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一种西瓜苗组培方法技术

技术编号:19534069 阅读:57 留言:0更新日期:2018-11-24 14:11
本发明专利技术提供一种西瓜苗组培方法,通过诱导培养、增殖培养、生根培养等步骤,选用西瓜茎段为外植体,成活率高、产量高。选用了特定的培养基对促进幼苗生长非常有利,叶片净增量、发根数和鲜重净增量高。经过组培试验,增殖率可达7倍以上。通过组织培养的方式,建立西瓜幼苗的快繁体系,在保留优良性状的同时,提高了西瓜的繁殖速度。

【技术实现步骤摘要】
一种西瓜苗组培方法
本专利技术属于植物组培领域,具体涉及一种西瓜苗组培方法。
技术介绍
西瓜(学名:Citrulluslanatus(Thunb.)Matsum.etNakai)一年生蔓生藤本;茎、枝粗壮,具明显的棱。卷须较粗壮,具短柔毛,叶柄粗,密被柔毛;叶片纸质,轮廓三角状卵形,带白绿色,两面具短硬毛,叶片基部心形。果实大型,近于球形或椭圆形,肉质,多汁,果皮光滑,色泽及纹饰各式。种子多数,卵形,黑色、红色,两面平滑,基部钝圆,通常边缘稍拱起,花果期夏季。中国各地栽培,品种甚多,外果皮、果肉及种子形式多样,以新疆、甘肃兰州、山东德州、江苏东台等地最为有名。其原种可能来自非洲,久已广泛栽培于世界热带到温带,金、元时始传入中国。西瓜为夏季之水果,果肉味甜,能降温去暑;种子含油,可作消遣食品;果皮药用,有清热、利尿、降血压之效。西瓜属于大众水果具有很高的经济价值,但是目前国内的西瓜都是零星种植,没有形成一定的规模,来源不广,若通过种子繁殖,性状分离明显,优良性状不易保持,通过扦插、分蘖的方式繁殖,繁殖系数低,速度慢,很难满足生产需要。通过组织培养的方式,建立西瓜幼苗的快繁体系,在保留优良性状的同时,提高了西瓜的繁殖速度。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种西瓜苗组培方法,该培养方法具有优异的成活率以及繁殖率。为实现上述目的,本专利技术采用如下技术方案:一种西瓜苗组培方法,包括如下步骤:(1)选择长势良好、无病虫害、无畸形的西瓜植株,取其茎段为外植体,在75%乙醇中浸泡30s,在于0.05%氯化汞中浸泡1min,然后用无菌水漂洗3-5次,接种于诱导培养基中进行诱导培养,在23-25℃下培养1-2周,光照强度为1000-1500LX,避免直射,光照时间为8-10h/天;(2)将步骤(1)获得的不定芽切成2cm的小段,选取2-3个小段接种在增殖培养基上,培养2-3周;培养温度为20-25℃,光照强度为1500-2000LX,避免直射,光照时间为12h/天;(3)当苗长到6cm时,将苗切成单株,接种到生根培养基上,光照强度为2000-2200LX,光照时间为10-12h/天,培养温度为20-25℃;(4)当根长培养到2-4cm时,进行驯化移栽,将含有培养基的西瓜苗整个移至大棚内炼苗3天,洗去培养基,将西瓜苗移栽至有遮阴棚的基质中栽培,温度为20-25℃,自然光,基质要求疏松透气。所述的诱导培养基为MS+绿茶粉2-4g/L+TDZ0.5-1mg/L+IBA0.5-1mg/L。所述的增殖培养基为MS+NAA0.2-0.6mg/L+TDZ0.3-0.6mg/L+BA0.1-0.3mg/L+0.3~谷氨酰胺0.5mg/L+葡萄糖4-10g/L+琼脂粉3-4g/L。所述的生根培养基为1/2MS+多效唑0.1-0.2mg/L+IBA0.2-0.5mg/L+赤霉素0.1-0.2mg/L+椰汁1-2g/L+竹黄酮2-3g/L+琼脂3-5g/L+白糖1-3g/L。所述基质由以下重量份原料组成:麸皮10-15份、山竹壳粉3-6份、腐殖土3-6份、泥炭3-6份、田园土5-10份、芒果皮2-5份、苹果皮2-5份。本专利技术的优点在于:1.本专利技术选用西瓜茎段作为外植体,采用特定的诱导培养基、增殖培养、生根培养基和基质共同培养作用,获得的西瓜幼苗成活率高,增殖率高,在培养基中增加绿茶粉不仅有助于金西瓜苗的组织诱导培养,还起到抑菌的作用,避免西瓜苗在培养过程中受到病菌感染而死亡。2.在基质中加入麸皮、山竹壳粉、腐殖土、泥炭、田园土、芒果皮、苹果皮等成分对于促进幼苗生长非常有利,降低发病率,叶片净增量、发根数和鲜重净增量高。3.经过组培试验,增殖率可达7倍以上,成活率100%;与现有技术相比,本专利技术的西瓜苗组培方法,其可显著增强西瓜幼苗的根系发达程度,进而提高移栽的成活率和快速生长概率,实用性强。具体实施方式实施例1一种西瓜苗组培方法,包括如下步骤:(1)选择长势良好、无病虫害、无畸形的西瓜植株,取其茎段为外植体,在75%乙醇中浸泡30s,在于0.05%氯化汞中浸泡1min,然后用无菌水漂洗4次,接种于诱导培养基中进行诱导培养,在24℃下培养1周,光照强度为1200LX,避免直射,光照时间为9h/天;(2)将步骤(1)获得的不定芽切成2cm的小段,选取3个小段接种在增殖培养基上,培养3周;培养温度为24℃,光照强度为1800LX,避免直射,光照时间为12h/天;(3)当苗长到6cm时,将苗切成单株,接种到生根培养基上,光照强度为2000LX,光照时间为11h/天,培养温度为24℃;(4)当根长培养到3cm时,进行驯化移栽,将含有培养基的西瓜苗整个移至大棚内炼苗3天,洗去培养基,将西瓜苗移栽至有遮阴棚的基质中栽培,温度为24℃,自然光,基质要求疏松透气。所述的诱导培养基为MS+绿茶粉3g/L+TDZ0.6mg/L+IBA0.6mg/L。所述的增殖培养基为MS+NAA0.4mg/L+TDZ0.5mg/L+BA0.2mg/L+谷氨酰胺0.4mg/L+葡萄糖7g/L+琼脂粉3g/L。所述的生根培养基为1/2MS+多效唑0.1mg/L+IBA0.4mg/L+赤霉素0.1mg/L+椰汁1g/L+竹黄酮2g/L+琼脂4g/L+白糖2g/L。所述基质由以下重量份原料组成:麸皮13份、山竹壳粉5份、腐殖土4份、泥炭4份、田园土7份、芒果皮3份、苹果皮3份。采用本专利技术方法进行西瓜苗组织培养,可使工作效率提高,植株长势良好,苗发病率在0.1%以下,成苗率达100%,增殖率可达8倍,生产成本可减少50%以上。实施例2一种西瓜苗组培方法,包括如下步骤:(1)选择长势良好、无病虫害、无畸形的西瓜植株,取其茎段为外植体,在75%乙醇中浸泡30s,在于0.05%氯化汞中浸泡1min,然后用无菌水漂洗3次,接种于诱导培养基中进行诱导培养,在23℃下培养2周天,光照强度为1000LX,避免直射,光照时间为8h/天;(2)将步骤(1)获得的不定芽切成2cm的小段,选取2个小段接种在增殖培养基上,培养2周;培养温度为20℃,光照强度为1500LX,避免直射,光照时间为12h/天;(3)当苗长到6cm时,将苗切成单株,接种到生根培养基上,光照强度为2000LX,光照时间为10h/天,培养温度为20℃;(4)当根长培养到2cm时,进行驯化移栽,将含有培养基的西瓜苗整个移至大棚内炼苗3天,洗去培养基,将西瓜苗移栽至有遮阴棚的基质中栽培,温度为20℃,自然光,基质要求疏松透气。所述的诱导培养基为MS+绿茶粉2g/L+TDZ0.5mg/L+IBA0.5mg/L。所述的增殖培养基为MS+NAA0.2mg/L+TDZ0.3mg/L+BA0.1mg/L+谷氨酰胺0.3mg/L+葡萄糖4g/L+琼脂粉3g/L。所述的生根培养基为1/2MS+多效唑0.1mg/L+IBA0.2mg/L+赤霉素0.1mg/L+椰汁1g/L+竹黄酮2g/L+琼脂3g/L+白糖1g/L。所述基质由以下重量份原料组成:麸皮10份、山竹壳粉3份、腐殖土3份、泥炭3份、田园土5份、芒果皮2份、苹果皮2份。采用本专利技术方法进行西瓜苗组织培养,可使工作效率提高,植株长势良好,苗发病率在0.5%以下,成苗率达99.9%,增殖率可达7倍,本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种西瓜苗组培方法,其特征在于:包括如下步骤:(1)选择长势良好、无病虫害、无畸形的西瓜植株,取其茎段为外植体,在75%乙醇中浸泡30s,在于0.05%氯化汞中浸泡1min,然后用无菌水漂洗3‑5次,接种于诱导培养基中进行诱导培养,在23‑25℃下培养1‑2周,光照强度为1000‑1500LX,避免直射,光照时间为8‑10h/天;(2)将步骤(1)获得的不定芽切成2cm的小段,选取2‑3个小段接种在增殖培养基上,培养2‑3周;培养温度为20‑25℃,光照强度为1500‑2000LX,避免直射,光照时间为12h/天;(3)当苗长到6cm时,将苗切成单株,接种到生根培养基上,光照强度为2000‑2200LX,光照时间为10‑12h/天,培养温度为20‑25℃;(4)当根长培养到2‑4cm时,进行驯化移栽,将含有培养基的西瓜苗整个移至大棚内炼苗3天,洗去培养基,将西瓜苗移栽至有遮阴棚的基质中栽培,温度为20‑25℃,自然光,基质要求疏松透气。

【技术特征摘要】
1.一种西瓜苗组培方法,其特征在于:包括如下步骤:(1)选择长势良好、无病虫害、无畸形的西瓜植株,取其茎段为外植体,在75%乙醇中浸泡30s,在于0.05%氯化汞中浸泡1min,然后用无菌水漂洗3-5次,接种于诱导培养基中进行诱导培养,在23-25℃下培养1-2周,光照强度为1000-1500LX,避免直射,光照时间为8-10h/天;(2)将步骤(1)获得的不定芽切成2cm的小段,选取2-3个小段接种在增殖培养基上,培养2-3周;培养温度为20-25℃,光照强度为1500-2000LX,避免直射,光照时间为12h/天;(3)当苗长到6cm时,将苗切成单株,接种到生根培养基上,光照强度为2000-2200LX,光照时间为10-12h/天,培养温度为20-25℃;(4)当根长培养到2-4cm时,进行驯化移栽,将含有培养基的西瓜苗整个移至大棚内炼苗3天,洗去培养基,将西瓜苗移栽至有遮阴棚的基质中栽培,温度为20-25℃,自然光,基质要求疏松透...

【专利技术属性】
技术研发人员:谢章春
申请(专利权)人:谢章春
类型:发明
国别省市:福建,35

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