，
申请(专利权)人：东京应化工业株式会社，株式会社大赛璐，
类型：发明
国别省市：日本,JP